专利查询
首页
专利评估
登录
注册
中国科学院半导体研究所专利技术
中国科学院半导体研究所共有5962项专利
集成泵浦光源的长波长垂直腔面发射激光器及制作方法技术
一种集成泵浦光源的长波长垂直腔面发射激光器,包括:一衬底;一下布拉格反射镜制作在衬底上;一下限制层制作在下布拉格反射镜上;一下波导层制作在下限制层上,该下波导层是带隙波长为1.2微米的铟镓砷磷材料;一有源区制作在下波导层上;一上波导层制...
大功率650nm量子阱半导体激光器及其制作方法技术
一种大功率650nm量子阱半导体激光器的制作方法,包括如下步骤:(1)激光器一次外延:在衬底上依次外延生长缓冲层、N型包层、有源区、第一P型包层、腐蚀阻挡层、第一P型包层和GaAs保护层;(2)制作脊形波导:在GaAs保护层中间光刻出一...
太赫兹量子级联半导体激光器材料及其生长方法技术
一种太赫兹量子级联半导体激光器材料的生长方法,其特征在于,包括如下生长步骤:步骤1:取一半绝缘砷化镓衬底;步骤2:利用分子束外延技术在半绝缘砷化镓衬底上生长N型砷化镓下欧姆接触层,用来制作下欧姆电极;步骤3:在下欧姆接触层上生长有源区,...
氮化镓基蓝光激光器的制作方法技术
一种氮化镓基蓝光激光器的制作方法,包括在蓝宝石衬底上依次外延生长氮化镓缓冲层、N型氮化镓层、N型覆盖层、N型波导层、有源区多量子阱层、P型波导层、P型覆盖层、P型氮化镓层,形成氮化镓激光器结构;刻蚀,形成脊型波导;制备绝缘保护层和P型电...
一种量子点材料结构及其生长方法技术
本发明公开了一种量子点材料结构,该结构包括:用于支撑整个量子点材料结构的砷化镓GaAs衬底(10);在GaAs衬底(10)上生长的外延层结构,包括缓冲层(11、12、13)和InAs量子点层(14);其中,所述缓冲层包括在衬底上依次生长...
微小孔垂直腔面发射激光器的制备方法技术
一种微小孔垂直腔面发射激光器的制备方法,包括以下步骤:步骤1:取一普通垂直腔面发射激光器,该激光器包括,N面电极、出光腔面、出光孔、P面电极;步骤2:在普通垂直腔面发射激光器的出光腔面上制备增透膜;步骤3:利用聚焦离子束刻蚀技术刻蚀掉P...
一种制作氮化镓基激光器管芯的方法技术
本发明公开了一种制作氮化镓基激光器管芯的方法,该方法包括:A.在制作的激光器外延结构的表面蒸镀P型欧姆接触电极;B.利用介质膜或光刻胶作掩膜在蒸镀了P型欧姆接触电极的激光器外延结构上刻蚀出激光器的N型接触区域;C.利用光刻胶作掩膜刻蚀出...
一微米波长THz辐射发射芯片及其制作方法技术
一种一微米波长THz辐射发射芯片,包括:一衬底;一缓冲层,该缓冲层制作在衬底上;一布拉格反射镜,该布拉格反射镜制作在缓冲层上,形成一高反射率的反射镜;多量子阱,采用低温生长技术将多对应变补偿的量子阱制作在布拉格反射镜上,该多量子阱包括多...
一种用于产生毫米波的集成芯片制造技术
本发明公开了一种用于产生毫米波的集成芯片,该集成芯片包括:第一分布反馈激光器1、第二分布反馈激光器2和3dB耦合器3,所述第一分布反馈激光器1和第二分布反馈激光器2分别集成在3dB耦合器3相互平行的双臂上,且所述第一分布反馈激光器1、第...
制备硅基带边发光以及非线性电光材料的方法技术
一种制备硅基带边发光以及非线性电光材料的方法,其中包括:步骤1:取一p-型或n-型硅基衬底;步骤2:在p-型或n-型硅基衬底表面制备一层硅基薄膜;步骤3:在硅基薄膜中形成纳米尺度硅基化合物量子点,硅基化合物量子点的尺寸小于20纳米。本发...
基于TM模激射的圆柱形结构的微盘激光器制造技术
本发明一种基于TM模激射的圆柱形结构的微盘激光器,其特征在于,该结构包括:一衬底;一下限制层,该下限制层生长或键合在衬底上,采用同种材料或晶格匹配的材料,该下限制层的上半部经刻蚀成为圆柱形结构;一有源区,该有源区制作在下限制层的上半部,...
输出波长与功率稳定的可调谐单频掺铒光纤环形腔激光器制造技术
一种输出波长与功率稳定的可调谐单频掺铒光纤环形腔激光器,包括:一掺铒光纤放大器;一偏振控制器与掺铒光纤放大器连接;一1×2的光耦合器用单模光纤与偏振控制器连接;一2×2的光耦合器用单模光纤与1×2的光耦合器连接,该2×2的光耦合器的另两...
含高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器制造技术
一种含有高掺杂隧道结的垂直腔面发射激光器,包括:一热沉;一散热片,该散热片制作在热沉上;一上N型电极,该上N型电极制作在散热片上的中间处;一上N型DBR层,该上N型DBR层为一倒梯形,该上N型DBR层制作在上N型电极上;一高铝组分氧化限...
双区分布布拉格反射镜半导体激光器结构和制备方法技术
一种双区分布布拉格反射镜半导体激光器的结构和制备方法,使用了工艺相对三区DBR-LD简单一些的双区结构,即只有增益区和光栅区,舍去了相位区,其结构由N型电极、N型GaAs衬底、N型GaAs缓冲层、N型AlGaAs下盖层、非掺AlGaAs...
分布反馈半导体激光器中光栅的干法刻蚀制作工艺制造技术
一种分布反馈半导体激光器中光栅的干法刻蚀制作工艺,是利用反应离子刻蚀技术,其主要步骤为:A)用全息曝光的方法在GaInP材料上形成干涉条纹并显影,坚膜;B)将已显影的样品放入反应室内,反应气体为CH↓[4]/H↓[2]/Ar,其中:CH...
一种垂直腔面发射纳米尺度半导体激光光源及制法制造技术
一种制造具有表面等离子调制效应的垂直腔面发射纳米尺度半导体激光光源的方法,是在普通垂直腔面发射激光器的基础上制备得到的。具体工艺包括在普通垂直腔面发射激光器出光腔面上生长一层增透膜,用聚焦离子束刻蚀的方法在出光孔范围内腔面的增透膜上制备...
双频光纤激光器制造技术
本发明一种双频光纤激光器,其特征在于,包括:一泵浦源,用于泵浦有源光纤,实现粒子数反转;一隔离器,该隔离器的输入端和泵浦源的输出端相连接,用于隔离反向传播的光,稳定泵浦源的输出和保护泵浦源;一有源谐振腔,该有源谐振腔的输入端与隔离器的输...
一种SiGe弛豫衬底材料及其制备方法技术
本发明涉及半导体材料技术领域,公开了一种SiGe弛豫衬底材料,该SiGe弛豫衬底材料由Si衬底和在Si衬底上外延生长的SiGe组分渐变缓冲层构成,且在所述SiGe组分渐变缓冲层中插入有n个无应变SiGe隔离层,所述无应变SiGe隔离层将...
可调谐掺铒光纤环形腔激光器制造技术
本发明一种可调谐掺铒光纤环形腔激光器,能输出稳定的波长与功率,涉及光纤通信技术。本发明的可调激光器和隔离器通过第一光耦合器的输入端与环形腔相连;WDM耦合器将980nm泵浦光耦合进掺铒光纤增益介质;第二光耦合器为输出端口;通过控制相移光...
GaAs基半导体量子点激光器管芯质量的检测和分析方法技术
一种GaAs基半导体量子点激光器管芯质量的检测方法,其特征在于,包含以下步骤:步骤1:将激光器管芯的引线焊接在样品架上;步骤2:调整样品架,使光垂直于激光器管芯腔面入射;步骤3:将样品架的引线接入光电流测量系统的电路,并确定激光器管芯处...
首页
<<
268
269
270
271
272
273
274
>>
尾页
科研机构数量排行前10
华为技术有限公司
133943
珠海格力电器股份有限公司
99092
中国石油化工股份有限公司
87105
浙江大学
81097
三星电子株式会社
68153
中兴通讯股份有限公司
67281
国家电网公司
59735
清华大学
56382
腾讯科技深圳有限公司
54182
华南理工大学
51641
最新更新发明人
东莞市顺兴源包装制品有限公司
19
国网山东省电力公司泰安供电公司
873
正泰新能科技股份有限公司
555
诺博橡胶制品有限公司
247
金乡县中医院
1
俞迪岸
2
江苏仅三生物科技有限公司
22
合肥市建设工程监测中心有限责任公司
40
常州舒康莱机械科技有限公司
1
黔东南苗族侗族自治州人民医院
48