本发明揭示一种膜架传送机，其对膜架在膜架传送机内的跳动提供增强的预防。此外，防止跳动的结构还在装载到所述传送机中期间加强所述膜架的对准。此外，在某些实施例中，此类结构实现膜架的厚度与配准槽之间的较紧密公差配合，由此减少所述膜架与所述配准...

本发明提供与具有优良抗等离子体蚀刻性且可延长RIE组件的寿命的涂层有关的物件及方法。一种物件具有真空兼容衬底及上覆于所述衬底的至少一部分上的保护膜。所述膜包括含有钇的氟化金属氧化物。

本发明描述一种用于形成含钨膜的固体来源材料。所述固体来源材料为六羰基钨，其中钼的含量小于1000ppm。此固体来源材料可通过包含以下步骤的工艺形成：提供粒度小于5mm的粒状六羰基钨原料，其中小于15％的粒子具有大于1.4mm的粒度，且其...

本发明描述一种流体供应封装，所述流体供应封装包含流体存储与施配容器，及耦合到所述容器且经配置以达成在施配条件下从所述容器排放流体的流体施配组合件，其中所述流体供应封装在其上包含信息扩充装置，例如，快速读取QR码及RFID标签中的至少一者...

本申请涉及用于提高离子注入系统中的离子源的寿命和性能的方法和设备，并提供一种离子注入系统和方法，其中，通过利用富含同位素的掺杂剂材料，来提高离子注入系统的离子源的性能和寿命，或通过利用具有可有效地提供这种提高的补充气体的掺杂剂材料来实现。

本发明描述一种用于监测流体的多程池组合件，以及利用所述多程池组合件的流体处理系统及使用此多程池组合件来进行流体监测的相关联方法。所述多程池组合件通常用于例如监测气相沉积工艺反应物等流体处理操作中，所述气相沉积工艺反应物例如用于从羰基钨前...

本发明揭示一种前开口晶片容器，其具有容器部及门，所述门的尺寸适于闭合所述容器部的开口前部。所述容器部具有用于固持晶片且界定安放位置的搁架，且具有前向晶片支撑件及后向晶片支撑件以使晶片以所述安放位置上方的运输位置悬置于其间。冲击状态缓冲部...

本发明揭示一种用于从上面具有化学机械抛光CMP后残余物及污染物的微电子装置清除所述残余物及污染物的清洁组合物及方法。所述清洁组合物基本上没有碱金属氢氧化物、碱土金属氢氧化物及四甲基氢氧化铵。所述组合物实现了在不危害低k电介质材料或铜互连...

一种液压连接器组件和防转动带。用于防止液压连接器组件泄漏的防转动装置，防转动装置的多个实施例提供机构，借此诸如压缩配件的螺纹接合式连接器被允许仅在松开之后转动一圈的小部分。对于许多应用，松开的限制程度足以防止泄漏的开始。结构上，防转动装...

本发明揭示用于从上面具有等离子蚀刻后残余物的微电子装置清除所述残余物的清洁组合物及工艺。所述组合物实现所述残余物材料从所述微电子装置的高度有效清除，同时又不损坏也存在于所述微电子装置上的层间电介质、金属互连材料及/或帽盖层，所述残余物材...

本发明涉及一种衬底容器，其包含适于接收呈衬底堆叠的衬底的衬底支撑件，例如同心环。所述容器包含基底及顶盖以围封所述衬底堆叠。闩锁机构适于将所述顶盖闩锁到所述基底且将所述衬底堆叠固定于所述容器内。所述闩锁机构包含位于所述容器的外侧部分上的弹...

一种衬底容器包含：容器部分，其具有敞开侧或底部；及门，其用以将所述敞开侧或底部密封地闭合，所述门及所述容器部分中的一者界定接达结构。所述衬底容器另外包含止回阀组合件，所述止回阀组合件相对于所述接达结构进行保持以提供与所述衬底容器的内部的...

本发明提供一种用于存储及/或运输一或多个液浸管组合件的包装囊袋。所述囊袋包含前侧，所述前侧沿着第一密封边缘、第二密封边缘及密封端可密封地且固定地附接到背侧。所述前侧与背侧在与所述密封端相对的端处界定开口。多个焊接部在所述囊袋的长度的至少...

本文中提供例如用于储存或施配高纯度化学物的衬里以及制造此些衬里的方法。所述衬里抵抗应力引发裂口的形成。在一个方面中，所述衬里包含形成为能够保持液体的衬里的膜。所述衬里具有：对气体(例如，氧)的第一障壁层；对所述气体(例如，氧)的第二障壁...

公开了起泡点在约5.38巴(78psi)与11.03巴(160psi)之间的接枝、不对称、多孔的超高分子量聚乙烯膜。单体接枝到多孔聚合物膜表面，所述单体具有接枝到膜的一或多个表面的一或多个中性基团或离子交换基团。两种光引发剂的组合可用于...

本申请涉及衬底容器及用于密封该衬底容器的衬圈。一种具有改进的传导的衬圈和衬底容器。在一个实施例中，所述衬圈提供两条密封接触线。所述衬圈的凸缘部分提供第一密封接触线，并且提供与软衬圈材料的牢固但是半刚性的介接，其还可充当所述衬底容器的门与...

一种静电夹具，包含：一陶瓷结构组件；至少一电极，配置于该陶瓷结构组件之上；以及一表面介电层，配置于该至少一电极上方，该表面介电层被该电极中之一电压启动而形成一电荷以静电式地箝夹一基板至该静电夹具。该表面介电层包含：(i)一非晶氧化铝绝缘...

本发明描述使用固体掺杂剂磷及砷源及较高阶磷或砷植入源材料的设备及方法。在各种实施方案中，在离子源室中提供固体含磷或含砷材料以用于产生二聚物或四聚物植入物质。在其它实施方案中，通过使用反应器来分解气态含磷或含砷材料以形成用于离子植入的气相...

一种气体存储及分配器皿，其包含限定气体存储内部容积的器皿容器，及固定到所述器皿容器的阀头调节器组合件，所述阀头调节器组合件包含安置在所述器皿容器的所述内部容积中的单一气体压力调节器，及包含气动流量控制阀的阀头，其中所述单一调节器经配置为...

本发明是一种气体纯化器，其例如在次大气压下自惰性气体及还原气体移除湿气及氧气。该纯化器可移除气流中百万分之一体积含量的湿气至低于万亿分之100，且具有较低压降及较陡穿透曲线。