用于将物场成像至像场的成像光学单元制造技术

一种用于将物场(4)成像至像场(8)的成像光学单元(7)。在此处，多个反射镜(M1至M10)用以沿成像光束路径引导成像光(3)。多个反射镜(M1至M10)包含用于掠入射的数个反射镜(GI反射镜)(M2至M8)，其偏转具有大于45°的入射角的中心物场点的主射线(16)。GI反射镜(M2至M8)中的至少两个配置于成像光束路径中作为基本GI反射镜(M2至M7)，使得其偏转效果针对主射线加总。至少一个另外的GI反射镜(M2至M8)配置在成像光束路径中作为反GI反射镜(M8)，使得其偏转效果相对基本GI反射镜(M2至M7)的偏转效果以减法的方式对主射线(16)作用。这产生了成像光学单元，其相对于成像光学单元的反射镜的反射镜主体所要求的安装空间的配置灵活性增加。

Imaging optical unit for imaging object field to image field

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于将物场成像至像场的成像光学单元本申请要求德国专利申请案DE102017216893.5的优先权，其内容以引用的方式并入本文。本专利技术关于用于将物场成像至像场的成像光学单元或投射光学单元。此外，本专利技术关于包含此成像光学单元和照明物场的照明光学单元的光学系统(物场位于其中或其与物场重合)、包含此光学系统和EUV光源的投射曝光装置、使用此投射曝光装置产生微结构或纳米结构部件的方法、以及使用此方法所产生的微结构或纳米结构部件。一开始所提出的类型的投射光学单元已揭露于WO2016/166080A1(特别是其中根据图26以后的实施例)、JP2002/048977A、US5,891,806(其描述“接近式类型”投射曝光装置)、以及揭露于WO2008/141686A1及WO2015/014753A1。本专利技术的目的为发展在一开始所提出类型的成像光学单元，使得相对于成像光学单元的反射镜的反射镜主体所要求的安装空间，增加了其配置灵活性。根据本专利技术，此目的由具有在权利要求1所述特征的成像光学单元来实现。根据本专利技术，已认识到使用至少一个反GI本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于将物场(4)成像至像场(8)的成像光学单元(7；19；20；21)，/n-包含用以沿成像光束路径从该物场(4)至该像场(8)引导成像光(3)的多个反射镜(M1至M10)，/n-其中该多个反射镜(M1至M10)包含用于掠入射的数个GI反射镜(M2至M8)，其偏转具有大于45°的入射角的中心物场点的主射线(16)，/n-其中所述GI反射镜(M2至M8)中的至少两个配置于该成像光束路径中作为基本GI反射镜(M2至M7；M2至M4，M6至M8)，使得其偏转效果针对该主射线(16)加总，/n-其中至少一个另外的GI反射镜(M2至M8)配置在该成像光束路径中作为反GI反射镜(M8；M5)，使得...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170925 DE 102017216893.51.一种用于将物场(4)成像至像场(8)的成像光学单元(7；19；20；21)，
-包含用以沿成像光束路径从该物场(4)至该像场(8)引导成像光(3)的多个反射镜(M1至M10)，
-其中该多个反射镜(M1至M10)包含用于掠入射的数个GI反射镜(M2至M8)，其偏转具有大于45°的入射角的中心物场点的主射线(16)，
-其中所述GI反射镜(M2至M8)中的至少两个配置于该成像光束路径中作为基本GI反射镜(M2至M7；M2至M4，M6至M8)，使得其偏转效果针对该主射线(16)加总，
-其中至少一个另外的GI反射镜(M2至M8)配置在该成像光束路径中作为反GI反射镜(M8；M5)，使得其偏转效果相对该基本GI反射镜(M2至M7；M2至M4，M6至M8)的偏转效果以减法的方式对该主射线(16)作用。


2.如权利要求1所述的成像光学单元，其特征在于刚好一个反GI反射镜(M8；M5)。


3.如权利要求1或2所述的成像光学单元，其特征在于多于三个基本GI反射镜(M2至M7；M2至M4，M6至M8)。


4.如权利要求3所述的成像光学单元，其特征在于刚好六个基本GI反射镜(M2至M7；M2至M4，M6至M8)。


5.如权利要求1至4中任一项所述的成像光学单元，其特征在于该反GI反射镜(M8)为在该成像光束路径中在该像场(8)上游的最终GI反射镜。


6.如权利要求1至4中任一项所述的成像光学单元，其特征在于至少一个另外的基本GI反射镜(M6至M8)仍配置于该成像光束路径中的该反GI反射镜(M5)的下游。
...

【专利技术属性】
技术研发人员：J鲁奥夫，S贝德，HJ罗斯塔尔斯基，A沃尔夫，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE