本发明描述不同类型及形式的吸附剂，如有用地用于气体供应包装中，所述气体供应包装包含盛放此吸附剂以将吸附气体存储于其上的气体存储及施配容器，及固定于所述容器以在其施配条件下从所述气体供应包装排放所述吸附气体的气体施配组合件。同样描述对应气...

本发明描述一种多孔膜，其包含以下各者：多孔膜的表面上的至少一个聚合特征，其中使用纳米级注入模制装置将所述至少一个聚合特征接合到所述膜。本发明的另一方面包含一种多孔膜，其包含以下各者：第一薄膜层；第二薄膜层；所述第一薄膜层与所述第二薄膜层...

本发明描述一种固体递送前驱物，其可用于挥发以产生用于气相沉积工艺的前驱物蒸汽。所述固体递送前驱物包括例如呈例如丸粒、薄片、小片、珠粒、圆盘或单块的形式的压实颗粒前驱物的固体本体。当利用于例如化学气相沉积、脉冲化学气相沉积或原子层沉积的气...

本发明实施例涉及一种用于基于衬里的压力配送设备的连接器。一种基于衬里的压力配送容器，包括基于连接器安装的探针，该探针被设置为使得汲取管坐靠在衬里配件的内表面上以用于密封功能。汲取管和探针可以包括增大的和/或匹配的流动区域。逆流防止元件可...

揭示一种纤维素碳热解材料，其可用作气体吸附剂以用于气体存储和递送装置、气体过滤器、气体纯化器和其它应用中。所述纤维素碳热解材料包含源于纤维素前体材料(例如微晶纤维素)的微孔碳。在吸附剂应用中，所述纤维素碳热解物可以(例如)微粒形式或单片...

本发明是一种气体纯化器，其例如在次大气压下自惰性气体及还原气体移除湿气及氧气。该纯化器可移除气流中百万分之一体积含量的湿气至低于万亿分之100，且具有较低压降及较陡穿透曲线。

本发明描述一种包含(i)内部块状石墨材料及(ii)外部碳化硅基质材料的碳化硅‑石墨复合物，其中所述内部块状石墨材料及外部碳化硅基质材料在其间的界面区域处彼此相互渗透，且其中石墨存在于所述外部碳化硅基质材料中的包含物中。此材料可通过在化学...

本发明提供一种用于衬底容器的清洗塔组合件。所述组合件可包含用于安装到衬底容器的底板的清洗接口本体，所述清洗接口本体包含基座部分及顶部部分。所述基座部分可包含基本上管状基座侧壁且所述顶部部分可具有定位于所述基座部分的顶部边缘上的顶部侧壁。...

本发明涉及一种用于衬底容器的衬底支撑组合件。所述组合件可包含一对衬底支撑柱，其各自包含多个架部件的堆叠及插入通过所述堆叠以将所述堆叠固定在一起的多个支撑杆。每一架部件可包含叶片部分，其具有第一及第二相对表面以及内及外周边。所述叶片部分的...

本发明涉及可用于在具有含锗材料的微电子装置上钝化所述含锗材料的组合物。

本发明描述了不同类型的流体供应组件，所述流体供应组件用于输送流体到流体利用设施，例如半导体制造设施、太阳能电池板制造设施及平板显示器制造设施。所述流体供应组件包含流体供应容器及多种配置的阀头，可用于构成特性为压力调节式及/或吸附剂式的流...

可通过射出模制金属浆料而形成用于半导体制造工业中的衬底容器及/或其部分。更特定来说，可通过射出模制含有镁或镁合金的金属浆料而形成此类衬底容器及/或其部分。与相当的由基于聚合物的材料形成的衬底载体相比，其中衬底容器的至少一部分由含有镁或镁...

本发明提供一种高压过滤器，其包含：第一壳体及第二壳体，其具有互补渐缩表面；垫圈，其位于所述渐缩表面之间；过滤器元件，其居中地安置于所述壳体内；及压缩轴环，其装配在所述第二壳体上方且旋拧到所述第一壳体上。还提供制成且使用高压过滤器的方法。

一种椭圆隔膜阀具有雕刻成主体及板的面的曲面。所述曲面具有椭圆形状且在所述主体及所述板彼此接合及紧固时界定卵形或蛋状阀室，其中隔膜包夹于所述主体与所述板之间。入口及出口在由所述阀室的长度界定的相对端处界定于所述主体的所述曲面中。流道界定于...

本发明描述精密玻璃模具，其通过用包含钛的涂层涂布由高纯度、细粒度石墨制成的模具而形成。在各种实施方案中，钛涂层用氧化钇(Y2O3)外涂以提供具有优异性能特性的高度精密玻璃模具。所得玻璃模具可用于形成具有高度光滑光洁度的玻璃制品，以用于例...

聚砜膜经改性使得单体接枝到所述膜的表面上。所述聚砜膜可通过使所述膜与接枝溶液接触并将所述膜暴露于通常在光谱的紫外部分内的电磁辐射来接枝。所接枝的所述单体通常是阴离子或阳离子的。所述接枝膜可用于从液体过滤杂质，例如带正电荷和带负电荷的粒子...

本文中描述一种热塑性混合灌封树脂、一种混合树脂灌封型膜、一种膜分离模块、一种流体分离装置、所述膜分离模块及所述流体分离装置的制造方法以及所述膜分离模块及所述流体分离装置的使用方法。所述混合热塑性灌封树脂包括：至少一个极性膜，其具有两个端...

本实用新型涉及一种用于验证流体处理系统的两个流体处理组件之间的牢固连接的连接验证工具。一种连接验证工具可包含测量仪部分，其经定大小以放置于连接到第二流体处理组件的第一流体处理组件上方以验证所述两个组件之间的牢固连接。如果所述第一流体处理...

本发明描述适用于多种衬底制品、结构、材料及设备的涂层。在各种应用中，所述衬底包含金属表面，所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物，其中所述金属表面经配置以在使用中与气体、固体或液体接触，所述气体、固体或液体与所...

本申请涉及用于提高离子注入系统中的离子源的寿命和性能的方法和设备，并提供一种离子注入系统和方法，其中，通过利用富含同位素的掺杂剂材料，来提高离子注入系统的离子源的性能和寿命，或通过利用具有可有效地提供这种提高的补充气体的掺杂剂材料来实现。