本公开内容提供一种电可控光学装置和一种用于操作所述电可控光学装置的方法。所述电可控光学装置包括多稳态液晶层和控制器，其中所述电可控光学装置可在透明状态与非透明状态之间切换。用于操作所述电可控光学装置的方法包括将电压提供到所述多稳态液晶层...

用于积层制造的分配系统包括含有用以形成物体的粉末的粉末源和定位于在待形成的物体的压板的顶表面之上的粉末源的基部处的喷嘴阵列。粉末从粉末源通过喷嘴流到顶表面。每个喷嘴中的相应粉末轮控制粉末的流速。每个轮在轮的表面上具有多个槽。当马达使轮转...

一种化学机械研磨系统，包括支撑件、承载头、原位监控系统、温度控制系统及控制器，所述支撑件固持研磨垫，所述承载头在研磨工艺期间将基板抵靠所述研磨垫固持，所述原位监控系统经配置产生表示所述基板上的材料量的信号，所述温度控制系统控制所述研磨工...

描述了使用烷基硼烷还原剂沉积低电阻率钨成核层的方法。所用的烷基硼烷还原剂包括具有通式BR3的化合物，其中R是C1‑C6烷基基团。还描述了使用烷基硼烷还原剂进行钨成核层的原子层沉积的设备。

一种用以控制基板上的陶瓷层的厚度的方法，包括提供具有前侧及背侧的基板，基板涂布有陶瓷层于前侧及背侧的至少一个上；使陶瓷层的至少第一位置L1经历离子化辐射；检测回应于离子化辐射在陶瓷层的此至少第一位置L1释放的射出物；及基于检测的射出物，...

描述了电子器件和用于形成具有自对准通孔的电子器件的方法。利用粘着增强层来促进在导电材料与至少一个通孔开口的侧壁之间的粘着。自对准通孔降低通孔电阻并且减小短路至错误金属线的可能性。

提供一种用于形成电化学能储存装置的元件的陶瓷层的蒸发源(102)。蒸发源(102)包括：材料源，被配置为蒸发材料；气体源，被配置为提供处理气体；以及等离子体源(108)，被配置为至少部分地离子化处理气体，陶瓷层(52)至少由蒸发的材料及...

描述了形成存储器结构的方法。金属膜沉积在结构化基板的特征中，且体积地膨胀以形成柱。将毯覆膜沉积达一高度，所述高度小于所述柱的高度，且从所述柱的顶部移除所述毯覆膜。减少所述柱的高度，使得所述柱的顶部是在所述毯覆膜的表面下方，且任选地重复该...

公开了一种具有重叠的蛙腿连杆的双叶片机器人。机器人包括蛙腿构造的第一臂和第二臂，第一臂和第二臂彼此共面且每个可旋转地耦接到第一叶片；和蛙腿构造的第三臂和第四臂，第三臂和第四臂彼此共面且每个可旋转地连接到第二叶片，其中第三臂和第四臂从第一...

提供通过循环工艺制造良好控制的固态纳米孔和良好控制的固态纳米孔阵列的方法，所述循环工艺包括原子层沉积(atomic layer deposition；ALD)或化学气相沉积(chemical vapor deposition；CVD)、...

一种用于处理基板的方法，包括使第一多个基板的每个相应的第一基板承受到改变相应的第一基板的外层的厚度的工艺，产生多组的工艺参数值；产生多个移除轮廓，使用多组的工艺参数和多个移除轮廓作为训练数据来通过反向传播训练人工类神经网络，其中所述人工...

于此提供了用于用钴填充特征的方法和设备。在一些实施方式中，一种用于处理基板的方法包括：经由化学气相沉积(CVD)工艺在基板的顶上和设置在基板中的特征内沉积第一钴层；及通过在具有钴靶材的物理气相沉积(PVD)腔室中执行等离子体处理以将第一...

公开了在用于生物学应用的MEMS器件上移除原生氧化物层和沉积具有受控数量的活性位点的介电层的方法。在一个方面中，一种方法包括通过以下步骤从基板的表面移除原生氧化物层：将基板暴露于呈气相的一种或多种配体以使原生氧化物层具有挥发性，及随后热...

公开一种用于化学机械抛光的装置，该装置包括：台板，具有表面以支撑抛光垫；载体头，以将基板固定为抵靠该抛光垫的抛光面；垫调节器，用来将调节盘固定为抵靠该抛光面；原位抛光垫厚度监测系统；和控制器，被配置为从该监测系统接收信号并通过将预测滤波...

公开了赋予掺杂硼的碳膜静电夹持及极佳颗粒性能的渐变原位电荷捕捉层。本发明大体上关于具有渐变组成的处理腔室调整层。在一实施例中，该调整层为硼‑碳‑氮化物(BCN)膜。该BCN膜在该膜的底部处可具有较高的硼成分。随着该BCN膜被沉积，硼的浓...

提供一种用于形成电化学能储存装置的元件的陶瓷层的蒸发源(102)。所述蒸发源(102)包括：材料源(140)，被配置为蒸发材料；气体源，具有第一气体出口(107a)及第二气体出口(107b)，第一气体出口被配置为提供第一处理气体，第二气...

公开了使用定向自组装制造受良好地控制的纳米孔的方法和使用选择性蚀刻制造自支撑膜的方法。一方面，通过与嵌段共聚物的定向自组装以缩小特征的临界尺寸来形成一个或多个纳米孔，所述特征然后被转移到薄膜上。另一方面，一种方法包括：提供基板，所述基板...

本公开内容的实施例总体上涉及在高深宽比结构的表面上沉积保形层的方法以及用于执行这些方法的相关设备。本文所描述的保形层是使用PECVD方法形成的，其中将包括多个高深宽比特征的半导体器件设置在工艺腔室的工艺空间中的基板支撑件上，将气体供应至...

本文所公开的方面涉及在基板上大批量制造生物感测装置阵列的方法，每个生物感测装置具有竖直或水平隔膜，该竖直或水平隔膜具有从中穿过的一个或多个固态纳米孔，并且涉及用于每个纳米孔的简单的流体寻址的方法。一方面，公开了一种用于将电压从正极穿过自...

本公开内容提供一种热处理设备(100)，用于在真空腔室(101)中使用。热处理设备(100)包括传送布置，被配置为在纵向方向中施加张力至柔性基板(10)，其中传送布置包括：鼓(110)；以及加热装置，被配置为加热鼓(110)，以用于加热...