提供一种在样本的表面区域上自动聚焦带电粒子束的方法。方法包含针对对应的多个聚焦强度值取得多个图像；基于该多个图像计算多个锐度值，该多个锐度值是基于该多个图像并利用锐度函数计算的，该锐度函数被提供为频率空间中的总和；以及利用基于计算得到的...

本公开内容的实施方式大体上涉及形成光学器件的方法，光学器件包含设置在透明基板上的纳米结构。提供基板作为用于形成光学器件的底座。透明层设置在基板的第一表面上，以及结构层设置在透明表面上。氧化物层设置在基板的与第一表面相反的第二表面上，以及...

本文提供了用于固态功率放大器的冷却板的方法和设备。在一些实施例中，固态功率放大器的冷却板包括主体、多个孔及通道，该主体具有矩形形状、第一侧壁、第二侧壁、第三侧壁与第四侧壁，该第一侧壁与该第二侧壁相对，该第三侧壁与该第四侧壁相对；该多个孔...

一种用于化学机械抛光的装置包括支撑件和电磁感应监测系统，所述支撑件用于具有抛光表面的抛光垫，所述电磁感应监测系统产生磁场以监测抛光垫正在抛光的基板。电磁感应监测系统包括芯和绕所述芯的一部分卷绕的线圈。芯包括后部、中心柱和环形边缘，所述中...

本文提供了用于形成多个非易失性储存单元的方法和设备。在某些实施方式中，方法例如包括形成多个非易失性储存单元，包括在基板上形成金属层交替的堆叠，金属层包括第一金属层和不同于第一金属层的第二金属层；去除第一金属层以在第二金属层的交替层之间形...

本文所公开的实施方式包括高频发射模块。在一个实施方式中，高频发射模块包含固态高频功率源、用于从功率源传播高频电磁辐射的施加器、及耦合于功率源及施加器之间的断热器。在一个实施方式中，断热器包含基板、在基板上的迹线及接地平面。迹线及接地平面...

一种化学机械抛光的方法，包括：围绕旋转轴旋转抛光垫；将基板定位成抵靠在抛光垫上，所述抛光垫具有与旋转轴同心的槽；使基板跨抛光垫横向振荡，使得在第一持续时间内基板的中央部分和基板的边缘部分定位在抛光垫的抛光表面之上；以及使基板基本上横向地...

本公开内容的实施方式包括用于在沉积腔室中将掩模静电耦接到基板支撑件的方法和设备。在一个实施方式中，公开了一种基板支撑件，所述基板支撑件包括：基板接收表面；凹陷部分，所述凹陷部分围绕所述基板接收表面的周边设置；静电吸盘，所述静电吸盘设置在...

描述了一种用于运输载体(10)的磁悬浮系统(100)。所述磁悬浮系统包括：限定运输轨道的基座(20)；沿所述运输轨道相对于所述基座(20)可移动的载体(10)；和设置在所述基座(20)处并且被构造为面向所述载体的导向结构(12)的多个主...

本实用新型公开器件制造系统的主机和用于附接到主机的机面的可替换接口板。器件制造系统的主机包括：基座；在该基座上的多个机面；在多个机面上方的盖。多个机面中的第一机面包括框架。基座、盖和多个机面一起限定内部空间，该内部空间包括机器人臂。第一...

实施方式包括模块式微波源。在一个实施方式中，模块式微波源包括电压控制电路、电压控制振荡器，其中来自该电压控制电路的输出电压驱动电压控制振荡器中的振荡。模块式微波源也可包括耦接至电压控制振荡器的固态微波放大模块。在一个实施方式中，固态微波...

本文描述的实施例涉及用于实质减低通过卡紧电极的射频(RF)耦合的发生的设备和方法。卡紧电极设置在定位于基板支撑件上的静电卡盘中。基板支撑件耦合至工艺腔室主体。RF源用于在与基板支撑件相邻的工艺容积中产生等离子体。阻抗匹配电路设置在RF源...

本文描述的实施方式一般涉及一种注入器设备、一种基板处理设备及一种在机器可读介质中实现的结构。气体注入设备耦接到第一气体源和第二气体源。来自第一气体源和第二气体源的气体可保持分离，直到气体进入处理腔室中的处理容积。冷却剂流过气体注入设备中...

本文所述的实施方式提供一种用于处理基板支撑组件上的基板的方法，该方法实现静电夹具与基板之间的热传递的横向与方位角两者上的调整。该方法包括下述步骤：使用ESC上的第一温度分布来处理第一基板，ESC具有主加热器与空间上可调整的加热器。从处理...

本公开内容的实施方式总体涉及在沉积、蚀刻和/或固化工艺期间利用掩模来处理含有基板的工件，以在工件上具有局部的沉积。将掩模放置在工件的第一层上，所述掩模保护复数个沟槽免受第二层的沉积的影响。在一些实施方式中，在第二层的沉积之前放置掩模。在...

本公开内容一般涉及用于处理基板的方法，且更尤其涉及用于形成金属间隙填充物的方法。在一个实施方式中，该方法包括使用多步骤处理在开口中形成金属间隙填充物。多步骤处理包括：形成金属间隙填充物的第一部分，实行溅射处理以在一个或多个侧壁上形成一个...

本公开内容的实施方式涉及测量系统和用于衍射光的方法。该测量系统包括台架、光学臂和一个或多个检测器臂。衍射光的方法包括提供一种衍射光的方法，该方法包括以固定的光束角θ0和最大定向角φ

提供了抛光制品以及制造在抛光工艺及清洁工艺中使用的抛光制品的方法。更具体而言，本文披露的实施方式涉及具有可调性质(诸如亲水性及zeta电位)的复合抛光制品。由UV可固化丙烯酸化学试剂构成的3D打印的化学机械平坦化(CMP)垫通常本质上是...

本公开内容大致上关于形成半导体器件的方法、一种半导体器件及一种处理腔室。该方法包括：在处理系统中形成源极/漏极区域；在该处理系统中于该源极/漏极区域上形成掺杂的半导体层；形成金属硅化物层；形成介电材料；在该介电材料中形成沟槽；以及以导体...

描述了一种用于磁悬浮铁磁元件(150)的磁悬浮系统(100)。所述磁悬浮系统(100)包括至少一个电磁致动器(178)，所述至少一个电磁致动器与设置在电流供应系统(135)中的一个或多个变压器(140)耦接，电流供应系统(135)用于向...