提供制造光学装置的多深度层的图案化的方法。在一个实施方式中，提供一种方法，包括在装置层之上设置抗蚀剂层，装置层设置于基板的顶表面之上，装置层具有第一部分和第二部分；图案化抗蚀剂层，以形成具有多个第一开口的第一抗蚀剂层图案和具有多个第二开...

一种用于化学机械抛光的承载头包括：基部、致动器、基板安装表面和固定器。固定器包括通过柔性件连接的内段和外段。固定器的内段的底部提供下表面的内部部分，所述下表面的内部部分被配置成接触抛光垫。内段的内表面从下表面的内边缘向上延伸，以周向地围...

提供了一种磁悬浮系统，包括：基部结构；载体，所述载体在运输方向上相对于所述基部结构可移动；和至少一个主动磁轴承，所述至少一个主动磁轴承被构造成产生作用在保持方向上的磁保持力，以用于将所述载体保持在所述基部结构处。所述载体和/或所述基部结...

于此描述用于外延腔室的热屏蔽组件。所述热屏蔽组件具有热屏蔽构件及预热构件。热屏蔽构件设置于预热构件上。热屏蔽构件具有切口部分，所述切口部分暴露预热构件的一部分。预热构件具有凹陷部分以接收热屏蔽构件。构件具有凹陷部分以接收热屏蔽构件。构件...

本公开涉及用于在基板处理腔室中吸附的方法和系统。在一个实施方式中，一种在基板处理腔室中吸附一个或多个基板的方法包括：将吸附电压施加到基座。将基板设置在基座的支撑表面上。所述方法还包括：从施加的电压斜变吸附电压；在斜变吸附电压时检测阻抗偏...

于此描述的实施方案大体涉及在半导体基板上形成低k介电材料的方法。更具体地，于此描述的实施方案涉及在高压和低温下形成氧化硅膜的方法。形成氧化硅膜的方法包括以下步骤：将其上形成有含硅膜的基板装载到高压容器的处理区域中。方法进一步包括以下步骤...

隔膜阀包括入口端口、出口端口、及靠近入口端口或出口端口中的一者的阀座。隔膜相对于阀座来定位并且具有打开状态，在打开状态中隔膜与阀座间隔开，以启用在入口端口与出口端口之间的流体路径。隔膜具有关闭状态，在关闭状态中隔膜位于阀座上，以阻挡流体...

一种用于化学机械抛光设备的抛光垫，包含具有抛光表面的抛光层和由流体可渗透材料形成的背层。背层包含配置为固定至压板的下表面和固定至抛光层的上表面，其中下表面和上表面被密封。第一密封件将背层的边缘周向地密封，并且第二密封件将背层密封并分离成...

本公开内容一般涉及光刻系统以及用于校正光刻系统中的位置误差的方法。在第一次启动光刻系统时，所述系统进入稳定期。在所述稳定期期间，在所述系统印刷或曝光基板时，收集位置读数和数据，诸如温度、压力和湿度数据。基于所收集的数据和位置读数来产生模...

本文讨论了使用脉冲式RF等离子体来形成非晶膜和微晶膜的系统和方法。形成膜的方法可以包括：(a)由膜前驱物在处理腔室中形成等离子体以及(b)脉冲RF功率源以使由RF功率源产生的脉冲的工作循环的工作循环导通时间(TON)小于工作循环的总循环...

本文所述的实现方式提供了像素化基板支撑组件，所述像素化基板支撑组件允许对静电夹盘与加热组件之间热传递的侧向调谐和方位角调谐两者。像素化基板支撑组件包括：上表面和下表面；设置在像素化基板支撑件中的一个或更多个主电阻式加热器；以及多个像素加...

本文所述的实现方式提供了像素化基板支撑组件，所述像素化基板支撑组件允许对静电夹盘与加热组件之间热传递的侧向调谐和方位角调谐两者。像素化基板支撑组件包括：上表面和下表面；设置在像素化基板支撑件中的一个或更多个主电阻式加热器；以及多个像素加...

提供了终端受动器的可更换的接触垫。接触垫在电子装置制造中支承基板。接触垫包括：接触垫头，具有构造成接触基板的接触表面；轴，耦接至接触垫头，轴包括形成在接触垫头的下侧和轴端之间的轴凹口；和圆形固定构件，容纳在轴周围并座落在轴凹口中，并构造...

本文的实施例包括高产量密度化学机械抛光(CMP)模块和由所述模块形成的可定制模块化CMP系统。在一个实施例中，抛光模块以载具支撑模块、载具装载站、和抛光站为特征。载具支撑模块以载具平台和一个或多个载具组件为特征。一个或多个载具组件各自包...

本文所述的一个或更多个实施例大致关于半导体处理系统内的干燥环境。在这些实施例中，在将基板返回至工厂接口之前，在干燥环境内清洁并且干燥基板。然而，归因于工厂接口和干燥环境之间的开口，空气从工厂接口流至干燥环境中，常常降低干燥处理的效率。在...

本文描述的实施例提供形成非晶氟化金属膜的方法。该方法包括：将物体定位在具有处理区域的原子层沉积(ALD)腔室中；使用原子层沉积(ALD)工艺在物体上沉积含金属氧化物层；使用活化氟化工艺在含金属氧化物层上沉积金属氟层；及重复沉积含金属氧化...

一种用于获得表示基板上的层的厚度的测量值的系统，包括用于固持基板的支撑件、用于通过光以不同入射角撞击基板来捕获两个彩色图像的光学组件、以及控制器。控制器被配置成存储函数，所述函数根据在至少四个维度的坐标空间中沿预定路径的位置来提供表示厚...

本发明描述一种用于掩模的载体。载体包括载体主体，具有被配置以面向掩模的至少一部分的表面，所述载体主体具有用于材料沉积的开口；和磁性保持布置，具有在所述载体主体的开口周围、布置在载体主体处的一个或多个磁性保持器。持器。持器。

公开用于压模产生的方法和设备，其使用纳米抗蚀剂和紫外线阻挡材料。在一个非限制性实施方式中，公开了生产用于产生电气/光学部件的压模的副本的方法，所述方法包括：提供所述压模；用紫外线阻挡材料涂覆所述压模的底表面；使所述紫外线阻挡材料在所述底...

一种用于处理腔室的喷淋头组件的气体分布板可包括至少第一板及第二板。该第一板可包括第一多个孔洞，该第一多个孔洞各自具有至少大约100um的直径。该第二板可包括第二多个孔洞，该第二多个孔洞各自具有至少大约100um的直径。进一步，该第一多个...