本发明关于一种用于EUV光刻的光学配置，包括：至少一个具有主体(32)的部件(23)，该主体具有在该光学配置的操作期间暴露于活性氢(H

本发明涉及一种光刻设备(100A，100B)的束形成和照明系统(200)，特别是EUV光刻系统的束形成和照明系统，其包括：光学元件(202，204，206，208)，以及调节装置(700)，该调节装置设计为在束形成和照明系统(200)的...

本申请涉及一种用于确定质量粒子束(225、510、1910)的波前(550)的方法(3300)和设备(200)，其包括下列步骤：(a)在不同记录条件(315、325)下使用质量粒子束(225、510)记录(3320)参考结构(130)的...

一种适用于将物场(4)成像于像场(8)中的投射光学单元(7)。多个反射镜(M1至M8)适用于将来自物场(4)的成像光(3)引导至像场(8)。反射镜(M1至M8)中的至少两个实施为用于成像光(3)的入射角大于60°的掠入射的反射镜(M2、...

本发明涉及一种投射光刻的照明光学装置，其用于照明物场。所述照明光学装置包括具有照明光的入射面和出口面(20)的光学棒(19)。光学棒(19)设计为使得在光学棒(19)的侧壁处通过多次全内反射混合且均质化照明光。至少一个校正表面用于在照明...

本发明涉及一种投射光刻的照明光学单元(4)，用于使用沿着照明光束路径的光源(2)的照明光(16)照明物场(5)，在该物场(5)中可布置要成像的物体。一方面场分面反射镜(19)的场分面(25)和另一方面光瞳分面反射镜(20)的光瞳分面(2...

本发明涉及一种半导体光刻的投射影印系统(1)，包括投射影印系统(1)的至少一个部件(21)和结构构件(22)，其中部件(21)被附接到结构构件，并且部件(21)和/或结构构件(22)包括至少一个止动件(28，40)，用于在结构构件和/或...

在包括具有不可接近的入瞳的变形成像投射光学系统(7)的投射光刻系统(1)中，通过传输光学系统(15)对光瞳分面反射镜(14)和/或其光瞳分面(14a)和/或其成像动作进行各种适配可以是有利的。

一种投射镜头(PO)，用于通过具有来自极紫外范围(EUV)的操作波长λ的电磁辐射将设置于投射镜头的物平面(OS)中的图案成像至投射镜头的像平面(IS)上，投射镜头包含多个反射镜(M1‑M6)，其具有设置于该物平面与该像平面之间的投射射束...

微光刻投射曝光设备(10；110)被配置为在曝光过程期间在扫描方向(28)上移动基板台(26)，并且包括：投射镜头(30)，用于在曝光过程期间将掩模结构成像到基板(24)上，具有操纵装置(36)，该操纵装置(36)被配置为在至少两个方向...

本发明关于用于决定至少一个元件(130、540、940)在光刻掩模(110)上的位置的设备(200)，该设备包含：(a)至少一个扫描粒子显微镜(210)，其包含第一参考物体(240)，其中第一参考物体(240)设置在扫描粒子显微镜(21...

本发明涉及一种EUV中操作的微光刻投射曝光设备的光学系统。光学系统包括：至少一个影响偏振的布置，其至少具有一个第一双反射表面单元和一个第二双反射表面单元，它们各具有第一反射表面和第二反射表面。在相同的双反射表面单元内，第一反射表面和第二...

为了鉴定微光刻的掩模(1)，通过用于预测可通过掩模(1)来制造的晶片结构(14)的模拟，确定掩模(1)的空间像(9)对晶片(8)的影响。

检测装置用于检测光刻掩模的区域部分上的结构。检测装置具有第一空间分辨的检测器以及与其分离布置的其他空间分辨的检测器。第一空间分辨的检测器实施为高强度(HI)检测器，布置在从掩模区域部分发出的检测光的HI束路径中。其他空间分辨的检测器实施...

本发明关于用于部件的温度控制的方法，其中该部件可在第一系统与第二系统之间转移。根据一方面，该方法包含以下步骤：确定在部件(131)从第一系统(110)转移到第二系统(120)之后所预期的部件(131)的温度的温度漂移；以及修改在第一系统...

一种用于投射光刻的照明光学单元。在此，第一传输光学单元用于引导从光源发出的照明光。照明预定分面反射镜布置在第一传输光学单元下游且包含多个照明预定分面。该分面反射镜借助所照明的照明预定分面的布置而产生物场的预定照明。这造成了对照明光学单元...

本发明涉及一种检查扫描探针显微镜(520)的测量尖端(100、110)的方法，其中该方法包括以下步骤：(a)在通过测量尖端(100、110)对样品(400、510)进行分析前后产生至少一个测试结构(600、650、710、730、750...

本发明涉及一种提供表征光学元件的表面形状的方法和装置，该光学元件特别是微光刻投射曝光系统的反射镜或透镜。根据本发明的方法包括以下步骤：实行多个干涉式测量，其中记录在来自光学元件的相应部分的测试波与参考波之间的相应的干涉图，其中在这些测量...

本发明涉及一种重力补偿装置(1)，其包括定子(3)和平移器(2)。平移器(2)可以沿着移动轴线(A)相对于定子(3)是可移动的。平移器(2)包括具有轴向磁化的第一永磁体布置(10)。定子(3)包括径向围绕第一永磁体布置(10)的第二永磁...

一种用于将物场(4)成像至像场(8)的成像光学单元(7)。在此处，多个反射镜(M1至M10)用以沿成像光束路径引导成像光(3)。多个反射镜(M1至M10)包含用于掠入射的数个反射镜(GI反射镜)(M2至M8)，其偏转具有大于45°的入射...