本发明专利技术属于显影装置技术领域，具体为一种用于大矢高柱面光刻胶显影的装置。包括支架，所述支架上设置有载物台，所述载物台的下方设置有显影池；所述支架上设置有驱动载物台摆动的第一驱动机构，所述支架上设置有驱动载物台远离或靠近显影池的第二驱动机构。本发明专利技术，通过在支架上设置第二驱动机构，能够更加稳定的将载物台放置到显影池之中，使显影池中的显影液与载物台上的光刻胶进行反应，通过设置第二驱动机构驱动载物台摆动，摆动的过程中可以将反应过后的杂质从光刻胶上的沟槽中甩出，使剩下的光刻胶能够进一步和显影液反应，加快了反应时间。应时间。应时间。
【技术实现步骤摘要】
一种用于大矢高柱面光刻胶显影的装置
[0001]本专利技术属于显影装置
，具体为一种用于大矢高柱面光刻胶显影的装置。
技术介绍
[0002]随着现代技术的发展，微透镜阵列光学元件已经广泛用于激光整形，均匀照明等多种场合。这是一种基于微透镜阵列的折射型光学元件，与衍射光学元件相比其光能利用率更高，不会产生多级衍射现象，因而在一些高端应用场景都被优先采用。在光刻机照明系统中，均匀照明是保证曝光线条线宽均匀一致的一项重要技术。通常，用于光刻机照明系统的匀光元件有积分棒、衍射光学元件和微透镜阵列。其中微透镜阵列出射孔径角较大，可以实现大面积照明，其匀光基于折射原理，能避免高阶衍射造成较大的能量损耗，而且能保持光的偏振特性。在匀光系统中，匀光主要是为了将能量分布不均的光束通过光班在焦平面叠加，变换为能量均匀的平顶光束。为了适应不同波段的激光经匀光后满足相应要求，激光往往需要经过匀片化和复杂的光学系统，而在复杂的光学系统中需要设计不同的通光口径和曲率半径的微透镜阵列，其中不乏需要大矢高柱面的微透镜阵列。而制作大矢高柱面微透镜阵列时，需要制作大矢高柱面的光刻胶，在光刻胶制作完成以后，需要对光刻胶进行显影，其中显影是为了准确的将掩模版图形复刻到光刻胶中，显影质量的好坏决定了微透镜的特征尺寸能否达到要求。
[0003]大矢高柱面的光刻胶显影过程中，显影液与光刻胶中的感光树脂发生化学反应，使光刻胶表面形成一道道沟槽，显影结束后用去离子水清洗反应后沟槽和光刻胶表面的残留物质。传统的显影工艺有：连续喷雾旋转显影、浸没式显影。连续喷雾旋转显影通常是将显影液以雾状形式喷洒到光刻胶上，同时光刻胶以一定的转速进行旋转显影，显影完成后并以等离子水清洗后旋转甩干。这种方法在显影时很难第一时间整个覆盖光刻胶表面，导致基片每个部位显影时间不一致，而且在旋转过程中，由于基片外环位置的线速度大，显影更快，显影后的图形均匀性差，对于显影大矢高的光刻胶来说不均匀性尤为明显，特别旋转清洗后，由于矢高过大，水很难从沟槽里甩出，并会在图形上留下放射状水波纹，对后续工序造成不良影响。浸没式显影是将整个光刻胶直接放进显影液中进行显影，这种方法虽然解决了光刻胶显影均匀性的问题，但是对于显影大矢高的光刻胶来说，由于显影时间太长，显影后残留物特别容易附着在光刻胶表面形成的沟槽中，哪怕利用超声清洗也很难去除干净，对后续工序有很大影响。
技术实现思路
[0004]本专利技术所要解决的技术问题是提供一种用于大矢高柱面光刻胶显影的装置，减小光刻胶与显影液的反应时间，方便清理沟槽中显影液与光刻胶中的感光树脂反应后产生的残留物质，并使显影后的基片表面干净且均匀性良好。
[0005]本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是一种用于大矢高柱面光刻胶显影的装置，包括支架，所述支架上设置有载物台，所述载物台的下方设置有显影池；
[0006]所述支架上设置有驱动载物台摆动的第一驱动机构，所述支架上设置有驱动载物台远离或靠近显影池的第二驱动机构。
[0007]进一步，所述支架包括设置在显影池两侧的支架，所述第一驱动机构包括设置在支架上的安装座，两个所述安装座通过第一丝杆和第一光杆连接，所述第一丝杆与两个安装座转动连接，所述第一光杆与两个安装座固定连接，所述安装座上设置有第一电机，所述第一电机的输出端与第一丝杆固定连接，所述载物台设置在第一丝杆和第一光杆的下方，所述载物台与第一丝杆螺纹连接，所述载物台与第一连接杆滑动连接。
[0008]进一步，所述第二驱动机构包括竖向设置在支架上的第二丝杆以及驱动第二丝杆转动的第二电机，所述第二丝杆与支架转动连接，所述支架上设置有滑槽，所述安装座上设置有滑块，所述滑块与滑槽滑动连接，所述滑块与第二丝杆螺纹连接。
[0009]进一步，所述第二电机设置在支架外侧，所述第二电机的输出端设置有主动轮，所述第二丝杆的下端设置有与主动轮配合的从动轮，主动轮和从动轮通过皮带连接。
[0010]进一步，所述支架上设置有第一限位块和第二限位块，所述安装座设置在第一限位块和第二限位块之间。
[0011]进一步，所述安装座上设置有喷淋装置。
[0012]进一步，所述喷淋装置包括设置在载物台上方的第三丝杆和第二光杆，所述第三丝杆与两个安装座转动连接，所述第二光杆与两个安装座固定连接，所述第三丝杆和第二光杆之间设置有喷淋管，所述喷淋管上有多个喷淋孔，所述喷淋孔与载物台相对，所述喷淋管与第三丝杆螺纹连接，所述喷淋管与第二光杆滑动连接，所述第三丝杆与设置在安装座上的第三电机的输出端固定连接。
[0013]进一步，所述喷淋孔沿喷淋管长度方向均匀布置。
[0014]进一步，所述载物台上表面与显影池的底面平行，所述载物台的上表面设置有滤液孔。
[0015]进一步，所述显影池外表面设置有出液口，所述出液口与显影池的内腔连通。
[0016]本专利技术的有益效果是：通过在支架上设置第二驱动机构，能够更加稳定的将载物台放置到显影池之中，使显影池中的显影液与载物台上的光刻胶进行反应，通过设置第二驱动机构驱动载物台摆动，摆动的过程中可以将反应过后的杂质从光刻胶上的沟槽中甩出，使剩下的光刻胶能够进一步和显影液反应，加快了反应时间。
附图说明
[0017]图1是本专利技术的结构示意图；
[0018]图2是本专利技术另一个视角的结构示意图；
[0019]图3是安装座与第二丝杠连接的示意图；
[0020]图4是支架与第二丝杆连接的剖视图；
[0021]图5是支架与第二丝杆连接的另一种剖视图；
[0022]图6是喷淋管的示意图；
[0023]图7是载物台的示意图；
[0024]附图标记：1
‑
支架；101
‑
第一限位块；102
‑
第二限位块；2
‑
载物台，201
‑
滤液孔；3
‑
显影池；301
‑
出液口；302
‑
堵头；4
‑
第一驱动机构；401
‑
第一丝杆；402
‑
第一光杆；403
‑
第一
电机；5
‑
第二驱动机构；501
‑
第二丝杆；502
‑
第二电机；503
‑
主动轮；504
‑
从动轮；505
‑
皮带；6
‑
安装座；601
‑
滑块；602
‑
滑槽；7
‑
喷淋装置；701
‑
第三丝杆；702
‑
第二光杆；703
‑
喷淋管；704
‑
第三电机；705
‑
喷淋孔。
具体实施方式
[0025]下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于大矢高柱面光刻胶显影的装置，包括支架(1)，所述支架(1)上设置有载物台(2)，所述载物台(2)的下方设置有显影池(3)；其特征在于：所述支架(1)上设置有驱动载物台(2)晃动的第一驱动机构(4)，所述支架(1)上设置有驱动载物台(2)远离或靠近显影池(3)的第二驱动机构(5)。2.如权利要求1所述的一种用于大矢高柱面光刻胶显影的装置，其特征在于：所述支架(1)上设置有位于显影池(3)的两侧的安装座(6)，所述安装座(6)可相对于支架(1)上下移动，所述第一驱动机构(4)包括设置在两个安装座(6)之间的第一丝杆(401)和第一光杆(402)，所述第一丝杆(401)与两个安装座(6)转动连接，所述第一光杆(402)与两个安装座(6)固定连接，所述安装座(6)上设置有可驱动第一丝杆(401)转动的第一电机(403)，所述载物台(2)设置在第一丝杆(401)和第一光杆(402)的下方，所述载物台(2)与第一丝杆(401)螺纹连接，所述载物台(2)与第一光杆(402)滑动连接。3.如权利要求2所述的一种用于大矢高柱面光刻胶显影的装置，其特征在于：所述第二驱动机构(5)包括竖向设置在支架(1)上的第二丝杆(501)以及驱动第二丝杆(501)转动的第二电机(502)，所述第二丝杆(501)与支架(1)转动连接，所述支架(1)上设置有滑槽(602)，所述安装座(6)上设置有滑块(601)，所述滑块(601)与滑槽(602)滑动连接，所述滑块(601)与第二丝杆(501)螺纹连接。4.如权利要求3所述的一种用于大矢高柱面光刻胶显影的装置，其特征在于：所述第二电机(502)设置在支架(1)外侧，所述第二电机(502)的输出端设置有主动轮(503)，所述第二丝杆(501)的下端设置有与主动轮(503)配合的从动轮(504)，主动轮(503)和从动轮(504)...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡廷晖，雷茸粮，何锡琴，谢超阳，
申请(专利权)人：成都同力精密光电仪器制造有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。