本发明公开了一种从用于光刻中的设备去除污染物的方法以及一种适用于从用于光刻中的设备去除污染物的衬底，所述方法包括：将衬底装载到所述设备中，所述衬底包括刚性支撑层以及设置在所述刚性支撑层上的可变形层；将所述衬底的所述可变形层与所述设备的表...

一种用于测量光刻投影设备的聚焦的方法，该方法包括曝光具有多个检验场的覆盖光刻胶的测试衬底。每一个检验场包括多个检验标识，并且使用预定的离焦偏置ＦＯ曝光所述检验场。在显影之后，测量对于每一个检验标识的对准偏离，并使用转置聚焦曲线将其转化成...

本发明公开了一种光刻设备、投影组件、组合装置以及主动阻尼方法。该光刻设备包括：照射系统，配置用于调节辐射束；支撑件，用以支撑图案形成装置；衬底台，构造用于保持衬底；以及投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。该光刻设备进...

本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。具体地，本发明公开在浸没光刻设备中应用电浸湿控制浸没液体的状态。

本发明公开了一种清洁设备以及一种包括用于清洁一个或更多个表面的设备的浸没式光刻设备。所述清洁设备用于清洁浸没式光刻设备的衬底或组件。清洁设备可以包括等离子体原子团源、导管和原子团限制系统。等离子体原子团源可提供原子团流。导管可将来自等离...

使用在产品上的对准标记测量产品的位置。辐射被朝向所述对准标记传送并由在对准标记中的图案衍射。从所述衍射的辐射的位相关系确定位置信息。所述对准标记包括一组相互平行的导体轨迹，从该导体轨迹中收集所述衍射的辐射，所述图案由作为沿着产品的表面的...

一种光刻设备包括工作台系统和工作台控制系统，所述工作台系统包括可移动工作台，所述工作台控制系统用于响应于设定点信号控制该工作台的位置。所述工作台控制系统包括反馈控制环和加速度前馈（ａｃｃｅｌｅｒａｔｉｏｎ　ｆｅｅｄｆｏｒｗａｒｄ），所述...

多次图案化工艺采用相变材料，该相变材料的部分可转化成无定形态，且随后选择性去除留下的部分，以提供具有特征间距的高分辨率图案特征，该特征间距小于例如在采用单次曝光的传统图案化层中可利用的最小间距。用于该工艺的光刻设备可包括具有单个照明装置...

本发明提供一种光刻设备，包括：液体供给系统，构造成在光刻设备的投影系统的下游光学元件和衬底之间供给浸没液体；和控制系统，其配置用于驱动衬底台以执行加速度曲线，将衬底台从第一方向上的第一速度加速到第二方向上的第二速度。该加速度曲线在时间上...

本发明公开了一种用于将包括要印制到晶片上的特征的目标图案分解成多个图案的方法。所述方法包括步骤：将所述目标图案分割成多个小块；识别每个小块内违反最小间隔要求的临界特征；为具有临界特征的所述多个小块中的每一个生成临界组图形，其中给定小块的...

一种光刻投影装置，包括： －用于提供辐射投影光束的辐射系统； －用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置用于根据所需图案来使所述投影光束形成图案； －用于固定衬底的衬底台； －用于将所述形成了图案的光束投...

使用一种相对侧上具有参考标记的透明校准基底对前后对准系统进行校准。插入一平板，使对准系统的焦点位置从校准基上表面移动到下表面。

一种平版印刷投影装置包括：　　　　通过从辐射源发射的辐射，形成辐射投影束的辐射系统，　　　　构成为支撑构图部件的支撑结构，由投影束辐射，用于对所述投影束进行构图，　　　　构成为支持基底的基底台，　　　　构成并布置为使构图部件的被辐射部分...

利用光刻投影设备确定杂散辐射条件的方法，该设备包括具有数值孔径ＮＡ的投影系统，所述方法包括以下步骤：　　　　－提供包含波长为λ的辐射的辐射投影束，　　　　－根据包含特征的图案将所述投影束图案化；　　　　－将图案化的辐射束投影到像平面上以...

一种检验方法，其包括以下步骤：　　　　用光刻装置将具有至少一个对称度的测试图案印制在基底上，所述测试图案对于所述光刻装置中可能存在的至少一种像差是敏感的；　　　　用散射计来测量所述测试图案的反射光谱；和　　　　由反射光谱获得到表示所述光...

一种检验方法包括：　　　　利用光刻装置将测试图案印制到基底上，该测试图案包括第一和第二图案成分的组合，所述第一图案成分与所述第二图案成分不同；　　　　利用光刻装置将第一和第二参考图案印制到所述基底上，所述第一和第二参考图案分别对应于所述...

一种光刻装置，包括：　　　　－　　辐射系统，用来提供投影辐射束；　　　　－　　支撑结构，用于支撑作图装置，所述作图装置用来按照所需的图形将投影束作出图形；　　　　－　　衬底台，用来保持衬底；　　　　－　　一个投影系统，用来将已作成一定图...

一种检测图案形成装置中的缺陷的方法，包括以下步骤：　　　　在光刻处理过程中，使用图案形成装置在基准衬底上印刷基准图形；　　　　在光刻处理过程中，使用图案形成装置在不同于所述基准衬底的生产衬底上曝光用于制造器件的图案　　　　在光刻处理过程...

一种光刻投影装置，包括：－构图装置，在使用中用来根据预期的图案作为构成图案的光束使投影光束形成图案；－保持基底的基底台（ＷＳ）；－基底对准装置（ＭＳ），用于检测所述基底相对于所述构图装置的位置；－所述基底包括至少一个光栅（ＭＡＲ），所述...

本发明涉及一种维护机器部件的方法，该机器部件设置在机器（１）的内部空间（１１），其中该内部空间（１１）保持第一压力（Ｐ↓［ｖａｃ］）并且通过装载闸（ＬＬ）和具有第二压力（Ｐ↓［ｅｎｖ］）的环境隔离。该方法包括：通过装载闸（ＬＬ）将机器部...