【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及向基板供给处理液而进行液处理的液处理装置、液处理方法和存储介 质。
技术介绍
在半导体制造工序之一的光致抗蚀剂工序中，在半导体晶片(以下称为晶片)的 表面涂敷抗蚀剂，将该抗蚀剂以规定的图案曝光之后显影形成抗蚀剂图案。这样的处理一 般通过连接有进行抗蚀剂的涂敷、显影的涂敷、显影装置和曝光装置的系统进行。该涂敷、显影装置设置有向晶片供给处理液而进行液处理的液处理模块。作为该 液处理模块，有例如供给显影液而进行显影的显影模块(显影装置)。显影模块具备保持晶 片得到基板保持部、排液部件和排气部件，具备包括以包围保持在该基板保持部的晶片的 方式设置的杯体的显影处理部。另外，显影模块还具备用于向所述晶片供给显影液的显影 液喷嘴、用于使该显影液喷嘴待机的待机部、在显影液供给后供给洗净液的洗净液喷嘴。为了提高生产量，有如下结构在该显影模块中将所述显影处理部在横方向配置 多个，在该显影处理部的配置方向的延长线上设置所述待机部，接着，各杯共用的显影液喷 嘴在各显影处理部的上方区域和待机部之间移动而供给显影液。此时，在向一个显影处理 部的晶片供给显影液的进行期间，在其他...
【技术保护点】
一种液处理装置，其特征在于，具备：多个液处理部，分别构成为在上侧形成有开口部的杯体中设置有将基板水平保持的基板保持部，并且所述多个液处理部在横方向上配置为一列；处理液喷嘴，其由这些多个液处理部共用，用于向基板供给处理液；待机部，其设置在所述液处理部的列的延长线上，用于使处理液喷嘴待机；移动部件，其使所述处理液喷嘴在所述液处理部的各自的上方区域与所述待机部之间沿着液处理部的列移动；和除液部，其在所述杯体的开口部间，设置于处理液喷嘴的移动路径的下方侧，与从通过所述移动部件移动的处理液喷嘴垂下的所述处理液的液滴接触，用于将该液滴从处理液喷嘴除去。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：泷口靖史，吉村好贵，宫田雄一郎，山本裕介，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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