一种半色调掩膜版透过率测量方法技术

本发明专利技术公开了一种半色调掩膜版透过率测量方法，半色调掩膜版上，一个视野范围内，具有相邻的全透区、不透区和半透区，测量方法为:首先，在半色调掩膜版两侧分别无接触的设置激光发射器和激光接收器；然后仅打开激光发射器，使得激光发射器发射的激光穿过半透区；再然后打开激光接收器，激光接收器分别获得全透区、不透区和半透区透过的激光信号，分别记为A、B、C；最后计算半透区的透过率T，计算公式为：T＝[(C

【技术实现步骤摘要】
一种半色调掩膜版透过率测量方法


[0001]本专利技术属于掩膜版检测、测量领域，更具体的说涉及一种半色调掩膜版透过率测量方法。

技术介绍

[0002]半色调掩膜版(Half
‑
toneMask，缩写为HTM)是利用具有一定光学透过率的膜来实现部分透光功能的掩膜版，其作为先进的掩膜版材料，主要应用于TFT面板的生产。传统掩膜版在使用时对于特定波长的光只呈现透光与不透光两种效果。而半色调掩膜版则是在玻璃基板上经过多次溅射沉积形成半透膜和遮光膜两个膜层，然后通过两次光刻制程形成包含全透光、完全不透光、和部分透光效果的图形结构。
[0003]透过率是半色调掩膜版上半透区透光效果的重要参数，是部分透光效果的重要参数，同时透过率是指导半色调掩膜版加工的重要参数，在加工完成后，还需要对半透区的透过率进行测量和验证，使其满足客单要求。现有技术中透过率的测量因环境影响，测量精度低，误差大，严重影响半色调掩膜版的加工与生产，影响半色调掩膜版的品质。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种半色调掩膜版透过率测量方法，测量操作简单快速，测量精度高，且全程无接触测量，能够满足半色调掩膜版高精度加工要求。
[0005]本专利技术技术方案一种半色调掩膜版透过率测量方法，所述半色调掩膜版上，一个视野范围内，具有相邻的全透区、不透区和半透区，
[0006]测量方法为:首先，在半色调掩膜版两侧分别无接触的设置激光发射器和激光接收器；然后仅打开所述激光发射器，使得所述激光发射器发射的激光穿过所述半透区；最后打开所述激光接收器，所述激光接收器分别获得所述全透区、所述不透区和所述半透区透过的激光信号，分别记为A、B、C；最后计算所述半透区的透过率T，计算公式为：T＝[(C
‑
B)/(A
‑
B)]×
100％；
[0007]所述激光波长为I线365nm、H线405nm或G线435nm。
[0008]优选地，所述激光发射器前部设置有准直透镜组；所述激光发射器发射出的激光经过所述准直透镜组准直后，由所述半透区的中间位置垂直穿过。
[0009]优选地，所述激光接收器设置有三个，分别朝向所述全透区、所述不透区和所述半透区，同时工作，且分别接收所述全透区、所述不透区和所述半透区穿过的激光信号。
[0010]优选地，所述激光接收器在所述激光发射器发射的激光光源能量稳定后再开启。
[0011]本专利技术技术方案一种半色调掩膜版透过率测量方法的有益效果是：测量操作简单快速，全程无接触测量，能够满足半色调掩膜版高精度加工要求。同时采用光电信号进行测量，测量精度高，对测量工具和环境要求较低。
附图说明
[0012]图1为本专利技术技术方案的半色调掩膜版结构示意图。
[0013]图2为按照本专利技术技术方案测量的半色调掩膜版透过率实验结果图；
[0014]其中，图2中Y轴代表半透区测量结果，X轴代表测量的次数；
[0015]NO.是X轴代表的测量次数；Voltage(mV)列数值是激光接收在半透区接受到的电压信号能量C，Trans(％)列数值是半透区透过率T。
具体实施方式
[0016]为便于本领域技术人员理解本专利技术技术方案，现结合具体实施例和说明书附图对本专利技术技术方案做进一步的说明。
[0017]由半色调掩膜版自身决定，在一张半色调掩膜版上具有全透区、不透区和半透区，测量时，确保半色调掩膜版上，一个视野范围内，具有相邻的全透区、不透区和半透区。如图1所述，具有半色调掩膜版01，全透区04、不透区03和半透区02。
[0018]本专利技术技术方案一种半色调掩膜版透过率测量方法，具体步骤为:
[0019]首先，在半色调掩膜版两侧分别无接触的设置激光发射器和激光接收器，激光发射器和激光接收器均不与半色调掩膜版的版面接触，避免对半色调掩膜版造成损伤或携带脏污粘附上半色调掩膜版版面上，同时也避免激光发射器和激光接收器距离半色调掩膜版的版面距离过大，造成激光能量损失。一般的激光发射器和激光接收器距离半色调掩膜版版面10厘米左右较佳。
[0020]然后仅打开激光发射器，使得激光发射器发射的激光穿过半透区。为提高测量精度，在激光发射器前部设置准直透镜组，对激光发射器发射出的激光进行准直，然后激光发射器发射出的激光经过准直透镜组准直后，由半透区的中间位置垂直穿过。同时，为提高测量精度，在激光发射器启动后10分钟左右在进行测量工作，使得激光器发射出的激光能量稳定。
[0021]然后，在激光接收器在激光发射器发射的激光光源能量稳定后开启激光接收器。激光接收器分别获得全透区、不透区和半透区透过的激光信号，分别记为A、B、C；最后计算半透区的透过率T，计算公式为：T＝[(C
‑
B)/(A
‑
B)]×
100％。激光接收器接收激光并将激光光信号转化为电信号，最后将电信号输送至控制器，实现计算。
[0022]本方案中，通过计算公式T＝[(C
‑
B)/(A
‑
B)]×
100％对半色调掩膜版上半透区的透过率进行计算，有效的消除了测量时因不透区透过的少量激光对测量结果带来的影响，使得半透区透过率测量精度高。
[0023]本方案中，激光波长为I线365nm、H线405nm或G线435nm。
[0024]本方案中，为提高测量精度，消除激光发射器自身激光能够波动带来的影响，可以将激光接收器设置三个，分别朝向全透区、不透区和半透区，同时工作，且分别接收全透区、不透区和半透区穿过的激光信号。这样三个激光接收器同时分别接收全透区、不透区和半透区穿过的激光信号，消除了激光发射器工作时因激光能量波动带来的影响，提高测量精度。
[0025]为对上述测量方法进行验证，按照上述测量方法对若干不同透过率的半色调掩膜版的透过率进行测量。测量结果如图2所示：图2中Y轴代表半透区透过率测量结果，X轴代表
测量的次数。
[0026]本次实验，选用了5张不同透过率的半色调掩膜版进行依次测量，且每张半色调掩膜版至少测量两次，且两次测量条件一致。如图2中，第1、2、3次测量的是第一张半色调掩膜版，第4、5次测量的是第二张半色调掩膜版，第6、7次测量的是第三张半色调掩膜版，第8、9次测量的是第四张半色调掩膜版，第10、11次测量的是第五张半色调掩膜版。测量结构如图2中右侧表格所示。右侧表格中，NO.是X轴代表的测量次数；Voltage(mV)列数值是激光接收在半透区接受到的电压信号能量C，Trans(％)列数值是半透区透过率T。由图2中测量结果可知，每张掩膜版前后两次测量的结果基本一致，测量精度高。
[0027]本专利技术技术方案在上面结合实施例及附图对专利技术进行了示例性描述，显然本专利技术具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本专利技术的方法构思和技术方案进行的各种非实质性改进，或未经改进将专利技术的构思和技术方案直接应用于其它场合的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半色调掩膜版透过率测量方法，其特征在于，所述半色调掩膜版上，一个视野范围内，具有相邻的全透区、不透区和半透区，测量方法为:首先，在半色调掩膜版两侧分别无接触的设置激光发射器和激光接收器；然后仅打开所述激光发射器，使得所述激光发射器发射的激光穿过所述半透区；最后打开所述激光接收器，所述激光接收器分别获得所述全透区、所述不透区和所述半透区透过的激光信号，分别记为A、B、C；最后计算所述半透区的透过率T，计算公式为：T＝[(C
‑
B)/(A
‑
B)]
×
100％；所述激光波长为I线3...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪春杨，熊启龙，
申请(专利权)人：合肥清溢光电有限公司，
类型：发明
国别省市：