本发明涉及一种用于确定微光刻光学系统中的光学元件的加热状态的方法和设备，其中使用至少一个非接触传感器(330、430、531、532、533、534、631、632)，所述至少一个非接触传感器基于从所述光学元件(301、401、402、...

当检测物体结构时，以来自至少一个优选的照明方向的至少部分相干光源的照明光，最初照明物体的至少一个部分。通过对在检测平面中由所照明的部分衍射的照明光的衍射强度进行空间分辨检测，记录所照明的部分的至少一个衍射图像。使用迭代方法，从至少一个记...

自由电子激光器(35)包括用于反馈发射的照明辐射(5)的反馈装置(36)。照明辐射(5)的反馈装置(36)。照明辐射(5)的反馈装置(36)。

本发明涉及表征微光刻掩模的装置和方法。根据本发明的装置具有：照明光学单元(310)，用于照明旨在于在微光刻投射曝光设备中的光刻工艺中使用的掩模(321)的结构；检测器单元(100，200，340)；以及评估单元(350)，用于评估由检测...

本发明涉及一种用于在检查光刻过程的元件(810)中评估统计分布的测量值(100、300、350)的方法(900)，其包括以下步骤：(a)在训练的机器学习模型(700)中使用多个参数(730)，其中，在与测量值(100、300、350)的...

为了减少在压紧后特别是随长时间段推移而松弛的程度，提出了基板(51)或特别是用于EUV光刻的具有该类型的基板(51)的反射光学元件(50)，其中，基板的表面区域(511)具有表面涂层(54)。这些基板(51)的特征在于，掺杂钛的石英玻璃...

本发明涉及一种微光刻的组件，特别是使用极EUV范围(EUV)中的光，所述微光刻的组件包括用于支撑光学单元(106、107)的支撑结构(109)，所述光学单元的质量特别是等于4t至14t，优选地为5t至10t，更优选地为6t至8t。支撑结...

本发明涉及一种用于用带电粒子束(170、1028)检查和/或处理用于光刻的元件(110、200)的装置(1000)，所述装置(1000)包括：(a)在将所述用于光刻的元件(110、200)暴露于所述带电粒子束(170、1028)时记录测...

本发明涉及一种用于减小激光器(1)的输出束(3)的光谱带宽的组件(5)。所述组件(5)具有布置在激光谐振器内的扩束光学件(6)。所述扩束光学件的功能为在至少一个扩展横截面的维度中增加谐振器内部激光束(7)的束横截面(Q)，使得至少一个谐...

本发明涉及一种特别是在微光刻的光学系统中基于频率确定部件的位置的测量组件，其包括至少一个光学谐振器，所述谐振器包括固定的第一谐振器反射镜、与所述部件相关联的可移动测量目标、和固定的第二谐振器反射镜，所述第二谐振器反射镜由逆向反射镜(13...

本发明关于一种决定光刻工艺中的元件(450)的缺陷(650、660)的至少一个未知效应(250)的方法与装置。该方法(1000)包含下列步骤：(a)针对图像(600)、有关该图像(600)的设计数据(240)、以及由该图像(600)产生...

本发明关于用以制作用于光学元件(11)的基板(10)的方法，其包含：引入起始材料(较佳为金属或半金属)至容器中并熔化该起始材料、通过从配置于容器的基座的区域中的多个单晶晶种盘开始定向地固化熔化的起始材料来制作具有准单晶体积区域(8)的材...

用于转印光刻掩模(10)的原初结构部分(13)的光学系统。原初结构部分(13)具有大于4∶1的x/y纵横比，且在光刻掩模(10)上彼此相邻布置成行且通过不带有任何待成像结构的分离部分(14)而彼此分开。在将物场成像至像场的协助下，光学系...

本发明涉及用于使用成像装置(2)测量微光刻的掩模(3)的装置(30)，其中成像装置(2)包括：‑成像光学单元(9)，具有焦平面(20)，用于成像掩模(3)，‑物平台(11)，用于安装掩模(3)，‑移动模块(18)，用于在物平台(11)与...

本发明涉及反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜。根据一个方面，根据本发明的反射镜具有反射镜基板(12)；反射层堆叠体(21)，用于反射在光学有效表面(11)上入射的电磁辐射；以及至少一个压电层(16)，该压电层布置在反射镜基板与反射...

本发明关于检查掩模的方法及装置，其中方法包含以下步骤：测量由于在至少一个衍射级的衍射而在光瞳平面中在照明掩模上存在的掩模结构(11，21)时产生的第一强度分布(14，24)，其中该衍射级为第+1级衍射、第‑1级衍射或更高级的衍射；测量由...

本发明揭示一种用于从光刻法掩模(500)去除颗粒(550、2750、3150)的方法(3300)，该方法包括下列步骤：(a)将可相对于掩模(500)移动的操纵器(300、1300、2500、3000、3100)定位(3320)在待去除的...

本发明公开了一种确定光学部件(202)的行进路径(x，y)中的异常(500)的位置的方法，该光学部件(202)在光刻装置(100A，100B)中或用于该光刻装置(100A，100B)中，该方法包含下列步骤：a)在至少一个第一自由度(F

本发明涉及投射光刻系统的光学系统，掩模母版上的投射光学系统的照明辐射的角度空间在第一方向上是照明光学单元的照明辐射的角度空间的两倍。

本发明基于实现光子集成电路(901)的简单且可靠的接触的目的。这通过使用可提供探针卡功能的光电电路板(300)成为可能。该光电电路板(300)包含至少一个导电体线路(381、385、386、387)和至少一个光束路径(371)。