形成用于生物应用的自支撑膜的方法技术

公开了使用定向自组装制造受良好地控制的纳米孔的方法和使用选择性蚀刻制造自支撑膜的方法。一方面，通过与嵌段共聚物的定向自组装以缩小特征的临界尺寸来形成一个或多个纳米孔，所述特征然后被转移到薄膜上。另一方面，一种方法包括：提供基板，所述基板在其高度可蚀刻层上方具有薄膜；形成穿过在所述高度可蚀刻层上方的所述薄膜的一个或多个纳米孔，例如通过孔径减小工艺；以及然后选择性地去除所述高度可蚀刻层的在所述一个或多个纳米孔下方的部分以形成薄自支撑膜。

Method of forming self supporting membrane for biological application

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】形成用于生物应用的自支撑膜的方法背景
本文所公开的方面涉及使用定向自组装制造受良好地控制的纳米孔的方法和使用选择性蚀刻制造自支撑膜(free-standingmembrane)的方法。相关技术描述纳米孔被广泛地用于诸如脱氧核糖核酸(DNA)和核糖核酸(RNA)测序的应用。在一个示例中，使用电检测方法执行纳米孔测序，该方法一般包括将未知样品传输通过浸入在导电流体中的纳米孔，并且在纳米孔上施加电位。测量因离子传导通过纳米孔而产生的电流。跨越纳米孔表面的电流密度的幅值取决于纳米孔尺寸和样品的组成，诸如当时占据纳米孔的DNA或RNA。不同核苷酸会导致跨越纳米孔表面的电流密度的特性变化。测量这些电流变化并将其用于对DNA或RNA样品进行测序。已经使用各种方法进行生物测序。通过合成的测序、或第二代测序用于鉴定哪些碱基已连结到DNA单链。一般包括使整个DNA链穿过单个孔的第三代测序用于直接地读取DNA。一些测序方法要求将DNA或RNA样品切碎并然后重组。另外，一些测序方法使用生物膜和生物孔，这些生物膜和生物孔具有保质期并且在使用之前必须冷本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于形成基板的方法，包括：/n提供基板，所述基板在其高度可蚀刻层上方具有薄膜；/n形成穿过在所述高度可蚀刻层上方的所述薄膜的一个或多个纳米孔；和/n选择性地去除所述高度可蚀刻层的在所述一个或多个纳米孔下方的部分以形成自支撑膜。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170922 US 62/561,976;20180905 US 16/122,1711.一种用于形成基板的方法，包括：
提供基板，所述基板在其高度可蚀刻层上方具有薄膜；
形成穿过在所述高度可蚀刻层上方的所述薄膜的一个或多个纳米孔；和
选择性地去除所述高度可蚀刻层的在所述一个或多个纳米孔下方的部分以形成自支撑膜。


2.如权利要求1所述的方法，其中选择性地去除所述高度可蚀刻层的所述部分包括：
将所述基板定位在蚀刻腔室中；
将被选择用于去除所述高度可蚀刻层的蚀刻剂引入到所述蚀刻腔室；和
将所述基板暴露于所述蚀刻剂以选择性地去除所述高度可蚀刻层的所述部分。


3.如权利要求1所述的方法，其中所述自支撑膜是介电膜，并且其中所述高度可蚀刻层包括硅。


4.如权利要求1所述的方法，进一步包括：
将生物样品沉积在所述自支撑膜的至少一个侧面上；和
通过引导所述生物样品通过所述自支撑膜中的所述一个或多个纳米孔来分析所述生物样品。


5.如权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个纳米孔的每一个的直径小于或等于约100纳米，并且其中所述自支撑膜的厚度小于或等于约50纳米。


6.一种用于形成基板的方法，包括：
提供基板，所述基板在其高度可蚀刻层上方具有薄膜；
使用孔径减小工艺形成穿过在所述高度可蚀刻层上方的所述薄膜的一个或多个纳米孔；和
选择性地去除所述高度可蚀刻层的在所述一个或多个纳米孔下方的部分以形成薄自支撑膜。


7.如权利要求6所述的方法，其中选择性地去除所述高度可蚀刻层的所述部分包括：
将所述基板暴露于被选择用于选择性地去除所述高度可蚀刻层的所述部分的蚀刻剂。


8.如权利要求6所述的方法，进一步包括：
将生物样品沉积在所述自支撑膜的至少一个侧面上；和
通过引...

【专利技术属性】
技术研发人员：安基特·沃拉，大野健一，菲利普·艾伦·克劳斯，若勒·希沙比，约瑟夫·R·约翰逊，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US