温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明关于一种用于半导体光刻的投射曝光设备(1、31)的模块(62、72)，其包括布置于支架(50、50′)中的至少一个光学元件(18、19、20、38)，其中至少一个间隔件(52)布置于支架(50)与另一支架(50′)或一本体(54)之间...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明关于一种用于半导体光刻的投射曝光设备(1、31)的模块(62、72)，其包括布置于支架(50、50′)中的至少一个光学元件(18、19、20、38)，其中至少一个间隔件(52)布置于支架(50)与另一支架(50′)或一本体(54)之间...