沟槽中薄膜沉积的方法技术

本公开内容的实施方式总体涉及在沉积、蚀刻和/或固化工艺期间利用掩模来处理含有基板的工件，以在工件上具有局部的沉积。将掩模放置在工件的第一层上，所述掩模保护复数个沟槽免受第二层的沉积的影响。在一些实施方式中，在第二层的沉积之前放置掩模。在其他实施方式中，在沉积掩模之前使第二层固化。在其他实施方式中，在沉积掩模之后蚀刻第二层。本文中所公开的方法允许在工件中所存在的沟槽中的一些中沉积第二层，而同时至少部分地防止在工件中所存在的其他沟槽中沉积第二层。中所存在的其他沟槽中沉积第二层。中所存在的其他沟槽中沉积第二层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】沟槽中薄膜沉积的方法
[0001]背景
[0002]领域
[0003]本公开内容的实施方式总体涉及一种方法，并且更特定地涉及沟槽中薄膜沉积的方法。
[0004]相关技术的说明
[0005]在光学器件(诸如，虚拟现实或增强现实装置)中，波导组合器时常用于耦合虚拟图像，经由全内反射在玻璃基板内部传输光，并且接着在到达观看者眼睛的位置时耦合图像。对于光耦合和去耦而言，通常将波导组合器中的倾斜特征和沟槽用作用于光衍射的光栅。线(鳍片)的定向控制光传播方向，而倾斜角控制期望的(若干)衍射级的效率。
[0006]对于光学器件而言，沟槽中的选择性沉积具有重要的工业应用。有必要精确控制沉积膜的材料性质(诸如，折射率)以便确保这些器件的正常运行。另外，需要没有不期望的空隙或孔洞的膜生长，以确保入射光在光学结构上的正常衍射、反射或折射。因此，需要均匀的膜生长连同选择性，以确保结构的正确部分接收到具有期望材料性质的膜。
[0007]传统的选择性沉积工艺通常包括化学机械抛光(CMP)技术，以移除过量膜生长并且确保膜生长仅发生在工件的期望部分中。然而，CM本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于处理工件的方法，包括以下步骤：在设置于基板上的第一层上施加掩模，其中所述掩模覆盖所述第一层的第一部分而使所述第一层的第二部分被暴露；在所述第一层的所述第二部分上沉积第二层；自所述第一层的所述第一部分移除所述掩模，其中所述第一层的所述第一部分被暴露并且所述第一层的所述第二部分含有沉积于所述第一层的所述第二部分上的所述第二层；和使所述第二层暴露于固化工艺。2.如权利要求1所述的方法，其中所述第一层的所述第一部分包括第一复数个沟槽，并且所述第一复数个沟槽中的至少一者相对于所述第一层的表面成约15
°
至约75
°
的角度。3.如权利要求1所述的方法，其中所述第一层的所述第二部分包括第二复数个沟槽，并且所述第二复数个沟槽中的至少一者相对于所述第一层的表面成约15
°
至约75
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的角度。4.如权利要求3所述的方法，其中所述第一层的所述第一部分包括第一复数个沟槽，并且所述第一复数个沟槽中的至少一者相对于所述第一层的表面成约15
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至约75
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的角度。5.如权利要求1所述的方法，其中所述固化工艺选自由热固化工艺、紫外线固化工艺、等离子体辅助加工工艺、离子束加工工艺、电子束加工、烘烤加工和上述项的任何组合组成的群组。6.一种用于处理工件的方法，包括以下步骤：在设置于基板上的第一层上沉积包括未固化组成物的第二层；在所述第二层上施加掩模，其中所述掩模覆盖所述第二层的第一部分而使所述第二层的第二部分被暴露；使所述掩模和所述第二层的所述第二部分暴露于固化工艺，其中所述掩模屏蔽所述第二层的所述第一部分免受所述固化工艺的影响而同时所述第二层的所述第二部分在所述固化工艺期间至少部分地固化，并且其中在所述固化工艺之后，所述第二层的所述第一部分包括所述未固化组成物并且所述第二层的所述第二部分包括由所述未固化组成物形成的经固化组成物；和移除所述掩模和所述第二层的包括所述未固化组成物的所述第一部分。7.如权利要求6所述的方法，其中所述第一层的所述第一部分包括第一复数个沟槽，并且所...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭津睿，卢多维克，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：