本文公开一种包括耐等离子体保护涂层的制品，所述耐等离子体保护涂层在所述制品的表面上，具有一个或多个中断层以控制晶体生长。所述涂层可以通过原子层沉积和/或通过化学气相沉积来沉积。本文公开的所述涂层中的稀土氧化物可以具有与所述一个或多个中断...

描述用于蒸发包括碱金属或碱土金属的材料及用于沉积所述材料于基板上的沉积装置。所述装置包含：第一腔室，所述第一腔室被配置以液化材料；阀，所述阀与第一腔室流体连通且在第一腔室下游，其中阀被配置以控制液化材料通过阀的流率；蒸发区，所述蒸发区与...

本文所描述的实现方式总体涉及金属电极，更具体地涉及含锂阳极、包括前述含锂电极的诸如二次电池的高性能电化学装置，及其制造方法。在一个实现方式中，提供了一种阳极电极结构。所述阳极电极结构包括包含铜的集流体。所述阳极电极结构进一步包括形成在所...

本文所描述的实施方式提供了薄膜晶体管(TFT)和工艺以减少在TFT中的等离子体引起的损坏。在一个实施方式中，缓冲层设置在衬底上方，并且半导体层设置在所述缓冲层上方。栅介质层设置在所述半导体层上方。所述栅介质层在界面处接触所述半导体层。栅...

本公开内容的实施方式一般地涉及包含高介电常数电介质层的层堆叠，所述层堆叠形成于第一电介质层与金属电极上方。高介电常数电介质层具有20或更高的介电常数值且可形成为电子装置中的电容器、栅极绝缘层或任意合适的绝缘层的一部分，电子装置例如显示器...

本公开内容的实施方式大致关于用于在整合式基板处理系统中调度基板处理程序的方法、系统和非暂时性计算机可读取介质。客户端装置将处理程序分配给待处理的一批基板中的每个基板。客户端装置针对整合式基板处理系统中的每个处理腔室将处理腔室分配给处理程...

一种控制抛光的方法，包括：抛光基板，在抛光期间内由原位监测系统监测基板，将来自监测系统的信号滤波以产生经滤波信号，并且根据经滤波信号确定抛光终点或对抛光速率的调整的至少一个。滤波包含：使用多个扰动状态在多个不同频率下，建模多个周期性扰动...

本文公开的方面涉及用于显示装置的滤色器，且更具体而言涉及用于透射或反射和回收利用液晶显示装置中的光的颜色的滤色器。在一方面中，超颖表面(metasurface)形成在LCD装置中的两个偏光器之间。在另一方面中，超颖表面形成在LCD装置的...

根据第一方面，本公开内容提供了一种用于热处理基板的设备，所述设备包含至少一个加热元件和至少一个挡板，其中至少一个挡板可在基板与至少一个加热元件之间的第一位置与第二位置之间移动，并且至少一个挡板包含至少一个反射表面。根据另一方面，本公开内...

本公开的实施例提供了用于在CMP工艺期间检测在流体输送系统中的堵塞的设备以及在CMP工艺期间检测在流体输送系统中的堵塞的方法。具体而言，本文的实施例提供了一种分流器歧管，其经配置以实现监测设置在其中的抛光流体的压力。监测在分流器歧管中的...

一种制造抛光垫的抛光层的方法包括以下步骤：确定将嵌入在所述抛光层的聚合物母体内的颗粒的期望的分布。利用3D打印机相继地沉积所述聚合物母体的多个层，所述聚合物母体的所述多个层中的每一个层通过从喷嘴喷出聚合物母体前体来沉积。根据所述期望的分...

提供了一种部件、一种制造部件的方法、以及一种清洁部件的方法。所述部件包括在所述部件内的气体流动系统，其中所述气体流动系统流体地耦接一个或多个入口孔和一个或多个出口孔。所述部件的所述制造产生在环的主体中产生的弧形凹槽和周向凹槽。所述部件经...

本发明涉及一种减少聚合物沉积的设备和方法。本公开的实现方式提供了一种用于静电吸盘的工艺配件。在一个实现方式中，提供了一种衬底支撑组件。所述衬底支撑组件包括静电吸盘，所述静电吸盘具有形成在所述静电吸盘的上部分中的第一凹陷。工艺配件包围所述...

本文公开了一种衬底支撑组件，所述衬底支撑组件具有沿着所述衬底支撑组件的侧表面设置在所述衬底支撑组件中的接地电极网。所述衬底支撑组件具有主体。所述主体具有外顶表面、外侧表面和外底表面，所述外顶表面、所述外侧表面和所述外底表面包围所述主体的...

本文所述的实施方式涉及用于工艺腔室中的机械隔离和热绝缘的装置和技术。在一个实施方式中，绝缘层被设置在圆顶组件和气体环之间。绝缘层被配置以维持圆顶组件的温度并且防止从圆顶组件到气体环的热能传递。绝缘层提供圆顶组件与气体环的机械隔离。绝缘层...

本公开内容的实施例一般关于用以调节远程等离子体产生器的内壁表面的方法。在一个实施例中，提供了一种用以处理基板的方法。所述方法包括下列步骤：将远程等离子体源的内壁表面暴露于处在激发态的调节气体，以钝化远程等离子体源的内壁表面，其中该远程等...

此处公开升降销保持器的实施例。在一些实施例中，升降销保持器包括：外壳构件，所述外壳构件具有上部部分及下部部分，其中上部部分包括界定中央空间的环状壁；支撑构件，所述支撑构件至少部分地设置于中央空间内，且具有配置成支撑升降销的底座及向上突出...

使用物理气相沉积处理形成介电膜层的设备和方法包括将溅射气体输送到位于处理腔室的处理区域中的基板，该处理腔室具有含电介质的溅射靶，输送能量脉冲到溅射气体产生溅射等离子体，溅射等离子体由能量脉冲所形成，能量脉冲具有在小于50kHz并且大于5...

公开了一种在光刻系统中定性检测像差及确定数个像差形式的方法。此方法包括利用数字微型反射镜装置(digital micromirror device，DMD)图案来投射光学信号于可反射的基板上；在不同聚焦高度处(从高于至低于最佳焦点的范围...

描述了用于真空密封的锁定阀(100)。所述锁定阀(100)包括：基部结构(110)，所述基部结构具有阀开口(111)；闸板(140)，所述闸板用于关闭所述阀开口(111)；以及密封件(160)。所述密封件包括：密封基部(161)，所述密...