本发明提供一种不会因异常放电产生问题，并且能够解决因附着在电极上的反应生成物而引起的问题的平行平板型等离子体处理装置以及等离子体处理方法。等离子体处理装置（１）包括：收容基板（Ｇ）的处理腔室（２）；在处理腔室（２）内相对设置的下部电极（...

本发明涉及等离子体处理装置和等离子体处理装置用的电极，对生成等离子体所消耗的高频的电场强度分布进行控制。等离子体蚀刻装置（１０）具有：在内部对晶片（Ｗ）进行等离子体处理的处理容器（１００）；上部电极（１０５）和下部电极（１１０），在处理...

本发明提供一种基板处理方法，能够防止对后续工序的处理产生恶劣影响。在基座（１２）载置晶片（Ｗ）之后，当缩小形成于上部光致抗蚀剂层（４０）的开口部（４１）的宽度时，仅对基座（１２）施加等离子体生成用的高频电力，由ＣＦ４气体和ＣＨ４气体产生...

本发明提供等离子体处理装置和等离子体处理装置用的电极，控制等离子体生成时所消耗的高频的电场强度分布。该等离子体处理装置用的电极为在利用高频能量生成等离子体、对晶片（Ｗ）进行等离子体处理的等离子体蚀刻装置（１０）中使用的电极，该电极具有：...

本发明提供液体处理装置及液体处理方法。即使提高基板的转速且以低排气量进行处理杯内的排气，也能够抑制排气气流的逆流，抑制雾沫再次附着于基板。该抗蚀剂涂敷装置在形成有下降气流的处理杯（３３）中对旋转的晶圆（Ｗ）涂敷抗蚀液，其中，包括：上侧引...

本发明提供一种基板处理装置，能够迅速地从载体向处理块转移基板。将在晶片搬入部（２１１）已转移晶片的载体（Ｃ）移载至退避用载置部（２２），并且将收纳有未处理的晶片（Ｗ）的新的载体移载至晶片搬入部（２１１），当将晶片（Ｗ）从该新的载体交接至...

本发明提供一种气密模块以及该气密模块的排气方法，能够不降低生产效率地防止在基板的主面形成的图案发生倾倒。基板处理系统的负载锁定模块（５）具有移载臂（３１）、腔室（３２）以及负载锁定模块排气系统（３４），在腔室（３２）内以与搬入到腔室（３...

本发明提供一种基板缓冲单元。该基板缓冲单元使向一个方向输送的基板临时退避，能够高效率地以空气清洗缓冲空间。该基板缓冲单元将在基板输送路径中输送的基板临时收容，使基板自上述基板输送路径退避，其中，包括：箱状的壳体，其上表面开放；载置部，其...

本发明提供一种成膜装置和成膜方法。该公开的成膜装置在真空容器的顶板上具有透射窗，利用透过该透射窗向基座上的晶圆照射光来测量所形成的膜的膜厚。具体地讲，膜厚测量系统包括：配置在透射窗的上表面上的３个光学单元；利用光学方式分别与各个光学单元...

本发明提供一种成膜装置和成膜方法。该成膜方法为了使基板按顺序位于用于分别供给多种反应气体的多个处理区域、设在上述处理区域之间的被供给分离气体的分离区域，使用于分别供给多种反应气体的多个反应气体供给部件以及用于供给分离气体的分离气体供给部...

本发明提供在开闭开口部的阀芯上安装加热器、且容易对该加热器供电的闸阀装置，该闸阀装置（１０）包括：用于开闭设在将相邻的两个空间隔开的壁上的开口部（１１２）的阀芯（１２）；使阀芯（１２）移动的阀芯移动装置（２０）；加热阀芯（１２）的加热器...

本发明提供能高效顺畅地进行分别回收在平流的输送流水线上供给到被处理基板的第１处理液而替换为第２处理液的动作、抑制产生显影斑的基板处理装置及基板处理方法。包括：基板输送路径，以平流输送被处理基板；第１处理液供给部件，向在基板输送路径中输送...

本发明涉及液处理装置、液处理方法和存储介质。本发明提供一种液处理装置，该液处理装置具备：具备在横方向上配置为一列的基板保持部的多个液处理部、这些液处理部共用的处理液喷嘴，目的在于抑制处理液从所述处理液喷嘴向基板落下，防止成品率降低。在横...

本发明提供一种成膜含锗膜的装置的使用方法，该使用方法按照以下顺序进行以下处理：第一成膜处理，利用ＣＶＤ在容纳于反应容器内的成品用被处理体上形成含锗的第一成品膜；第一清洁处理，对成膜副产物进行蚀刻；第二清洁处理，去除残留在反应容器内的锗；...

本发明提供一种硅成膜装置及其使用方法。该硅成膜装置的使用方法按照下述的顺序进行各种处理：用硅涂层膜覆盖反应管的预涂层处理、对产品用被处理体上的自然氧化膜进行蚀刻的蚀刻处理、在产品用被处理体上形成硅产品膜的硅成膜处理、以及对反应管上的硅膜...

本发明提供一种基板处理装置，能够在发生相对其他批次优先进行处理的特急批次的情况下，缩短该特急批次的基板等待处理开始的待机时间。对载体移载机构（３）进行控制，使得当收纳有优先进行处理的特急批次的基板的特急载体（Ｅ）被搬入载体搬入部（２２５...

本发明提供一种搬送腔室和颗粒附着防止方法，其能够不损害被处理基板地对被处理基板进行除电，防止由静电力造成的颗粒向被处理基板的附着。在基板处理系统（１）中，在基板处理部（２）和大气系统搬送部（３）之间设置的搬送腔室（４）具备收纳作为被处理...

本发明提供一种显影装置、显影处理方法和存储介质。在将显影液供给至形成有抗蚀剂膜、进行过曝光处理的基板的表面进行显影处理时，即使为表面疏水性高的基板，也能抑制基板表面的显影液的液体飞溅和液体弹起，使显影液与基板在面内均匀接触。从显影液喷嘴...

本发明提供一种立式热处理装置用的构成构件、立式热处理装置及保温筒。用于通过堆积方式形成由金属氧化物构成的高电介质膜的立式热处理装置包括：反应容器，构成为以使多个被处理基板上下设有间隔地层叠的状态收纳该多个被处理基板；支承构件，用于在反应...

本发明提供一种成膜装置及其使用方法。成膜装置的使用方法在反应室内以主清洁处理和后清洁处理这样的顺序进行主清洁处理和后清洁处理。主清洁处理一边对反应室内进行排气、一边将含氟的清洁气体供给到反应室内从而对含硅的成膜副生成物进行蚀刻。后清洁处...