本发明涉及线宽测量误差补偿，具体涉及一种用于CD测量机的线宽测量误差补偿方法，控制检测点位置不变，同时不断改变光源高度，得到光源高度与待测线宽之间的关系，建立模型对光源高度与待测线宽之间的关系进行拟合，得到拟合结果，利用电荷耦合器件对待...

本发明公开了一种掩膜版批量临时存储装置，包括横截面呈U型框状结构的存储架，所述存储架上呈上下位置设置有若干存储层，所述存储层包括分别设置在所述存储架两相对的内侧面上的固定导梁，两所述固定导梁上设置有移动架，所述移动架沿所述固定导梁轴线方...

本申请属于掩模版生产技术领域，尤其涉及一种去除框胶的方法及用于去除框胶的装置。本申请的去除框胶的方法，预先将掩膜版和铝框进行固定，再使用切割刀具将铝框分离下来，再通过刮除刀具刮除聚乙烯框胶。具体地，该刮除刀具的刀刃与掩膜版的上表面平齐，...

本申请属于掩膜版生产设备技术领域，尤其涉及一种掩膜版存放装置。本申请的掩膜版存放装置，可通过调整两个夹持组件在对应的旋转组件上的旋转角度，实现对不同尺寸的铬版掩膜版的存放。各夹持组件均能在旋转组件上转动，且通过掩膜版的自重将两个夹持组件...

本发明实施例涉及光刻技术领域，公开了一种MMG掩模板的制作方法，该方法通过制作MMG掩模板的数据；分析数据中像素间隔值，将数据中X轴方向像素间隔值相同或/和Y轴方向像素间隔值相同的panel划分为同一曝光区域；将同一曝光区域内所有pan...

本申请属于掩模版生产技术领域，尤其涉及一种清洗保护膜残留胶印的方法及用于清洗残留胶印的装置。本申请的清洗保护膜残留胶印的方法，通过将掩膜版水平固定，可防止掩膜版在清洗时晃动导致掩膜版损伤；再通过提供干冰清洗机，便能通过‑78.5℃的干冰...