光刻装置和器件制造方法公开了一种光刻装置，其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙，配置成通过所述出口排...

一种用于曝光基底的光刻装置和方法。照射系统提供辐射光束。带图案的光束被投射到基底的目标部分上。位移系统引起基底和光束之间的相对位移。设置所述投影系统，使得每条光束沿基底上的相应一条轨迹进行扫描。所述轨迹重叠，使得每条轨迹包括一个仅被一条...

一种光刻设备具有多个不同的对准装置，所述对准装置用于对相同的标记执行对准测量，通过：检测位于对象上的第一对准标记，并由第一检测器产生第一对准信号；检测所述相同的第一标记，并由第二检测器使用不同于所述第一检测器的不同的对准测量方式产生第二...

用于指示衬底上故障的方法和系统。本发明的方法包括以下步骤。确定数据是否包括至少一个可疑位。利用所述数据控制图案发生器。利用所述图案发生器使辐射束具有图案。将具有图案的辐射束中的特征投射到衬底的目标部分。将具有图案的辐射束中的一个或多个标...

在实施例中公开了一种压印方法，包括将衬底上的可压印媒介的第一和第二间隔目标区分别与第一和第二模板接触，以在媒介中形成相应的第一和第二压印，以及将第一和第二模板与被压印媒介分离。

一种投影装置（１）包括：用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用具根据所需图案对投影光束进行图案化。该装置设有用于固定衬底的衬底台（ＷＴ），用于将图案化光束投影到衬底的目标部分上的投影系统（ＰＬ）。该装置还设有用于在光刻投影装置...

多层反射镜包括位于多层反射镜顶部的光谱纯度增强层，其比如可用于ＥＵＶ光刻设备。这个光谱纯度增强层包括第一光谱纯度增强层，但是介于多层反射镜和第一光谱纯度增强层之间可存在有中间层或者第二光谱纯度增强层和中间层。因此，具有下列配置的多层反射...

一种光刻装置，其包括保持基底的基底台，参考结构以及测量基底台相对参考结构的位置的测量系统。该测量系统包括用于测量基底台相对中间结构的位置的第一测量系统，和用于测量中间结构相对参考结构的位置的第二测量系统。该中间结构与驱动机构连接或可与驱...

本发明公开了一种压印光刻，包括针和基板台，所述基板台配置成保持待压印的基板，其中针可在第一位置和第二位置之间移动，所述第一位置是在使用中所述针穿透基板上的可压印材料层的位置，所述第二位置是在使用中所述针从基板上的可压印材料层脱离的位置，...

一种传感器装置（１０）可用于测量被设置用于处理衬底的设备的特性，例如光学特性。该传感器装置包括衬底（１），其具有：被设置作为衬底中的集成电路的多个传感元件（２），对于该多个传感元件中的每一个，相关电子电路包括连接到该传感元件的处理电路（...

一种表征衬底的方法，所述方法包含：　　　　测量所述衬底上的位置，所述衬底上具有许多测量场并且每个场具有许多测量位置；　　　　至少基于测量场的数目、每个场的测量位置数目以及许多模型参数，计算估计方差；以及　　　　比较计算的估计方差和阈值量...

一种光刻装置，包括：保持基底的基底台，测量基底台的位置量的基底台位置测量系统，将带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统，将浸没液体提供到投影系统的下游透镜和基底之间的空间的流体供给系统，和测量流体供给系统的位置量的流体供给系统位置测...

一种使用光刻系统成像的方法包括将印刷在基底上的期望图案分解成能够使用光刻系统光学解析的至少两个组成分图案，在基底上涂敷位于目标层顶部上堆叠的两个硬牺牲掩模，所述掩模用期望密度的线图案对其构图。为了提供合适的蚀刻停止层，牺牲掩模层和目标层...

根据本发明一个实施例的一种（例如在包括用于支撑衬底的衬底台的光刻装置中）曝光衬底的方法包括，使用第一传感器和第二传感器来执行至少一个衬底的部分的第一和第二高度测量，基于测量值之差来产生并存储偏移误差地图；通过利用第一传感器执行高度测量，...

可使用具有至少一个对准标记和至少一个高度剖线图的校准板，来执行根据本发明的一个实施例的方法。首先，使用对准传感器来定位校准板。然后通过高度传感器来测量高度剖线图。然后，将校准板旋转达大致１８０度并重复这两个操作。该程序产生了两个测量的高...

本发明描述了用于测量目标位置的位置测量系统，该系统包括：第一增量测量单元，用于测量在基准框架和目标之间的间距中第一间距步长的第一数量，其中所述第一数量等于第一整数值加第一小数部分，以及第二增量测量单元，用于测量在基准框架和目标之间的间距...

一种依照一个实施方案的方法，包括用光探测装置从设置在校准基板上的多个标记结构组中得到校准测量数据。每个标记结构组包括使用工艺参数的不同已知值生成的至少一个校准标记结构。这种方法包括用光探测装置从设置在基板上、并用工艺参数的未知值加以曝光...

一种用于从光刻机具抽取多相流体流的真空系统（３０），包括用于从所述机具抽取所述流体的泵吸设备（３６、３８），以及设置在所述泵吸设备的上游、用于将从所述机具抽取的所述流体分离为气相及液相的分离罐（３２）。所述泵吸设备包括用于从所述罐抽取气...

公开了一种相对于基板的目标区域校准压印模板的方法，该方法包括在目标区域内沉积一定体积的可压印介质；使压印模板接触可压印介质，使得可压印介质被压制；和在目标区域和压印模板之间的界面张力的作用下，使压印模板、目标区域或两者彼此相互横向运动，...

公开了一种光刻设备，它设置成将图案从图案形成装置转移到衬底上，该设备包括：衬底台，它构建成固定衬底；第一夹紧系统，配置成将衬底台夹到衬底台支撑结构上；以及第二夹紧系统，配置成在衬底台已被夹到衬底台支撑结构上之后将衬底夹到衬底台上。