根据本发明的实施例，提供一种光刻设备，其包括投射系统，该投射系统包括多个光学元件，该多个光学元件配置为将辐射束投射到辐射敏感基板上。光刻设备还包括计量框架结构，其包括一个或多个光学元件测量系统的部件以测量光学元件中的至少一个的位置和/或...

本发明涉及一种根据N位宽输入信号(I)生成1位宽调制信号(PWM)的调制装置(100)，包括：信号分离器(110)，用于生成具有输入信号(I)的M个较高值位的M位宽第一子信号(Xh)，以及用于生成具有输入信号的L个较低值位的L位宽第二子...

微加工装置，例如扫描电子显微镜或聚焦离子束显微镜等，提供图像。使用依顺序耦合的第一机器学习算法(151)和第二机器学习算法(152)。第一机器学习算法(151)基于与工作流程相关联的图像中的特征识别来决定预定义工作流程中的进度，而第二机...

本发明涉及用于表征微光刻掩模的方法和设备。在根据本发明的方法中，多个单独成像过程以由检测器单元指定的像素分辨率实行，其中这些单独成像过程在位于成像光学单元中的至少一个偏振光学元件的位置方面彼此不同，其中在评估单元中评估由检测器单元记录的...

本发明涉及一种微光刻光学成像装置的布置，该布置包括第一支撑结构和第二支撑结构，第一支撑结构被配置为支撑成像装置的至少一个光学元件。第一支撑结构通过振动解耦装置的多个支撑弹簧装置支撑第二支撑结构。第二支撑结构支撑测量装置，该测量装置被配置...

用于光刻装置(100A,100B)的光阑(300)(尤其是数值孔径光阑、遮挡光阑或虚光光阑)包含透光孔径(302)以及至少一个光阑元件(306,308)，孔径(302)设置于至少一个光阑元件(306,308)之中或之上，其中光阑元件(3...

本发明涉及一种用于制造或设置投射曝光设备的方法，投射曝光装置包括光源、照明系统和投射镜头且用于对掩模的结构进行成像，其中投射镜头包括多个光学部件，光学部件能够被调整以便设置投射曝光设备的成像性质，其中方法包括应该被优化的第一成像性质的确...

本发明涉及用于产生微光刻的第一部件与第二部件之间的粘合接合的方法和装置，其中第二部件是光学元件。方法包括以下步骤：将第一部件和第二部件引入到定位装置(100)中，其可以改变第一部件与第二部件之间的相对位置；校准第一相对位置，在第一相对位...

本发明关于一种用于微光刻的投射光学单元以及一种制造结构化部件的方法。一种用于微光刻的投射光学单元包含多个反射镜，其用于将成像光(301、510、601、701、801)沿着从位于物面(OP)上的物场(5)到位于像面(IP)上的像场(9)...

本发明关于反射镜，尤其是用于微光刻投射曝光装置。根据一方面，根据本发明的反射镜具有光学有效表面(11,31)、反射镜基板(12,32)、用以反射入射在光学有效表面上的电磁辐射的反射层系统(21,41)、以及至少一个压电层(16,36)，...

为了决定由于在光学制造系统的照明和成像条件下进行照明和成像所造成的待测量物体的制造空间像，首先捕获(17)待测量物体的测量空间像(17)。这在光学测量系统的照明和成像条件下进行，该条件包含预定义测量照明设定。测量空间像的数据在捕获的过程...

一种密封装置(300)，其相对于光刻设备(100A、100B)的第二部件部分(206)密封该光刻设备(100A、100B)的第一部件部分(202)，该密封装置包括许多密封环(302)和许多连接位置(304)，其中密封环(302)借助于连...

本发明涉及一种用于从基板(310，402)移除至少一个单一微粒(320)的装置(300、400)及方法(2000)，其中该基板尤其是用于极紫外光光刻的光学元件，其中所述装置(300、400)包括：(a)分析单元(330)，设计为确定至少...

本发明涉及用于表征微光刻掩模的设备和方法。根据一个方面，根据本发明的设备包括：发射相干光的至少一个光源(105、205、405a、405b、605)；照明光学单元(110、210、310、311、410、510、610、710、810)...

本发明关于一种特别用于使用极紫外线(EUV)范围中的光的微光刻成像装置的布置，其包含固持装置(110)，用于固持固持光学元件(109)，其中该光学元件(109)包含光学表面(109.1)并限定主延伸平面，其中该光学元件(109)限定径向...

本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M8)，用于将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)跨越于两个物场坐标(x,y)，法线坐标(z)垂直于这两个物场坐标。成像光(3)在第一成像光平面(xz

本发明涉及一种用于对准投射曝光设备(100、200、400)的光学元件(2)的致动器装置(3)，致动器装置(3)包括轴(9)，轴(9)的第一端部分(9.1)通过接合件(10)在载体结构(5)的基点(11)可偏转地悬置且其第二端部分(9....

本申请涉及一种用于确定反射式光刻掩模(400)的图案元件(350)在其操作环境(450)中的放置的装置(1000)，其中该装置(1000)包括：(a)至少一个第一构件(1010、1100、1200)，被配置为用于在与操作环境(450)不...

一种用于光刻设备(100A、100B)的光学装置(200)，具有：具有反射镜阵列(204)的微系统(202)，其中反射镜阵列(204)的相应反射镜(206)被设置成在其前侧(208)反射光刻设备(100A、100B)的工作光(108A、...

本发明涉及一种用于在EUV投射曝光设备(1)中将传感器参考件(40)与主体(30)的参考面(31)对准的方法，其中传感器参考件(40)包括参考元件(41、41)和接收元件(42)，其中接收元件(42)布置在主体(30)上或实施为主体(3...