本发明提供一种转接单元内置型真空互锁室。真空互锁室（１０），具备转接单元，该转接单元在与晶片盒载置部（１１）不同的缓冲台配置部（１３）与自动搬送半导体晶片（Ｗ）的ＲＧＶ（４０）对应地设置，保持多个在ＲＧＶ（４０）和每个探测室（２０）之间...

本发明以提高磁控管的寿命为目的，提供一种磁控管的寿命判定方法。本发明的微波发生装置，具备：具备包括灯丝（７８）的阴极（８０）和包括空腔谐振器（８４）的阳极（８２）的磁控管（７４）；灯丝的电流测定部（１００）；求出在灯丝上施加的电压的电压...

本发明提供一种等离子体处理装置，其即使在发生处理异常等的情况下也能够抑制生产率的降低。该等离子体处理装置设置有根据处理条件对被处理体（Ｇ）进行等离子体处理的处理室，该等离子体处理装置具有：存储有与处理条件不同的多个再处理条件的存储部；以...

本发明提供一种等离子体蚀刻方法和等离子体蚀刻装置。该等离子体蚀刻方法，能够以形状性能良好且高蚀刻率对被蚀刻膜进行蚀刻从而形成高深宽比的孔。当通过等离子体蚀刻在蚀刻对象膜形成孔时，接通等离子体生成用高频电力施加单元，在处理容器内生成等离子...

本发明提供一种处理液供给系统和处理液供给方法。在对使用规定的处理液的装置供给存储在罐内的上述处理液的处理液供给系统中，在对上述装置供给处理液时也能对上述罐补充处理液，防止延长生产节拍时间。其包括：输出处理液的处理液存储罐；经由补充管路将...

本发明提供一种等离子处理装置。用于同时对多张被处理体实施等离子处理的立式等离子处理装置具有用于使处理气体等离子化的活化机构。活化机构包括：等离子体生成箱，其为纵长形状，与处理区域相对应地安装在处理容器上、且用于封闭与处理区域气密地连通的...

本发明提供一种提供在确保气体流路的设置空间方面不存在布局上的问题且能随着可动的电极移动、切实地供给气体的可靠性较高的气体流路结构体以及具有该气体流路结构体的基板处理装置。基板处理装置包括：对内部减压的处理室；以使配置在处理室内的对置电极...

本发明提供一种涂覆显影装置，其能够在装置发生故障时迅速地回收基板。该涂覆显影装置包括：载置收纳多个基板的载体并且交接机构能够进入上述载体的交接用载置部；载置上述载体的多个退避用载置部；和在这些退避用载置部与上述交接用载置部之间进行载体的...

本发明提供了不会产生电噪声和热斑的能够高精度地进行高可靠性的检查的被检查体的交接机构。本发明的交接机构（１０）构成为具备相互隔开规定的间隔横切载置台（２０）（载置体２２）地配置的两根具有绝缘性和耐热性的线材（１１）、将上述线材（１１）分...

本发明提供一种等离子体处理装置，其能够防止排气气流集中于形成在处理室中的多个排气口，能够使处理室内的排气气流均匀。该等离子体处理装置设置有将处理室（２００）内的等离子体生成区域和对处理室进行排气的排气通路隔开的隔挡部（３５０），挡板部由...

本发明提供一种修补方法，能够简易并且适当地对静电吸附电极的破损部位进行修补。其对裂纹（１００）的周围进行切削，形成锥状的凹部（５１）。然后使用喷镀装置（２０２）喷镀绝缘物（６０），从而埋住凹部（５１）。接着对埋入凹部（５１）中的绝缘物（...

膜沉积设备及方法、基片处理设备及计算机可读存储介质。一种膜沉积设备，其包括：转台，该转台在一表面中具有沿转台转动方向布置的基片收容部；用于供给第一反应气体的第一反应气体供给部；用于供给第二反应气体的第二反应气体供给部；分隔区域，其位于被...

本发明涉及基板清洗装置、基板清洗方法以及存储介质，具体而言，提供一种能够用海绵状刷子有效地除去附着在至少基板端面上的附着物的基板清洗装置。基板清洗装置（１）包括：旋转卡盘（３），其以能够旋转的方式保持基板（Ｗ）；马达（４），其旋转被保持...

本发明提供一种缓冲板以及基板处理装置，与现有技术相比能够实现处理均匀性的提高，缓冲板（５）具有多个排气孔（５ａ），且被设置在用于载置基板的载置台３的周围，该缓冲板（５）具有层叠结构，并且具备供给用于对处理腔室（２）内的压力进行调整的压力...

本发明提供一种处理装置。在内部具备以包围基板的方式配置的用于抑制方形基板的周边区域的负载效应的整流部件的载置台中，当对该基板进行蚀刻处理时，抑制由该蚀刻处理生成的生成物所造成的基板污染。在以包围基板的方式设置的整流部件的至少与该基板相对...

本发明提供一种可以减轻设置在被处理体周围的整流壁的弯曲的处理装置，向处理容器（２０）的内部供给处理气体，对载置台（３）上载置的被处理体（Ｓ），例如进行蚀刻等处理的处理装置（２）中，整流部件（５）构成为，连接有沿着被处理体（Ｓ）的各边延伸...

本发明提供一种显影处理方法和显影处理装置。所述显影处理方法是使被旋转卡盘（４０）水平保持的晶片（Ｗ）旋转并向该晶片表面供给显影液实施显影处理的显影处理方法，其中，在显影处理工序之前，进行预湿处理，在该预湿处理中，从位于旋转的衬底表面的中...

本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够在平流式的搬送线上顺畅有效地进行分别回收被供给至被处理基板上的第一处理液并置换为第二处理液的操作，抑制显影斑的产生。所述基板处理装置具备：包括第一搬送区间（Ｍ１）、第二搬送区间（Ｍ２）、第三...

本发明提供一种在升温后也将微波的传输路径保持为合适的状态的微波等离子处理装置以及微波的给电方法。微波等离子处理装置（１０）利用由径向线缝隙天线的缝隙板（２０５ｂ）放出的微波的电场能量激发气体来对基板（Ｗ）进行等离子处理，其中，微波等离子...

本发明提供一种气环、半导体基板处理装置及半导体基板处理方法。气环能从各气体喷出口均匀地喷出气体。气环（１１）为环状，包括：将气体从外部导入到气环（１１）内的气体导入口（１２ａ）、（１２ｂ）；喷出从气体导入口（１２ａ）、（１２ｂ）导入的气...