本发明涉及掩膜版，具体涉及一种掩膜版局部图形位置偏差补偿方法，设计测试图形，并对测试图形进行曝光，收集图形位置偏差数据；基于图形位置偏差数据得到反向补偿数据；对反向补偿数据进行处理，形成补偿Map；将补偿Map合并至光刻机的机台Map中...

本技术公开了一种掩模版清洁搭载装置，包括底座、搭载立柱、搭载垫块和支撑立柱；支撑立柱呈平行状设置有若干根；支撑立柱底端与底座上表面一侧边固接，支撑立柱顶端呈倾斜向上延伸并至底座上表面中部位置上方；搭载立柱顶端与支撑立柱顶端固接，搭载立柱...

本技术公开了一种大尺寸掩膜版清洗承载装置，包括一支撑底座，在支撑面上虚设一平面坐标系，在支撑面上设置有若干横边支撑柱安装孔和纵边支撑柱安装孔；第一象限、第二象限、第三象限和第四象限内均设置有横边支撑柱安装孔和纵边支撑柱安装孔，且横边支撑...

本技术涉及掩模版表面处理技术领域，公开了一种掩模版在进AOI时的风淋吹扫装置，包括AOI壳体以及通过设备夹具夹持的掩膜版，所述AOI壳体内腔设置有喷气装置且喷气装置内腔设置有离子发生装置，所述喷气装置配合离子发生装置喷出带离子的气流，减...

本发明公开了一种掩膜版多角度图像的关键尺寸优化方法，首选利用带胶测试版，设计19组不同角度的斜缝，各角度的角度斜缝CD记为CD<subgt;i°</subgt;，然后以0°斜缝CD为基准，统计剩余18组角度斜缝CD与0°斜缝...

本发明公开了一种半色调掩膜版的清洗方法，包括有步骤一，使用第一混合溶液对半色调掩膜版进行清洗；步骤二，使用第二混合溶液对经过步骤一清洗的半色调掩膜版进行清洗；步骤三，使用超声波对经过步骤二清洗的半色调掩膜版进行清洗；步骤四，使用去离子水...

本发明公开了一种掩模版涂胶机的涂胶喷头清洁装置，包括一清洗平台

本实用新型公开了一种便捷式版材清洁工具，包括底座

本实用新型公开了一种多工位掩膜版暂存装置，包括若干存版机构，存版机构上包括有相对设置的两存版工位，相对设置的两存版工位之间连接有换位机构；换位机构包括一转轴，转轴一端连接有换位驱动组件；存版工位上设置有上夹板机构和下夹板机构，上夹板机构...

本实用新型公开了一种用于掩膜版的下料搬运夹具，包括一纵向柱杆和两横向柱杆，纵向柱杆与掩膜版长度方向平行，横向柱杆与掩膜版宽度方向平行；纵向柱杆的两端分别固接有纵向卡爪，两横向柱杆的两端分别固接有横向卡爪，纵向卡爪和横向卡爪均包括握柄、与...

本发明公开了一种半色调掩膜版透过率测量方法，半色调掩膜版上，一个视野范围内，具有相邻的全透区、不透区和半透区，测量方法为:首先，在半色调掩膜版两侧分别无接触的设置激光发射器和激光接收器；然后仅打开激光发射器，使得激光发射器发射的激光穿过...

本实用新型公开了一种便捷式版材上料装置，包括底座、设置在所述底座上的电动转盘、固定在所述电动转盘上的上料支撑组件、以及与所述底座滑动连接的用于对所述上料支撑组件进行支撑的旋转支撑组件。四组支撑组件实现对版材四个侧边的支撑，在进行支撑前，...

本实用新型公开了一种掩膜版外包装箱，包括分离设置的折叠底托、中间箱体和顶盖，中间箱体设置在折叠底托上并被顶盖扣盖，顶盖内径与中间箱体外径相适应；折叠底托包括叉车托盘、固定在叉车托盘上的缓冲底板和固定于缓冲底板上的固定底板，固定底板上，沿...

本实用新型公开了一种大尺寸掩膜版光刻胶烘干装置，包括密封的烘烤室，烘烤室内设置有掩膜版支撑架、下烘烤组件、上烘烤组件和换气组件，下烘烤组件和上烘烤组件分别设置于掩膜版支撑架的下方和上方，掩膜版支撑架与上烘烤组件和下烘烤组件之间分别留有上...

本实用新型属于光刻技术领域，公开了一种适用于小尺寸掩膜版的固定治具，包括对称设置的第一夹爪、可移动的第二夹爪和连接块，待固定掩膜版置于第一夹爪和第二夹爪之间，并被第一夹爪和第二夹爪由两相对的侧面固定；第一夹爪朝向待固定掩膜版的侧面上设置...

本实用新型公开了掩膜版支撑结构及掩膜版清洗支撑组件，掩膜版支撑结构包括安装部和支撑部，支撑部与安装部固接且包括若干相离的支撑齿，支撑齿上向上的齿面为支撑面，支撑面呈倾斜状设置，被支撑的掩膜版边沿搭接在支撑面上，支撑面由掩膜版边沿向掩膜版...

本实用新型公开了一种光刻机大理石机台自动清洁装置，包括清洁机构、X向移动装置、Y向移动装置和Z向移动装置，清洁机构与X向移动装置连接，X向移动装置包括X向横梁和安装于X向横梁上且独立控制的第一X向移动装置和第二X向移动装置；第一X向移动...

本实用新型公开了一种掩膜版自动仓储装置，包括暂存料架和取料机构，暂存料架包括料架本体和设置在料架本体上的若干放版工位；放版工位沿料架本体高度方向设置有若干层，沿料架本体长度方向设置有若干个，沿料架本体宽度方向设置有一层；放版工位上沿料架...

本实用新型公开了一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，包括与待显影蚀刻掩膜版尺寸相适应的显影蚀刻腔，显影蚀刻腔顶部设置有腔口，腔口上设置有腔盖；显影蚀刻腔内设置有若干喷嘴和用于放置待显影蚀刻掩膜版的升降托台，喷嘴后部连接有显影液罐、蚀刻液...

本实用新型公开了一种掩膜版观察辅助装置，包括用于夹持掩膜版的夹持装置，夹持装置包括安装底板、升降支撑座和两夹持臂，升降支撑座置于安装底板上方并连接有升降机构，两夹持臂分别设置在升降支撑座两侧并分别连接有移动驱动机构，升降机构包括平行设置...