本发明描述一种防破损密闭包装，其包含：容器；罩盖，其经配置以与所述容器接合，使得所述容器及罩盖形成围封容积；及至少一个防破损机械紧固件，其与所述罩盖及容器协作以当以使所述围封容积与围绕所述密闭包装的周围环境隔离的密封状态接合所述容器及罩...

本发明涉及用以控制气载分子污染物的用于半导体工具及洁净室应用的过滤器。过滤匣系统包含：过滤匣，其具有非织纤维及至少一种吸附剂。在一些实施例中，所述过滤匣由大体上可燃材料构成以支持其终止服务破坏。

一种衬底容器(100)包含容座(105)及盖(110)。所述容座(105)包含用于支撑衬底的基底部分(115)及从所述基底部分(115)向上延伸的侧壁部分(120)。所述盖(110)在所述容座(105)上方界定封闭件。在一个实施例中，所...

本发明提供一种衬底保持器(110)，其呈现可适应上面的衬底对齐的位置的大变化的基本上均匀接触面(128)。允许所述均匀接触面(128)偏转并压缩以便消除衬底(114)被所述衬底保持器(110)损坏或被无意地夹紧于所述衬底保持器(110)...

本文描述聚乙烯薄膜和尤其超高分子量聚乙烯薄膜，其提供高空气渗透率并且具有疏水性。所述薄膜具有小孔隙并且适于通过曝光于γ辐射来灭菌。所述薄膜可通过涉及伸展所述薄膜和将疏水性单体接枝于所述薄膜表面上中的一或多者的方法来制备。可将全氟化单体、...

本发明揭示一种气体过滤器，其包含外壳，所述外壳包含安装部分及主要部分。所述安装部分经配置以将所述气体过滤器安装于装置的表面上。所述主要部分经配置以与所述装置的所述表面隔开而定位且从所述安装部分在水平方向上延伸。所述外壳具有入口及出口且界...

本发明提供用于从液体流过滤微粒的装置及方法。过滤器筒包含：外壳，其经配置以放置成与液体流同轴；及多个中空纤维过滤器构件，其安置于所述外壳内。中空纤维过滤器构件填装于所述外壳的一端处且经配置以经由表面能从所述液体流捕获微粒。所述过滤器筒可...

本申请描述了一种衬底部分上的复合原子层沉积ALD涂层及一种在衬底部分上形成经图案化ALD涂层的方法。在各种应用中，所述衬底部分包含金属表面，所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物，其中所述金属表面经配置以在使用...

本发明涉及一种衬底容器(1100)，其包含界定开口的壳(1105)及用于选择性地密封所述开口的门(1505)。悬臂式支撑托架(1120)支撑所述壳(1105)内的衬底(1115)。所述支撑托架(1120)包含支撑轴环(1300)，其用于...

本发明揭示一种流体阀(700)，其并入具有流体通道(766)的柱塞(760)。所述柱塞连接到耦合到薄膜(720)的(724)轴毂，此轴毂还包含流体通道(726)且所述柱塞与轴毂流体通道形成流体连通。所述轴毂流体通道贯通到阀腔穴(780)...

本发明涉及用于回收印刷电路板的系统及工艺，其中可再利用贵金属。所述系统通常包含若干模块以从所述印刷电路板系统地移除材料且将所述贵金属与所述材料分离。

本发明涉及一种具有整体非弧形顶表面状突部的静电吸盘，所述突部具有与椭圆的部分类似的边缘表面。所述突部的结构导致由所支撑衬底与所述吸盘之间的交互生成的微粒材料减少。通过改善所述突部表面的平滑化及平坦化来达成降低刮擦、打磨、磨损及微粒生成的...

本发明公开一种衬底容器(100)，其包含基底(105)及盖(115)。盖(115)配合基底(105)以界定封闭空间。互锁托架(405)的堆叠可安置于基底(105)内。每一互锁托架(405)包含嵌入凸缘(410)，其界定用于支撑衬底的配准...

一种用于防止液压连接器组件泄露的防转动装置。防转动装置的多个实施例提供机构，借此机构螺纹接合式连接器，诸如压缩配件，被允许在松开之后仅转动一圈的小部分。对于许多应用，松开的限制程度足以防止开始泄露。结构上，防转动装置可以包括固定至液压连...

本发明涉及压力调节器和流体供给封装包。一种流体供给封装包，包括：一个压力调节流体贮存和分配容器，一个阀头，适于分配来自该容器的流体，以及一个抗压力尖峰组件，适于对抗在流体分配的初期来自所述阀头的流体的流动中的压力尖峰。

本申请涉及用于改善注入束和源寿命性能的碳掺杂剂气体和协流。具体讲，本申请描述了离子注入的方法和系统，其中使用碳掺杂剂源材料实施碳掺杂。描述了各种气体混合物，包括碳掺杂剂源材料，以及用于所述碳掺杂剂的协流气体结合物。描述了在碳掺杂剂源材料...

本发明揭示一种衬底容器，其具有安装到偏置致动连杆组的衬底保持件及具有闩锁协助的门组合件。本发明揭示用于将所述衬底保持件偏置于衬底非接合位置中的各种配置。所述偏置帮助防止所述衬底保持件归因于摩擦力而意外停机，所述摩擦力原本可能抵消原本所依...

本发明涉及具有视需要氧化钇覆盖层的经AlON涂布的基质。具体讲，本发明公开一种位于陶瓷基质上的抗氟电浆涂层。在一个具体实例中，该组成物包括覆盖基质的约2微米厚的AlON涂层及视需要具有的覆盖该AlON涂层的约3微米厚的氧化钇涂层。

本发明涉及一种用于从微电子装置相对于氮化硅选择性去除p掺杂多晶硅(例如，硼掺杂多晶硅)的去除组合物及方法，所述微电子装置上具有所述材料。衬底优选包括高k/金属栅极集成方案。

本发明描述一种用于将气体输送到等离子体浸没枪的气体供应组合件。所述气体供应组合件包含：流体供应包装，其经配置以将惰性气体输送到等离子体浸没枪以用于产生惰性气体等离子体，所述惰性气体等离子体包含在离子布植操作中用于调制衬底的表面电荷的电子...