专利查询
首页
专利评估
登录
注册
中国科学院半导体研究所专利技术
中国科学院半导体研究所共有5962项专利
利用准分子激光退火制作SiGe或Ge量子点的方法技术
一种利用准分子激光退火制作SiGe或Ge量子点的方法,其特征在于,量子点制作步骤如下:步骤1:取一衬底;步骤2:在衬底上生长SiGe或者Ge的外延层;步骤3:用激光对外延层进行退火处理,在外延层上得到SiGe或Ge量子点。
在金属衬底上生长ZnO薄膜的方法技术
一种在金属衬底上生长ZnO薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1:取一金属衬底;步骤2:对金属衬底进行抛光,以获得较光滑的表面;步骤3:将抛光后的金属衬底表面清洗干净;步骤4:将清洗干净的金属衬底放入生长设备中,在金属衬底上生长缓...
在Si衬底上生长ZnO薄膜的方法技术
一种在Si衬底上生长ZnO薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1:利用化学清洗方法将Si衬底表面清洗干净,并利用氢氟酸刻蚀法去除其表面的氧化层;步骤2:将处理干净的Si衬底放入沉积设备中,蒸发一层金属缓冲层;步骤3:将覆盖金属缓冲...
锗/硅混合集成的波导型光电转换器及其制造方法技术
本发明涉及光电转换器技术领域,公开了一种Ge/Si混合集成的波导型光电转换器,Ge/Si混合集成的波导型光电转换器由一Si基SOI波导(3)和一Ge基横向p-i-n结构倒装焊接而成,其中Ge横向p-i-n结构是由波导本征区(4),和波导...
全硅波导型光电转换器及其制造方法技术
本发明涉及光电转换器技术领域,公开了一种与互补式金属-氧化层-半导体(CMOS)工艺兼容的1.55波段全硅波导型光电转换器件,其中光吸收是通过Si离子注入Si后形成络合物深能级缺陷来进行的,从而突破Si光电子器件所受1.12eV禁带宽度...
氮化镓基高电子迁移率晶体管结构制造技术
一种氮化镓基高电子迁移率晶体管结构,包括:一衬底;一低温成核层制作在衬底的上面;一氮化镓高阻层制作在低温成核层的上面;一铟镓氮插入层制作在氮化镓高阻层的上面;一低温氮化镓隔离层制作在铟镓氮插入层的上面;一高迁移率氮化镓层制作在低温氮化镓...
有机-无机复合发光二极管及其制作方法技术
一种有机-无机复合发光二极管,包括:一带有透明阳极的衬底;一空穴注入层,该空穴注入层沉积在带有透明阳极的衬底上;一有机空穴传输层,该有机空穴传输层沉积在空穴注入层上;一有机发光层,该有机发光层沉积在有机空穴传输层上;一有机电子传输层,该...
图形衬底上生长碳化硅厚膜的方法技术
本发明是一种在图形衬底上生长碳化硅(SiC)厚膜的方法。该方法通过采用光刻技术在硅衬底上获得图形,掩模版图形为平行长条状或正方形台面或它们的组合图形;然后在该图形化的硅衬底上采用化学气相沉积方法生长碳化硅厚膜。该发明生长的碳化硅膜在垂直...
一种立方氮化硼薄膜n型掺杂的方法技术
本发明是一种立方氮化硼(c-BN)薄膜n型掺杂的方法,该方法具体包括首先利用离子束辅助沉积(Ion Beam Assisted Depostion,IBAD)方法制备高质量的c-BN薄膜,然后依次注入不同能量(50,80及100keV)...
改进的部分耗尽绝缘体上硅静态随机存储器存储单元制造技术
本发明一种改进的形成于部分耗尽SOI衬底上的静态随机存储器的存储单元,涉及静态随机存储器技术,该SRAM单元包含六只晶体管,即第一、第二存取NMOS晶体管,第一、第二驱动NMOS晶体管,第一、第二负载PMOS晶体管。在进行体区接触处理时...
一种增强氧化锌薄膜蓝光发射的方法技术
本发明一种增强氧化锌(ZnO)薄膜蓝光发射的方法,涉及半导体技术,该方法制备ZnO/Ag复合结构薄膜,利用Ag表面等离激元与ZnO带间发射间的共振耦合,使ZnO带间辐射复合速率加快;同时借助具有一定粗糙度的Ag薄膜表面将等离激元耦合成光...
一种有机电致发光二极管制造技术
本发明是一种采用活泼金属掺杂有机空穴注入材料作为电子注入层的有机发光二极管。本发明所涉及的有机发光二极管结构为一个透明阳极、一个有机空穴注入层、一个有机空穴传输层、一个有机发光层、一个有机电子注入层以及一个阴极106组成。本发明所涉及的...
一种氮化物薄膜外延生长的方法技术
本发明是一种氮化物薄膜外延生长的方法,其包含下列步骤:首先直接升高衬底的温度到氮化物薄膜的生长温度;接着在生长初期,通过生长设备的计算机程序控制氨气(NH↓[3])和Ⅲ族源材料的输入开关,使氨气(NH↓[3])和Ⅲ族源材料交替脉冲地输入...
在锑化镓衬底上生长InAsxSb1-x薄膜的方法技术
为使GaSb基InAs↓[x]Sb↓[1-x]材料实际应用到长波长红外探测器中,本发明提供一种在GaSb衬底上生长InAs↓[x]Sb↓[1-x]薄膜的液相外延生长工艺,其主要特征为用原子数比In∶Sb∶As=1∶y∶(1-y)的源熔体...
一种近红外单光子探测器制造技术
本发明是一种近红外单光子探测器。所述探测器包括:衬底,缓冲层,N型欧姆接触层,超晶格倍增层,电场控制层,带隙渐变层和光吸收层。通过引入超晶格结构,以及吸收层渐变结构达到提高探测器的性能,特别在探测器的探测频率、噪声影响都有极大的改善,能...
一种采用CMOS工艺制作的差分硅光电探测器制造技术
本发明提出一种采用CMOS集成电路工艺制作的差分硅光电探测器,包括:一个衬底(16);第一、二、三、四、五、六个阱(10),所述阱等间距地制作在所述衬底上;第一、二、三、四、五、六个扩散区(11),所述六个扩散区分别制作在所述六个阱的正...
一种硅的光传感器制造技术
本实用新型公开了一种集成硅光电池的光传感器芯片结构,它的每一单元P-n结硅光电池均设置在一个无绝缘层复盖的沟槽网格内。采用这样的结构能够显著提高产品的性能与合格率。
一种基于多晶镓砷薄膜的有机无机复合太阳能电池制造技术
本发明是一种基于多晶镓砷薄膜的有机无机复合太阳能电池。包括:一沉积在玻璃衬底上的透明阳极(101);一沉积在阳极上的多晶镓砷薄膜(102);一沉积在多晶镓砷薄膜层上的有机电子受体层(103);一沉积在有机电子受体层上的电子阻挡层(104...
一种氮化物材料的外延方法技术
本发明是一种高性能氮化物材料的低成本外延方法。包括:采用图形衬底或者应力释放层作为衬底;采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)模式生长成核层;采用氢化物气相外延(HVPE)模式生长铝镓铟氮(AlGaIn)N缓冲层;采用金属有机物化学气...
基于标准CMOS工艺的积分电容及其制作方法技术
本发明公开了一种基于标准CMOS工艺的积分电容及其制作方法,该积分电容包括:一P型硅衬底(1);一位于该P型硅衬底(1)上的下电极板(2);一位于该下电极板(2)上的栅氧化层(3);两个位于该下电极板(2)上且在该栅氧化层(3)两侧的N...
首页
<<
271
272
273
274
275
276
277
>>
尾页
科研机构数量排行前10
华为技术有限公司
133943
珠海格力电器股份有限公司
99092
中国石油化工股份有限公司
87105
浙江大学
81097
三星电子株式会社
68153
中兴通讯股份有限公司
67281
国家电网公司
59735
清华大学
56382
腾讯科技深圳有限公司
54182
华南理工大学
51641
最新更新发明人
山东科技大学
23543
中国电力工程顾问集团西北电力设计院有限公司
1199
淮安宏振智能装备有限公司
16
中国科学院合肥物质科学研究院
8303
杭州瑞盟科技股份有限公司
70
成都瀚联九霄科技有限公司
12
重庆电子科技职业大学
309
中国矿业大学
23793
哈尔滨工业大学
43831
上海交通大学医学院附属第九人民医院
4534