用于衍射受限光学系统的透镜像差的经验检测技术方案

公开了一种在光刻系统中定性检测像差及确定数个像差形式的方法。此方法包括利用数字微型反射镜装置(digital micromirror device，DMD)图案来投射光学信号于可反射的基板上；在不同聚焦高度处(从高于至低于最佳焦点的范围)从基板取得返回光学信号；基于在多种聚焦高度处的返回光学信号，形成离焦曲线；比较离焦曲线与预定曲线，预定曲线为焦点的函数；及确定透镜像差是否存在。通过利用光刻系统的现存硬件来确定透镜像差是否存在，成本被维持在最少，及DMD图案在少于五分钟中产生离焦曲线而允许快速的校正。

Experimental detection of lens aberration for diffractive limited optical system

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于衍射受限光学系统的透镜像差的经验检测
本公开内容的实现方式一般地涉及数种用于处理一或多个基板的系统及方法，及更具体来说涉及数种执行光刻工艺的设备、系统及方法。
技术介绍
光刻(Photolithography)广泛地使用于制造半导体装置及显示器装置，例如是液晶显示器(liquidcrystaldisplays，LCD)。大面积基板时常用于LCD的制造。LCD、或平面面板通常用于主动矩阵显示器，例如是计算机、触控面板装置、个人数字助理(personaldigitalassistants，PDAs)、移动电话、电视(televisionmonitors)、及类似装置。一般来说，平面面板可包括夹置于两个板材之间液晶材料形成数个像素的层。当来自电源的功率提供至液晶材料时，通过液晶材料的光总量可在像素位置进行控制而能够产生影像。一般应用微米印刷(microlithography)技术以产生电特征，合并成形成样素的液晶材料层的部分。根据此技术，光敏光刻胶通常涂覆于基板的至少一表面。接着，图案产生器利用光曝光光敏光刻胶的选择区域来作为图案的部分，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种确定光刻系统中的焦点的方法，包括：/n利用数字微型反射镜装置(DMD)图案来投射光学信号于基板上；/n从所述基板取得返回光学信号；/n测量所述返回光学信号的一或多个聚焦高度；/n基于所述返回光学信号的所述一或多个聚焦高度，形成离焦曲线；/n比较所述离焦曲线与预定曲线，其中所述预定曲线为焦点的函数；及/n确定透镜像差是否存在。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171027 US 62/578,217;20180425 US 15/962,9811.一种确定光刻系统中的焦点的方法，包括：
利用数字微型反射镜装置(DMD)图案来投射光学信号于基板上；
从所述基板取得返回光学信号；
测量所述返回光学信号的一或多个聚焦高度；
基于所述返回光学信号的所述一或多个聚焦高度，形成离焦曲线；
比较所述离焦曲线与预定曲线，其中所述预定曲线为焦点的函数；及
确定透镜像差是否存在。


2.如权利要求1所述的方法，其中所述DMD图案为点5x5图案。


3.如权利要求1所述的方法，其中所述光学信号为光束。


4.如权利要求3所述的方法，其中所述光束具有范围为从约360nm至约410nm的波长。


5.如权利要求3所述的方法，其中在开启位置及关闭位置的镜子的结合形成所述DMD图案。


6.如权利要求1所述的方法，其中所述返回光学信号为光束，所述光束从所述第一光学信号的反射及转换产生。


7.如权利要求1所述的方法，其中所述返回光学信号由相机取得。


8.一种确定像差的方法，包括：
利用第一数字微型反射镜装置(DMD)图案来投射第一光学信号于基板上；
从所述基板取得第一返回光学信号；
基于所述第一返回光学信号，形成第一离焦曲线；
比较所述第一离焦曲线及预定曲线，其中所述预...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟钦，安托尼·P·马内斯，黄·J·郑，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US