本发明提供一种等离子体处理装置，其包括：等离子体处理腔室；基片支承部；下部电极；RF电源；电磁体单元；和上部电极组件，所述上部电极组件包括绝缘板、气体扩散板和上部电极板，所述上部电极板具有：位于所述电磁体单元的外侧的至少1个制冷剂入口和...

本发明提供一种基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括：构成为能够减压的处理容器；载置台，其设置于所述处理容器的内部，具有能够载置基片的基片载置面；和矩形框状的整流壁，其设置成在所述基片载置于所述基片载置面时能够包围所述基片的外周，...

本发明涉及基板处理装置。提供一种能够抑制基板粘着于舟皿的技术。本公开的一技术方案的基板处理装置具备：第1舟皿，其将基板保持为搁板状；第2舟皿，其设为与所述第1舟皿同轴，并将基板保持为搁板状；以及驱动机构，其使所述第1舟皿和所述第2舟皿同...

本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。局部地且容易地调整基板的周端部的处理状态。基板处理装置构成为包括：处理容器，其容纳基板；载物台，其设于所述处理容器内，具有载置所述基板的载置区域；气体供给部，其供给处理气体，以对载置于所述载置区域的...

本发明提供一种等离子体源和等离子体处理装置。等离子体源具有：第1腔室，构成为形成扁平的第1等离子体生成空间，并具有构成第1腔室的多个壁中的面积最大且相对的第1壁和第2壁；气体供给部，构成为能够向第1腔室内供给气体；电磁波供给部，在设置于...

基板处理系统具备测定装置、搬送装置、图制作装置以及评价装置。测定装置测定由对基板进行第一工序的处理的第一处理装置进行第一工序后的基板的错误。搬送装置在包括第一处理装置、第二处理装置以及所述测定装置的多个装置间搬送基板，该第二处理装置对基...

提供一种喷淋板,其具有设于处理容器的上部的板状部件,多个第一孔部,其与上述喷淋板内的第一流路连通；喷淋板具有:多个第一腔室阀,其设于多个上述第一孔部；多个第二孔部,其与上述喷淋板内的第二流路连通；多个第二腔室阀,其设于多个上述第二孔部；...

本实用新型涉及加热装置。提高对基板进行加热并使在该基板形成的涂布膜干燥这样的加热处理的面内均匀性。一种加热装置，其对基板进行加热处理，其中，该加热装置包括：热板，其供基板载置，对该载置的基板进行加热；气体流入部，其使气体向所述热板的上方...

本发明提供等离子体处理装置、等离子体处理装置中使用的上部电极组件及其制造方法和再生方法。等离子体处理装置包括：等离子体处理腔室；配置在等离子体处理腔室内的基片支承部；配置在基片支承部内的下部电极；导电性部件，其配置在基片支承部的上方，具...

本发明涉及基板保持件和基板处理装置。提供一种能够抑制基板粘着于舟皿的技术。本公开的一技术方案的基板保持件具备：第1舟皿，其将基板保持为搁板状；以及第2舟皿，其设为与所述第1舟皿同轴地相对于所述第1舟皿相对地升降，并将基板保持为搁板状，所...

本发明对能够更可靠地保持基板而抑制基板的位置偏移的基板输送装置和基板输送方法进行说明。基板输送装置包括以保持基板的方式构成的基板保持部。基板保持部包括：以在载置面开口的方式设置的第1吸引孔和第2吸引孔；分别配置在第1吸引孔和第2吸引孔内...

本发明提供一种基板处理装置，抑制伴随微粒向基板上附着而产生的图案倒塌。本公开的基板处理装置是对湿润的状态下的多个基板统一地进行干燥处理的基板处理装置。实施方式所涉及的基板处理装置具备腔室、保持部、疏水化剂喷嘴、第一有机溶剂喷嘴、第二有机...

本发明提供一种基板处理方法。本公开的基板处理方法对湿润的状态下的多个基板统一地进行干燥处理。在第一配置工序中，将多个基板配置于腔室的贮存区域。第一置换工序在第一配置工序之后，对多个基板供给有机溶剂。第二配置工序在第一置换工序之后，将多个...

本发明提供一种部件的预热处理方法和基板处理装置，能够将配置于载物台的部件适当地进行预热来提高针对基板的处理的均匀性。在部件的预热处理方法中，将能够与基板处理装置的用于载置基板的载物台接触且能够相对于该载物台相对移动的部件进行预热。部件的...

本发明涉及加热装置和加热方法。提高对基板进行加热并使在该基板形成的涂布膜干燥这样的加热处理的面内均匀性。一种加热装置，其对基板进行加热处理，其中，该加热装置包括：热板，其供基板载置，对该载置的基板进行加热；气体流入部，其使气体向所述热板...

本发明提出基片处理装置和基片处理方法，其能够高精度地调节在基片表面形成的液膜的液量。基片处理装置包括：液处理部，其一边使基片旋转一边供给处理液，在基片的表面形成液膜；测量部，其测量向基片供给的处理液的温度；干燥处理部，其使形成有液膜的基...

本发明涉及清洗刷、基板加工装置以及基板加工方法。提供一种提高清洗刷对微粒的去除效率的技术。清洗刷对卡盘的吸附面进行清洗。所述清洗刷具备：刷台，其自所述卡盘的旋转中心线向径向外侧呈直线状延伸；以及多个接触部，其自所述刷台突出，并与所述吸附...

本发明涉及清洗刷、基板加工装置以及基板加工方法。提供一种抑制清洗刷妨碍清洗液的排出的技术。清洗刷对卡盘的吸附面进行清洗。所述清洗刷具备：刷台，其自所述卡盘的旋转中心线向径向外侧呈直线状延伸；以及多个接触部，其自所述刷台突出，并与所述吸附...

本发明涉及清洗刷、基板加工装置以及基板加工方法。提供一种使用清洗刷均匀地清洗卡盘的吸附面的技术。清洗刷对卡盘的吸附面进行清洗。所述清洗刷具备：刷台，其自所述卡盘的旋转中心线向径向外侧呈直线状延伸；以及多个接触部，其自所述刷台突出，并与所...

本发明提供改善温度控制性的成膜方法和热处理装置。成膜方法在热处理装置中执行，上述热处理装置包括处理容器、上述处理容器内的管状部件、对上述处理容器内进行加热的加热部和气体供给部，上述成膜方法包括：在上述管状部件内准备基片的工序；利用上述加...