恩特格里斯公司专利技术

恩特格里斯公司共有644项专利

  • 本发明描述包含多孔氟聚合物薄膜及热稳定离子基团的过滤薄膜;过滤器及包含这些过滤薄膜的过滤器组件;制造所述过滤薄膜、过滤器及过滤器组件的方法;以及使用过滤薄膜、过滤器组件或过滤器以从流体去除非所需材料的方法。
  • 本申请案涉及用于衬底容器的吹扫连接器及模块。所述衬底容器包含板、壳体、连接器及密封件,其中所述连接器经由螺母螺合及紧固,且所述密封件接触所述壳体、所述板及所述连接器中的每一者。所述板具有容纳所述连接器的端及所述螺母的凹部。包含止回阀的可...
  • 本申请涉及一种汽化容器和方法。一种用于所述汽化容器的托盘,其包括具有侧壁、底板、延伸穿过所述底板的一或多个孔和延伸穿过所述底板且从所述底板延伸的管道的托盘。所述托盘被配置成支撑待汽化的固体试剂。一种组装所述托盘的方法,其包括形成具有所述...
  • 本发明揭示一种用于存储及施配试剂气体的气体供应容器,其包含过滤器,使得所述容器能够在其过滤之后以高纯度水平来输送所述试剂气体。所述过滤器包含多孔烧结主体,且在低压下,在以相对较低流动速率且伴随跨越所述过滤器的相对较低压降从所述容器输送期...
  • 描述包含多孔聚合中空纤维支撑物和过滤层的复合中空纤维滤膜;制造所述复合中空纤维和使用所述复合中空纤维作为滤膜的方法;由所述复合中空纤维制造过滤器组件或过滤器的方法;和含有所述复合中空纤维作为滤膜的过滤器组件和过滤器。
  • 本发明提供一种处理化学机械抛光CMP垫调节器的方法,其包含:提供包含调节器衬底和浆料的所述CMP垫调节器,所述调节器衬底是具有接合到所述调节器衬底的顶面且维氏硬度大于3,000Kg/mm
  • 本发明描述通过使用双(烷基芳烃)钼作为用于这类沉积的前体将钼材料沉积到衬底上的气相沉积方法,所述双(烷基芳烃)钼在本文中又称为(烷基芳烃)
  • 公开合成氨基碘代硅烷的方法。产生所公开氨基碘代硅烷的反应由下式表示:SiI
  • 本发明描述包括多孔聚酰亚胺膜和热稳定离子基团的滤膜;包括这些滤膜的过滤器和过滤器组件;制造所述滤膜、过滤器和过滤器组件的方法;和使用滤膜、过滤器组件或过滤器从流体去除非所需材料的方法。
  • 本申请描述了一种多孔基质过滤器及其制作方法。在各种应用中,衬底包含金属表面,所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物,其中所述金属表面经配置以在使用中与气体、固体或液体接触,所述气体、固体或液体与所述金属表面进行...
  • 本发明描述了多层涂层、涂有多层涂层的基板(即,物品)以及通过原子层沉积制备多层涂层的方法,其中所述涂层包括氧化铝层和氧化钇层。
  • 描述从聚合物表面,如从化学机械处理后清洁步骤中所使用的清洁刷的聚合物表面去除磨料颗粒的方法;以及相关的清洁溶液。
  • 本申请涉及配体改性的过滤材料、复合膜以及从液体组合物中减少金属的方法。本发明描述了包括多元醇配体(例如n‑甲基葡糖胺)和/或聚膦酸配体的过滤材料,其对于从流体中过滤金属或金属离子非常有效。所述过滤材料可以尤其适用于过滤碱性和酸性流体组合...
  • 本发明描述多孔经烧结金属体,制备和使用所述多孔经烧结金属体的方法,以及将所述多孔经烧结金属体用于包含过滤流体的商业应用,包含用于需要高效(高LRV)过滤的应用中的方法。
  • 本申请描述了一种衬底部分上的复合原子层沉积ALD涂层及一种在衬底部分上形成经图案化ALD涂层的方法。在各种应用中,所述衬底部分包含金属表面,所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物,其中所述金属表面经配置以在使用...
  • 本发明涉及一种化学品递送系统。所述化学品递送系统包含散装容器、运行/再填充腔室、第一导管及第二导管。所述散装容器存储前体。所述运行/再填充腔室包含多个间隔开的管,所述多个间隔开的管具有多个表面,所述多个表面用于以蒸汽形式接收所述前体并以...
  • 本发明是针对一种汽化器或安瓿组合件,所述组合件具有改进的汽化器器皿主体和位于其中的支撑托盘组合件配置,它们一起增加了可汽化材料利用率和均匀性。
  • 本发明描述一种用于将包括惰性气体和含氟气体的气体递送至等离子体浸没枪的气体供应组件,其中所述组件被配置成将体积不超过所述含氟气体和所述惰性气体的总体积的10%的所述含氟气体递送至所述浸没枪。所述含氟气体可自所述等离子体浸没枪中的材料沉积...
  • 本申请涉及用于选择性蚀刻氮化钛的组合物和方法。本发明提供可用于从上面具有氮化钛和/或光致抗蚀剂蚀刻残余物材料的微电子器件相对于金属导电材料例如钴、钌和铜以及绝缘材料而言选择性去除氮化钛和/或光致抗蚀剂蚀刻残余物材料的组合物。所述去除组合...
  • 一种用于净化气流的主动湿式洗涤过滤系统,其包括包含以下一或多个的组件:a)涡流设备,所述涡流设备将含污染物气流诱导到螺旋流中;b)初始洗涤液喷洒部分,所述初始洗涤液喷洒部分被配置成将洗涤液喷雾喷射到所述含污染物气流中;c)吸收结构;d)...