投射曝光设备的光学系统技术方案

本发明专利技术涉及一种EUV中操作的微光刻投射曝光设备的光学系统。光学系统包括：至少一个影响偏振的布置，其至少具有一个第一双反射表面单元和一个第二双反射表面单元，它们各具有第一反射表面和第二反射表面。在相同的双反射表面单元内，第一反射表面和第二反射表面以距离d1且以0°±10°的角度直接相邻地布置。第一双反射表面单元的第一反射表面和第二双反射表面单元的第二反射表面以距离d2且以0°±10°的角度直接相邻地布置。在第一反射表面上入射的光与第一反射表面形成的角度为43°±10°，特别是43°±5°。在操作光学系统期间，将在第一双反射表面单元的第一反射表面上入射的光反射朝向第二双反射表面单元的第二反射表面。对于距离d1和d2，以下是成立的：d2＞5*d1。

【技术实现步骤摘要】
投射曝光设备的光学系统
本专利技术涉及一种包括影响偏振的布置的光学系统，特别是用于EUV微光刻的投射曝光设备。
技术介绍
例如从DE102012206153A1中已知一光学系统，该光学系统包含用在EUV微光刻的投射曝光设备中的影响偏振的布置。特别是，从DE102012206153A1中已知的是，影响偏振的布置用于通过以布儒斯特角的两次反射使入射的非偏振光偏振。在这种情况下，光通过布置彼此平行布置的两个单独反射镜而线偏振，其使入射的非偏振光在各个情况下连续偏转90°。在此，入射光的原始光束方向会维持不变，因为各发生90°的两次相反方向的光束偏转。根据DE102012206153A1，多个这样的反射镜对靠近彼此布置。此外，反射镜对可以实施为在各个情况下都可以单独旋转，以便能够设定反射光的偏振方向。
技术实现思路
本专利技术的目的是发展光学系统，该光学系统包括在引言中提及类型的影响偏振的布置，使得优化以下性能：1.)旨在减小或最小化影响偏振的布置的所不期望的遮蔽；和/或2.)旨在改进机械和热稳定性；特别是，旨在使影本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种EUV中操作的微光刻投射曝光设备的光学系统，包括：/n至少一个影响偏振的布置(124、224、324、424、524、624、724)，至少具有一个第一双反射表面单元和一个第二双反射表面单元(128、228、328、428、528、728)；/n其中所述至少两个双反射表面单元各具有第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)和第二反射表面(128.2、228.2、328.2、428.2、528.2)；/n其中在相同的双反射表面单元内，在各个情况下所述第一反射表面和所述第二反射表面相对于彼此以距离d1且以0°±10°的角度直接相邻地布置；/n其中，所述第一双...

【技术特征摘要】
20190109 DE 102019200193.91.一种EUV中操作的微光刻投射曝光设备的光学系统，包括：
至少一个影响偏振的布置(124、224、324、424、524、624、724)，至少具有一个第一双反射表面单元和一个第二双反射表面单元(128、228、328、428、528、728)；
其中所述至少两个双反射表面单元各具有第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)和第二反射表面(128.2、228.2、328.2、428.2、528.2)；
其中在相同的双反射表面单元内，在各个情况下所述第一反射表面和所述第二反射表面相对于彼此以距离d1且以0°±10°的角度直接相邻地布置；
其中，所述第一双反射表面单元的第一反射表面和所述第二双反射表面单元的第二反射表面相对于彼此以距离d2且以0°±10°的角度直接相邻地布置；
其中在操作所述光学系统期间，在所述第一反射表面上入射的光(125、225、325、425、525)与所述第一反射表面形成的角度为43°±10°；以及
其中在操作所述光学系统期间，将在所述第一双反射表面单元的第一反射表面上入射的光朝向所述第二双反射表面单元的第二反射表面反射；以及
其中，以下是成立的：d2＞5*d1。


2.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述影响偏振的布置(124、224、324、424、524、624、724)具有至少十个双反射表面单元(128、228、328、428、528、728)。


3.根据权利要求2所述的光学系统，其中，所述双反射表面单元(128、228、328、428、528、728)中的第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)和第二反射表面(128.2、228.2、328.2、428.2、528.2)交替布置且以交替距离d1和d2进行布置。


4.根据前述权利要求中任一项所述的光学系统，其中，所述影响偏振的布置(124、224、324、424、524、624、724)：
绕旋转轴线是可旋转的，所述旋转轴线平行于在操作所述光学系统期间在所述第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)上入射的光(125、225、325、425、525)的光传播方向(z)延伸，和/或
被配置为使得能够将所述影响偏振的布置从在操作所述光学系统期间在所述第一反射表面上入射的光的光束路径中移除。


5.根据前述权利要求中任一项所述的光学系统，其中至少一个所述双反射表面单元(128、228、328、428、528、728)中的第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)和第二反射表面(128.2、228.2、328.2、428.2、528.2)布置在单片元件(128、228、328、428、528a、528b、528c、728)的两个侧表面。


6.根据权利要求5所述的光学系统，其中，所述单片元件(128、228、328、428、528a、528b、528c、728)的至少一个非反射式侧表面(457a、457b、557c)平行于在操作所述光学系统期间在所述第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)上入射的光(125、225、325、425、525)的光传播方向(z)布置。


7.根据权利要求1、2、3或4中任一项所述的光学系统，其中，双反射表面单元(128、228、328、428、528、728)的第一反射表面(128.1、228.1、328.1、428.1、528.1)和第二反射表面(128.2、228.2、328.2、428.2、528.2)布置在不同元件(528d)处。


8.根据前述权利要求中任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员：M帕特拉，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE