一种具有掩模装置的光刻投影装置，所述掩模装置用于遮盖至少一个构图装置的部分，所述构图装置用于在投影光束将带图案光束成像在基底上之前对投影光束进行构图。所述掩模装置包括在第一方向遮盖所述构图装置的部分的第一掩模装置，以及在第二不同方向遮盖...

本发明涉及一种用于涂布ＥＵＶ平板印刷术基底的方法，包括在基底上涂布光刻胶层。本发明还涉及一种利用平板印刷投影设备的器件制造方法，其中该方法包括：提供一个基底，通过在基底上涂布光刻胶层使该基底至少部分被光刻胶层覆盖；利用辐射系统来提供射线...

一种光刻投影装置，包括可将衬底或掩模等固定成穿过光路的支撑台。支撑台具有支撑面和从支撑面上延伸出来的突起的阵列，以便将衬底等的背面支撑在突起上。设置了检测器来测量会影响衬底等的表面光洁度的各个突起的高度偏差。在去除装置具有足够的去除强度...

一种成像设备，包括：提供辐射的投影束的辐射系统；支承可编程的图形化装置的支承结构，该可编程的图形化装置用于根据所需的图形对投影束进行图形化；保持衬底的衬底台；将经图形化的束投影到衬底的目标部分上的投影系统，其中该设备进一步包括：分束装置...

在根据本发明一个实施方案的一种构造中，一种模块上的第一光栅补丁与另一种模块上的第一光栅补丁被对准。在此安排的一种不同的构造中，一种模块上的第二光栅补丁与另一种模块上的第二光栅补丁被对准。二种构造不同时存在。

一种径向横向电偏振器，包括具有第一折射率的第一材料层；具有第二折射率的第二材料层，以及以方位角和周期性方式间隔开并置于所述第一层和所述第二层之间的多个拉长元件。多个拉长的元件与辐射的电磁波相互作用从而透射辐射电磁波的横向电偏振。偏振器装...

一种光刻投射装置，包括具有有矩形截面的反射积分器的照明系统。提供一种光学元件以便重新分布射出反射积分器的强度分布。

一种湿浸式光刻装置，包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。

用于灯的保护罩，所述保护罩是柔性的并且由具有抗拉强度的材料制成，从而在放电灯被所述保护罩覆盖的时候，对于当所述放电灯破裂的时候产生的碎片，所述保护罩是不可穿透的。所述保护罩用来将所述放电灯安装到光源上，并在安装后将所述保护罩从所述灯移除。

为对特定应用最重要的这些像差要比对特定应用不太重要的像差给予优先补偿，在光刻投射装置中被使用这样一种制造方法。在具有接受图像的目标部分的衬底，按照所要的图案化应用赋予图案的掩模和将选择的辐射束投射在掩模上产生特定要求的图案化束从而在目标...

一种用于基于放电产生辐射源的装置，包括阴极和阳极。该阴极和阳极材料以流态提供。当装置在使用中时，材料形成等离子体箍缩。任选的是，可以使用喷嘴来提供该材料。阴极和／或阳极可形成平坦表面。可以延长材料的轨道。可以使用激光更容易地引起放电。可...

公开了一种光刻设备。该设备包括照明系统以提供辐射束，和用于支撑构图装置的支撑结构。构图装置用于在其剖面中给予辐射束图案。该设备还包括气体冲洗装置，用于将大量的层流气体冲过辐射束和／或沿着光学元件的表面冲过。气体冲洗装置包括单个排气口，在...

一个实施例中，前后侧对准光学系统用于投影位于基片后侧的标记。前后侧对准光学系统设置成可使投影到前后侧对准光学系统的图象窗口的图象是基片后侧的标记的平移复制。这样机构的一个潜在优点是光轴位置的任何轻微不准确不会导致基片标记的图象的不准确。...

光刻装置，包括基底台和用于控制基底台的移动的运动控制系统。该运动控制系统包括至少三个位置检测器，用于检测基底台的位置。为了测量基底台的位置和定向，每个位置检测器都包括一维或多维类型的光学编码器，这些光学编码器设置为共同提供至少六个位置值...

在光刻设备中，利用物体位置测量系统来测量物体在环境空间中的位置，所述物体位置测量系统会受到环境空间中压力变化的影响，可以利用精确测量环境空间中的压力来校正所述位置测量结果５。可以设置参考压力容积，所述参考压力容积包括连接到环境空间的具有...

为了补偿光刻投影设备中掩模的双折射，对掩模的双折射进行测量并将其作为双折射数据存储在数据存储装置中。将双折射补偿元件布置在光刻投影设备的光路中。按照所述调节能够在衬底级条件下最佳降低掩模双折射对极化状态的影响来确定对所述补偿元件的恰当的...

一种利用单独可控单元阵列的光刻设备，其中，把由所述单独可控单元阵列图案化的辐射束强度的一部分转移到图像传感器，用于检验产生的图像的质量。

利用折射光栅将辐射束分裂成多个子辐射束，把每一个子辐射束射向单独可控单元阵列从而对它们进行调制并把它们投射到衬底上形成斑点阵列。

本发明提供了一种去除包括光学元件的设备的光学元件上沉积物的方法，该方法包括在该设备的至少一部分内提供含有Ｈ↓［２］的气体；从含Ｈ↓［２］气体中的Ｈ↓［２］产生氢自由基；以及使具有沉积物的光学元件与至少部分氢自由基接触，并且去除沉积物的至...

一种光刻设备，包含支撑衬底的衬底平台，其中衬底在其表面上具有对准标记。该设备进一步包含可相对于衬底移动的框架，从而提供扫描工作模式或步进工作模式。投影系统阵列置于框架上，以将各个图形化射束投影到衬底的目标部分上。多个对准标记探测器被连接...