本实用新型专利技术公开了一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，包括与待显影蚀刻掩膜版尺寸相适应的显影蚀刻腔，显影蚀刻腔顶部设置有腔口，腔口上设置有腔盖；显影蚀刻腔内设置有若干喷嘴和用于放置待显影蚀刻掩膜版的升降托台，喷嘴后部连接有显影液罐、蚀刻液罐和纯水罐，喷嘴前端均朝向置于升降托台上的待显影蚀刻掩膜版；升降托台上升由腔口位置伸出，完成待显影蚀刻掩膜版上下料；本实用新型专利技术的小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，专用于小尺寸测试掩膜版的显影蚀刻生产，解决产线的拥堵问题，降低研发成本。降低研发成本。降低研发成本。
【技术实现步骤摘要】
一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备
[0001]本技术属于掩膜版加工设备领域，更具体的说涉及一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备。
技术介绍
[0002]光刻掩膜版(Photomask)也称光罩或MASK，是一种用于微电子制造过程中的图形转移工具或模版。通过曝光、显影以及蚀刻等工序，在玻璃铬版上制作需要的微观图形，主要应用于微电子平版印刷。在整个光刻掩膜版的制作流程大致分为铬版清洗，光刻胶涂布，烘烤，膜厚测量，光刻，显影，蚀刻，脱膜清洗，镜面清洗，缺陷检查，CD测量，TP测量，缺陷修补等环节。
[0003]光掩模版在曝光后需要经过显影/蚀刻/脱膜处理，在正常生产作业时，除正常量产的大尺寸光掩模版外，还有部分是新产品做的小尺寸测试掩膜版版，现在大尺寸掩膜版和小尺寸掩膜版均是放在显影机和蚀刻机中进行制作，显影每次需要63KG显影液，蚀刻每次需要蚀刻液38KG，消耗显影液和蚀刻液量多，成本高。另，随公司产能的不断提升，现场产品的流转经常出现拥堵以及生产设备的不断增加，若小尺寸测试版继续使用现有生产设备进行显影和蚀刻将会继续加剧产线的拥堵和影响出货的效率。此时提出一种能够专用于小尺寸掩膜版显影蚀刻的设备来解决日常的小尺寸研发测试掩膜版版的显影和蚀刻就非常急迫了，这样既可以解决产线的拥堵又可以提升生产效率，加快出货进度，同时还可有效的降低研发成本。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，解决
技术介绍
中提出的问题，专用于小尺寸测试掩膜版的显影蚀刻生产，解决产线的拥堵问题，降低研发成本。
[0005]本技术技术方案一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，包括与待显影蚀刻掩膜版尺寸相适应的显影蚀刻腔，所述显影蚀刻腔顶部设置有腔口，所述腔口上设置有腔盖；所述显影蚀刻腔内设置有若干喷嘴和用于放置待显影蚀刻掩膜版的升降托台，所述喷嘴后部连接有显影液罐、蚀刻液罐和纯水罐，喷嘴前端均朝向置于所述升降托台上的待显影蚀刻掩膜版；所述升降托台上升由所述腔口位置伸出，完成待显影蚀刻掩膜版上下料。
[0006]优选地，所述喷嘴至少设置有三个，且均固定在所述腔盖的内表面上，并分别与所述显影液罐、所述蚀刻液罐和所述纯水罐连通。
[0007]优选地，所述喷嘴以所述升降托台的中轴线呈中心对称状设置有三组，每组均包括有三个喷嘴；同一组中三喷嘴与所述升降托台的中轴线距离依次增大，形成内侧喷嘴、中间喷嘴和外侧喷嘴；所述显影液罐连接不同组中的外侧喷嘴、中间喷嘴和内侧喷嘴；所述蚀刻液罐连接不同组中的外侧喷嘴、中间喷嘴和内侧喷嘴；所述纯水罐连接不同组中的外侧喷嘴、中间喷嘴和内侧喷嘴。
[0008]优选地，所述显影液罐、所述蚀刻液罐和所述纯水罐均包括置于显影蚀刻腔外部的防腐罐体，所述防腐罐体底面设置有直接与所述喷嘴连通的出液口，顶面设置有补液口和进气口，所述进气口上连接有气泵和高压惰性气体罐；所述防腐罐体的外底面上设置有压力传感器。
[0009]优选地，所述腔盖的外面上连接有开盖机构，所述开盖机构包括与腔盖固接的立柱以及分别与立柱顶端和中部铰接的第一连杆和第二连杆；所述第二连杆另一端铰接有第一转轴，所述第一连杆另一端固接有第二转轴，所述第一转轴与所述第二转轴平行且轴线在同一水平面上，所述第二转轴上连接有旋转驱动组件，所述旋转驱动组件包括第一电机、由所述第一电机带动的主动小齿轮以及与所述主动小齿轮啮合的从动大齿轮，所述从动大齿轮与所述第二转轴固接。
[0010]优选地，所述升降托台顶面上均布设置有若干支撑柱，待显影蚀刻掩膜版置于所述支撑柱上；所述升降托台的底面上连接有升降装置，所述升降装置包括安装于显影蚀刻腔内底面上的升降电机和升降导套，所述升降电机顶部设置有升降托板，所述升降托板托起所述升降托台，所述升降导套内套设有升降导柱，所述升降导柱与所述升降托板固接。
[0011]优选地，所述升降托台上还连接有旋转装置，所述旋转装置包括与升降托台底面固接且轴线与升降托台中轴线重合的第一齿轮，所述第一齿轮上啮合有第二齿轮，所述第二齿轮上连接有第二电机，所述第二电机安装于所述升降托板上；所述升降托板上表面还固设有圆盘，所述第一齿轮套设在所述圆盘上。
[0012]优选地，所述显影蚀刻腔的底面设置为倾斜底面，所述倾斜底面的底端设置有排液口，所述排液口上连接有三排液管，三所述排液管分别连接显影液回收罐、蚀刻液回收罐和回收水罐；
[0013]所述显影蚀刻腔侧面还连接有排雾口，所述排雾口上连接有排雾泵，所述排雾泵出口上连接有集液箱，所述集液箱内呈上下位置交错设置有若干隔雾板，所述隔雾板呈倾斜状设置；所述集液箱上设置有进雾口、排气口和出液口，所述集液箱内底面设置为倾斜平面，所述出液口设置在所述倾斜平面低端，所述进雾口设置在所述隔雾板底部，所述排气口设置在集液箱顶部。
[0014]优选地，所述升降托台的上表面设置为凸面，所述支撑柱底部与所述凸面固接，顶部齐平。
[0015]本技术技术方案一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备的有益效果是：
[0016]1、通过设置待显影蚀刻掩膜版尺寸相适应的显影蚀刻腔，将研发测试的掩膜版置于本设备中进行显影和时刻，降低显影液和蚀刻液的用量，同时避免占用正常产线设备，避免造成产线拥堵，提高产线生产效率。
[0017]2、通过升降托台的升降，便于对测试掩膜版的上下料操作，简化设备，同时降低测试掩膜版上下料操作难度。
[0018]3、同时设置外侧喷嘴、中间喷嘴和内侧喷嘴，确保喷洒在测试掩膜版上的显影液、蚀刻液均匀，进一步降低显影液和蚀刻液的用量，降低研发成本。
附图说明
[0019]图1为本技术方案一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备结构示意图。
[0020]图2为本技术方案一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备轴测图。
[0021]图3为本技术方案一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备主视图。
[0022]图4为本技术方案中升降托台结构示意图。
[0023]图5为本技术方案中集液箱内部结构示意图。
[0024]图6为本技术方案一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备剖视图。
[0025]图7为本方案中一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备上下料状态示意图。
具体实施方式
[0026]为便于本领域技术人员理解本技术技术方案，现结合具体实施例和说明书附图对本技术技术方案做进一步的说明。
[0027]如图1所示，本技术技术方案一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，包括一反应罐10，反应罐10内设置有与待显影蚀刻掩膜版100尺寸相适应的显影蚀刻腔1。显影蚀刻腔1顶部设置有腔口，腔口上设置有腔盖8。显影蚀刻腔1内设置有若干喷嘴6和用于放置待显影蚀刻掩膜版的升降托台3。喷嘴6后部连接有显影液罐21、蚀刻液罐22和纯水罐23，喷嘴6前端均朝向置于升降托台3上的待显影蚀刻掩膜版100。升降托台3上升由腔口位置伸出，完成待显影蚀刻掩膜版上下料。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，其特征在于，包括与待显影蚀刻掩膜版尺寸相适应的显影蚀刻腔，所述显影蚀刻腔顶部设置有腔口，所述腔口上设置有腔盖；所述显影蚀刻腔内设置有若干喷嘴和用于放置待显影蚀刻掩膜版的升降托台，所述喷嘴后部连接有显影液罐、蚀刻液罐和纯水罐，喷嘴前端均朝向置于所述升降托台上的待显影蚀刻掩膜版；所述升降托台上升由所述腔口位置伸出，完成待显影蚀刻掩膜版上下料。2.根据权利要求1所述的小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，其特征在于，所述喷嘴至少设置有三个，且均固定在所述腔盖的内表面上，并分别与所述显影液罐、所述蚀刻液罐和所述纯水罐连通。3.根据权利要求2所述的小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，其特征在于，所述喷嘴以所述升降托台的中轴线呈中心对称状设置有三组，每组均包括有三个喷嘴；同一组中三喷嘴与所述升降托台的中轴线距离依次增大，形成内侧喷嘴、中间喷嘴和外侧喷嘴；所述显影液罐连接不同组中的外侧喷嘴、中间喷嘴和内侧喷嘴；所述蚀刻液罐连接不同组中的外侧喷嘴、中间喷嘴和内侧喷嘴；所述纯水罐连接不同组中的外侧喷嘴、中间喷嘴和内侧喷嘴。4.根据权利要求1所述的小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，其特征在于，所述显影液罐、所述蚀刻液罐和所述纯水罐均包括置于显影蚀刻腔外部的防腐罐体，所述防腐罐体底面设置有直接与所述喷嘴连通的出液口，顶面设置有补液口和进气口，所述进气口上连接有气泵和高压惰性气体罐；所述防腐罐体的外底面上设置有压力传感器。5.根据权利要求1所述的小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，其特征在于，所述腔盖的外面上连接有开盖机构，所述开盖机构包括与腔盖固接的立柱以及分别与立柱顶端和中部铰接的第一连杆和第二连杆；所述第二连杆另一端铰接有第一转轴，所述第一连杆另一端固接有第二转轴，所述第一转轴与所述第二转轴平行且轴线在同一水平面上，所述第二转轴...
【专利技术属性】
技术研发人员：魏晖，
申请(专利权)人：合肥清溢光电有限公司，
类型：新型
国别省市：
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