一种计量工具被布置为测量已经在光刻设备中提供有图案的衬底的参数。该计量工具包括底座、被构造和布置为支持衬底的衬底工作台、被构造和布置为测量衬底的参数的至少一个传感器、用于使衬底工作台和传感器的其中之一相对于衬底工作台和传感器的另外一个在...

一种反射镜阵列装置包括用来支撑多个单独可调的反射元件的承载体。至少一个执行器与各反射元件相关联，该执行器配置成可调整相关联的反射元件相对于承载体的取向或位置。该装置还包括与反射元件的至少一部分相接触的液体。

一种用于测量辐射束的相位分布和／或投射系统的光瞳分布的辐射分布测量系统包括透明承板、配置在透明承板第一侧的光栅和／或针孔、以及在透明承板对侧的摄像机。测量系统还包括在透明承板和摄像机之间的辐射滤波器，其透射率在滤波器中心处最低并向滤波器...

本发明提供一种光刻设备、像差校正装置和器件制造方法。在光刻时可用的像差校正装置包括可绕光轴相对转动的两个元件。每一个元件的一个表面具有可由高阶泽尔尼克多项式描述的球面形式。当将这两个表面转动对齐时，所述装置具有平板的光学效应。如果这两个...

一种光刻设备，包括：照射系统，用于调节辐射束；构图支架，用于支撑构图装置，所述构图装置对辐射束进行构图；衬底支架，用于支撑衬底；投影系统，用于把已构图的辐射束投影到所述衬底上；附加支架；以及柔性线路组件，用于对电流、信号和流体中至少一项...

一种系统和方法，用于补偿由照射束中的不同偏振方向所引起的临界尺寸的不均匀性。该系统包括照射系统、构图装置、以及投影系统。照射系统产生辐射的照射束，并包括辐射源和光学系统。辐射源产生辐射束。光学系统在周期的第一部分期间传输照射束的具有第一...

提供了一种浸没液体，包括：具有相对较高蒸汽压力的离子形成成分，例如酸或基剂。还提供了使用该浸没液体的光刻方法和光刻系统。

第一衍射级和第０衍射级都在散射仪中被检测。所述第一衍射级用于检测重叠误差。所述第０衍射级用于标记量值大于偏置但小于光栅的间距的检测值是否是错误的重叠误差计算。

一种液体浸没式光刻系统包括投影光学系统和喷洒头。所述投影光学系统被构造用于以图案化的辐射束对衬底进行曝光。所述喷洒头包括第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴和第二喷嘴被设置成在曝光操作过程中与衬底表面相隔不同的距离。

在光刻设备中，图案形成装置相对于支架的滑动可以通过以下方法来提供：测量支架相对于光刻设备的第一结构的位置；测量图案形成装置相对于光刻设备的第二结构的位置；根据由测得的支架位置、测得的图案形成装置的位置以及第一和第二结构之间的相互位置，确...

一种利用代表辐射源的波长改变的数据提供焦平面控制或提供传感器数据修正的方法和设备。在第一方面，波长变化数据被提供用于控制系统，所述控制系统通过移动包括例如掩模台、衬底台或投影光学系统的光学元件的设备部件控制聚焦。在第二方面，变化的数据用...

公开了一种用于屏蔽弧光灯的一部分以免受电磁辐射的盖子。所述盖子具有反射表面，所述反射表面由适用于反射电磁辐射的反射材料制成。

本发明公开了一种散射仪、一种测量设备以及一种聚焦分析方法，其中为了检测衬底是否位于散射仪的焦平面上，在预定值之上的所述辐射的横截面面积在散射仪的光学系统的后焦面之前和之后都被检测。在后焦面之前和之后的检测位置应当优选地为从后焦面沿着反射...

公开了一种用于浸没式光刻工艺的衬底支撑件，所述衬底支撑件构建用于支撑衬底。该衬底支撑件具有中心部分和外围部分，所述外围部分包括被设置用于从衬底支撑件的顶部表面提取液体的提取管道，所述提取管道连接到构造成将液体从衬底支撑件输出的排出管道。...

公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变...

公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变...

公开了一种光刻设备及其清洁方法。所述设备包括用于供给氢基团的源；用于与所述氢基团源结合使用的引导件，用于将氢基团引导到作为所述氢基团的目标的应用表面。所述引导件设置有具有低于０．２的氢基团复合常数的涂层。以这种方式，所述氢基团可以以较少...

本发明公开了一种检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法。具体地，本发明涉及为了确定衬底属性而进行的、对从衬底衍射的四个独立的偏振束的同时测量。圆偏振光源或椭圆偏振光源经由多达三个偏振元件通过。这将光源偏振化为０、４５、９０和１...

公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变...

公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变...