一种器件制造方法，包括如下步骤：　　　　提供至少部分覆盖一层辐射敏感材料的基底；　　　　利用辐射系统提供一束辐射投影束；　　　　利用其上图形由厚吸收体确定的反射性掩模使该投影束在横截面上具有上述图形；　　　　在辐射敏感材料层的目标部分上...

一种利用计算机模拟技术用于优化光刻照明条件的方法，所述光刻装置包括一个照明器以及一个投影系统，所述方法包括确定要印刷在基底上的光刻图案；选择模拟模型；选择照明器的光瞳平面中源点格栅；计算个别源点的单独响应，每个响应表示一个或一系列使用模...

一种器件检验的方法，该方法包括在器件上提供一个被检验的不对称标记，该标记的不对称形式由被检验的参数决定，引导光至标记，通过检测一个特定波长的衍射光或衍射角，获得标记的第一位置测量，通过检测一个不同波长的衍射光或衍射角，获得标记的第二位置...

本发明涉及一种用于传送物体（Ｗ）的传送设备，该传送设备包括一个用于以下至少一种操作的夹持器（１５），即在第一位置夹紧物体（Ｗ）并在接近接收装置（２０）的第二位置释放物体（Ｗ），以及在接近接收装置（２０）的第二位置夹紧物体（Ｗ）后，在第一...

一种尤其用于光刻装置中的控制器，它通过控制力来控制质量体如衬底台（１２）的位置。控制器可从所述质量体（１２）接收反馈位置信号，并根据所述反馈位置信号和所述控制力计算估计质量（＊）。然后，控制器利用所述估计质量（＊）和所需的质量加速度来确...

本发明涉及一种投影系统，包括至少一个投射装置（１０），该投影装置设置为接收来自第一物体（ＭＡ）的投射光束（ＰＢ），并将该投射光束投射到第二物体（Ｗ）上。投影系统（ＰＬ）进一步包括传感器（１１），该传感器用于测量至少一个投射装置（１０）的...

用于光刻设备的装载锁定装置，被设置用来把类似于基底（Ｗ）的物体转移到光刻设备和从光刻设备中转移出来。装载锁定装置的外壁（３８；４０）限定装载锁定装置容积的至少一部分，以便当物体在所述装载锁定装置中时，该容积可容纳支承物体（Ｗ）的支承部件...

一种光刻投影装置，包括具有聚光器的ＥＵＶ辐射源，该聚光器具有位于一凹表面上的第一反射器和位于一凸表面上的第二反射器，用于获得会聚的ＥＵＶ辐射光束。这些表面用于安装反射镜。这意味着聚光器下游的反射镜可以省略。

本发明涉及一种光刻投影组件，包括：至少两个装载锁闭装置，用于在第一环境与第二环境之间传送基底，第二环境具有比第一环境更低的压力；基底处理器包括：主要处于第二环境的处理室；光刻投影装置，包括投影室。处理室和投影室通过装载位置和卸载位置相通...

一种构造成分别支撑光刻基底（Ｗ）和光刻构图装置的载体，它包括：具有敞开的中空结构的第一部件（１１，１５），该敞开的中空结构向该部件（１０）的至少一侧敞开，其中，载体（１０）还包括与第一部件连接的第二部件（１２，１７），这样，该部件（１１...

本发明公开一种光刻投影装置和使用所述装置制造器件的方法，其中该装置包括在多个点测量晶片高度的水平传感器。该高度信息被送到利用从水平传感器的输入产生测量高度图的处理器。根据本发明，处理器还使用测量高度图来计算平均管芯构形，以便产生所述基底...

一种反转将被印刷到形成在基底上的辐射敏感材料层中的图像影调的方法，该方法包括：确定光刻问题；设计图案形成器件；确定能够印刷光刻特征正影调的第一照明排列和辐射敏感材料处理；以及确定用辐射敏感材料处理的能够印刷光刻特征负影调的第二照明排列。

在光刻投影装置中，用于测量投影系统ＰＬ相对于参考系ＲＦ的位置的测量系统包括相对于用于测量衬底台座ＷＴ位置的测量系统中对应传感器而刚性安装的传感器。角编码器将来自靶４１的光向下发送到对倾斜具有相反敏感性的两条光路中，用该角编码器测量投影系...

本发明涉及一种通过载荷贮存室（ＬＬ）在平版印刷图案形成室（ＰＣ）和第二环境之间转移物体（Ｗ）的方法。载荷贮存室（ＬＬ）形成有内部空间，该内部空间由形成在所述内部空间的壁而密封，载荷贮存室（ＬＬ）包括面向该平版印刷图案形成室的第一个门（１...

本发明涉及一种包括传感器的组件，该传感器用于测定光刻投影设备（１）中基板（Ｗ；１１）表面的倾斜度和高度其中至少一个。所述基板（Ｗ；１１）可以沿基本平行于基板表面的至少一个路径相对传感器移动。所述光刻投影设备具有曝光扫描方向（ｙ），该组件...

在ＥＵＶ投射系统中，测量和控制反射器彼此之间的位置，而不是反射器相对于参考框架的位置。可以通过干涉仪或安装在反射器的刚性延伸部分的电容传感器进行相对位置的测量。

本发明公开了一种光刻设备和一种装置制造方法。与具有等效的σ的圆形单极相比，带有平行于条形长度偏振的辐射的矩形或条形，轴上照明掩模提供了改进的焦深（ＤＯＦ）和曝光宽容度，并具有较少的透镜发热。

光刻投影组件，包括用于在第一环境和第二环境之间转移物体特别是基底的至少一个装载锁闭装置，第二环境优选具有比第一环境低的气压；包括处理室的物体处理器，在处理室中第二环境占优势；和包括投影室的光刻投影装置。所述处理室和投影室为了转移物体而相...

用来制造集成电路的微平版印刷装置例如投影步进机，其使光成形为以人字形照射系统将光掩模照射。该系统或者利用一个人字形孔眼掩模，或利用一些衍射光学元件，来使光源变成四个人字形（１１０ｂ，１２０ｂ，１３０ｂ，１４０ｂ）。这些人字形处在聚光镜圆...

一种光刻投影装置，包括被动式磁性轴承，其在光刻装置的第一和第二部件之间提供支撑并允许两个部件在垂直于支撑方向的方向上彼此相对地移动。所述被动式磁性轴承包括第一和第二磁体组件，其中每个磁体组件包括至少一个永久磁体。