公开了一种光学系统以及操作光刻曝光设备的方法。所述光学系统包含至少一个反射镜布置，其包括多个反射镜元件，其邻近布置并且共同形成反射镜布置的反射镜表面。反射镜的多层布置包含反射层系统和压电层，该反射层系统具有形成反射镜表面的部分的辐射入射...

本发明涉及一种开环控制系统(10)，特别用于光学系统(100)，包括：致动器(12)、用于获取致动器(12)的致动器测量数据(15)的测量元件(14)、用于根据致动器测量数据(15)生成用于控制致动器(12)的控制信号(13)的闭环控制...

本发明涉及一种用于微光刻、特别是用于使用极紫外(EUV)范围内的光的成像装置的光学装置，其包括光学元件(109)和用于保持光学元件(109)的保持装置(110)。光学元件(109)包括光学表面(109.1)并且限定主延伸的平面，其中光学...

本发明涉及一种用于表征测试物体的表面形状的设备和方法。根据本发明的用于表征测试物体的表面形状的设备具有：测试布置(130，230)，用于使用测试波来确定测试物体(111，112，113，211，212，213)的表面形状，其中，该测试波...

本发明涉及一种晶片检查系统，其使用UV和VUV辐射(11)工作且包括内部腔(17)，所述内部腔可配备有气体且其中尤其定位有由MgF2制成的光学元件(122)。为了用水的吸附膜覆盖光学元件，进气口(18)设置有到系统的内部腔中的控制的水馈...

本发明涉及用于测量半导体光刻的光掩模的方法，其包括以下步骤：

一种用于通过相消干涉抑制至少一个目标波长的光学衍射元件(60)。该光学衍射元件(60)具有至少三个衍射结构层级(N

微光刻投射曝光设备具有反射镜阵列，反射镜阵列具有基体和多个反射镜单元，每个反射镜单元包括反射镜和固态关节，固态关节至少具有一个关节部件，该至少一个关节部件将反射镜连接到基体。控制装置使得可以改变各反射镜相对于基体的排列。反射镜与基体或连...

一种用于照明场的照明的投射光刻的光学照明系统，其中可以布置下游光学成像系统的物场。光学照明系统的光瞳分面反射镜具有多个光瞳分面(11)。每个光瞳分面(11)被设计为引导照明光的部分束(24

一种方法，用于调整光刻设备(100A、100B)的第一元件(202)朝向该光刻设备(100A、100B)的第二元件(204)，该方法通过布置在第一元件(202)以及第二元件(204)之间的可调节间隔件(300)进行调整，该方法包括以下步...

本发明关于一种用于半导体光刻的投射曝光设备(1、31)的模块(62、72)，其包括布置于支架(50、50′)中的至少一个光学元件(18、19、20、38)，其中至少一个间隔件(52)布置于支架(50)与另一支架(50′)或一本体(54)...

本发明涉及一种用于反射VUV波长范围内的辐射的光学元件(4)，包括：基板(41)；和反射涂层(42)，该反射涂层被施加到该基板(41)并且具有至少一个铝层(43)。将用于分解分子氢(Ha)的至少一个氢催化层(45)施加到铝层(43)上。...

本发明涉及一种处理特别是用于微光刻的微结构部件的装置和方法。一种处理微结构部件的装置包括：离子束源(130、230)，用于将离子束(135、235)施加到所述部件(100、200)的至少一些区域，其中，所述离子束的离子能量不大于5keV...

本发明涉及用于对准元件(2)的致动器装置(1)，其包括能够被紧固到支撑结构(5)的用于第一设定范围的至少一个第一致动器单元(7)以及能够被紧固到元件(2)的用于第二设定范围的第二致动器单元(8)。第一致动器单元(7)具有调整元件(13)...

一种用以制造用于EUV装置的照明系统的方法，包含以下步骤：将照明系统(ILL)的反射镜模组(FAC1，FAC2，CO)安装在为反射镜模组所提供的安装位置处，以建立从源位置(SP)延伸到待照明的照明场(BF)的照明光束路径；在照明光束路径...

一种使用粒子显微镜来记录图像的方法，该方法包括：记录物体的多个图像，其中，图像数据的强度值与所记录图像的坐标系中的位置和该物体上的位置相关联；确定与位置相关联的关注区域；确定包含关注区域的图像区域；确定与这些图像区域相关联的位移矢量，这...

本发明涉及在特别是微光刻的光学成像装置中使用的光学布置，其包括光学元件单元(108)和检测装置(112)和/或致动装置(110)，其中，光学元件单元(108)包括至少一个光学元件(108.1)。检测装置(112)被配置为在各个情况下以多...

本发明有关于一种用以产生用于投射曝光装置(1)的反射光学元件的方法，其中该反射光学元件包含具有基板表面(31)、保护层(38)和适合用于EUV波长范围的层部分系统(39)的基板(30)，所述方法包含以下方法步骤：a)测量基板表面(31)...

本发明涉及用于检查和/或处理样品(400、2010)的设备(2400、2600)，所述设备包括：(a)用于提供带电粒子束(840)的扫描粒子显微镜(2410)，该带电粒子束可以被指引在样品(400，2010)的表面上；(b)具有可偏转探...

本发明涉及一种用于微光刻投射印刻系统的冷却装置的弯曲方法，该方法包括以下步骤：提供特别地未弯曲的冷却装置(100)，其包括至少一个腔体(108)；至少在所述冷却装置(100)的待弯曲的一个区域中用液态低温介质(110)填充所述至少一个腔...