【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于半导体光刻的具有半主动间隔件的投射曝光设备的模块以及使用该半主动间隔件的方法本专利技术主张德国专利申请案DE102018220565.5的优先权，其内容以参考方式全部并入本文。本专利技术关于一种用于半导体光刻的具有半主动间隔件的投射曝光设备的模块以及关于一种使用该半主动间隔件的方法。用于半导体光刻的投射曝光设备包括多个光学元件，这些光学元件被保持在支架中，又依序彼此连接以形成一投射光学单元，其中这些光学元件根据相应的设计规范相对彼此布置。在折射投射光学单元包括旋转对称透镜以及可能的反射镜的情况下，于支架的对准期间中，支架设计为安装座，安装座在三个平移自由度x、y以及z上且关于旋转自由度Rotz相对于彼此对准。在此，z方向对应于所使用的光线的方向，也就是说，用于将光刻掩模的结构成像在半导体基板上的光线的方向，光刻掩模例如为一相位掩模，也就是所称的掩模母版(reticle)，半导体基板也就是所谓的晶片。两个光学元件在z方向上的间距是通过所谓的调节环所设定的，调节环设计为高精度的平面平行环，其厚度公差在几微米[μm]的范围内。垂直于z方...
【技术保护点】
1.一种用于半导体光刻的投射曝光设备(1、31)的模块(62、72)，包括布置于一支架(50、50′)中的至少一个光学元件(18、19、20、38)，其中至少一个间隔件(52)布置于该支架(50)与另一支架(50′)或本体(54)之间，/n其特征在于，/n该间隔件(52)设计成半主动地改变其范围。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181129 DE 102018220565.51.一种用于半导体光刻的投射曝光设备(1、31)的模块(62、72)，包括布置于一支架(50、50′)中的至少一个光学元件(18、19、20、38)，其中至少一个间隔件(52)布置于该支架(50)与另一支架(50′)或本体(54)之间，
其特征在于，
该间隔件(52)设计成半主动地改变其范围。
2.如权利要求1所述的模块(62、72)，
其特征在于，
该间隔件(52)包括一压电材料。
3.如权利要求1或2所述的模块(62、72)，
其特征在于，
在该支架(50、50′)与该间隔件(52)之间或在该支架(50)与该本体(54)之间布置有中间元件(57)。
4.如权利要求3所述的模块(62、72)，
其特征在于，
该中间元件(57)设计为一被动式间隔件。
5.如前述权利要求中任一项所述的模块(62、72)，
其特征在于，
第一支架(50)以静定的方式安装在第二支架(50′)或本体(54)上。
6.如权利要求1至4中任一项所述的模块(62、72)，
其特征在于，
第一支架(50)以超静定的方式安装在第二支架(50′)或本体(54)上。
7.如前述权利要求中任一项所述的模块(62、72)，
其特征在于，
开回路以及闭回路控制装置(59)，配置为用于控制该至少一个间隔件(52)，以调整两个支架(50、50′)之间或支架(50)与本体(54)之间的间距。
8.如前述权利要求中任一项所述的模块(62、72)，
其特征在于，
多个间隔件(52)布置成使得该支架(50)随该间隔件(52)的移动而变形，并且其中该支架(50)设计成使得该支架(50)的变形传递到由该支架(50)所保持的光学元件上。
9.如前述权利要求中任一项所述的模块(62、72)，
其特征在于，
在所述两个支架(50、50′)之间或在该支架(50)与该本体(54)之间布置有一密封件(56、56′)。
10.一种在用于半导体光刻的投射曝光设备(1、31)中定位至少一个支架(50、50′)的方法，
其特征在于，
使用一半主动间隔件(52)来定位该支架(50、50′)。
11.如权利要求10所述的方法，包括以下方法步骤：
a)将该至少一个半主动间隔件(52)组装到第一支架(50)、第二支架(50′)或本体(54)上，
b)将该第一支架(50)与该第二支架(50′)或该本体(54)组装在一起，其中该间隔件(52)布置在该第一支架(50)与该第二支架(50′)或该本体(54)之间，
c)将该间隔件(52)连接到开回路以及闭回路控制装置(59)，
d)确定该第一支架(50)相对于该第二支架(50′)或该本体(54)的该位置以及取向，
e)确定该位置以及取向与该设定点位置以及设定点...
【专利技术属性】
技术研发人员：T波拉克，D杜尔，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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