光刻设备、工作台系统和工作台控制方法技术方案

一种光刻设备包括工作台系统和工作台控制系统，所述工作台系统包括可移动工作台，所述工作台控制系统用于响应于设定点信号控制该工作台的位置。所述工作台控制系统包括反馈控制环和加速度前馈（ａｃｃｅｌｅｒａｔｉｏｎ　ｆｅｅｄｆｏｒｗａｒｄ），所述反馈控制环用于以反馈方式控制所述位置，所述加速度前馈用于产生向前传到所述反馈控制环的前馈信号。所述前馈信号从所述设定点信号导出。所述工作台控制系统被安排为将所述位置设定点信号修改为修改的位置设定点信号，所述反馈控制环的所述设定点输入安排为接收所述修改的位置设定点信号，所述修改的位置设定点信号安排为考虑所述工作台的非刚体行为。

【技术实现步骤摘要】

根据本专利技术的实施例，提供一种光刻设备，包括配置为调节 辐射束的照明系统；配置为支撑图案化装置的支撑，所述图案化装置能够 引入具有图案的所述辐射束，所述图案在所述辐射束的横截面中，以形成 图案化的辐射束；配置为保持衬底的衬底台；配置为将图案化的辐射束投 影到所述衬底的目标部分上的投影系统，及用于响应于设定点信号控制所 述支撑和所述衬底台中的一个支撑的位置的工作台控制系统，所述工作台 控制系统包括用于以反馈方式控制所述位置的反馈控制环，所述反馈控制 环具有设定点输入，及用于产生向前传到所述反馈控制环的前馈信号的加 速度前馈，所述前馈信号从所述位置设定点信号导出，其中所述工作台控 制系统被安排为将所述位置设定点信号修改为修改的位置设定点信号，所 述反馈控制环的所述设定点输入安排为接收所述修改的位置设定点信号，所述修改的位置设定点信号安排为考虑所述衬底台和所述支撑中的一个 的非刚体特性。图4描述根据本专利技术实施例和根据本领域状态的工作台定位的作为时间函数的轨迹误差。具体实施方式[00141附图说明图1示意性地描述根据本专利技术的一个实施例的光刻设备。该设备包括配置为调节辐射束B(如UV辐射或任何其它合适的辐射)的照明系统IL(照明装置)、图案化装置支撑或支撑结构(如掩模台)MT，该图案化装置支撑或支撑结构构造为支撑图案化装置(如掩模)MA并连接到第一定位装置PM，该第一定位装置PM配置为根据某些参数精确地定位该图案化装置。该设备还包括衬底台(如晶片台)WT或"衬底支撑"，衬底台或"衬底支撑"配置为保持衬底(如抗蚀剂涂敷的晶片)W并连接到第二定位装置PW，该第二定位装置根据某些参数精确地定位该衬底。该设备进一步包括投影系统(如折射投影透镜系统)PS，该投影系统配置为将图案投影在该衬底W的目标部分C(如包括一个或多个管芯)上，该图案通过图案化装置MA被引入(impart)到该辐射束B。参照图l，该照明装置IL接收来自辐射源SO的辐射束。例如当该源是受激准分子激光器时，该源和该光刻设备可是分离的实体。在这种情况中，不认为该源形成该光刻设备的一部分，且在束传输系统BD9的帮助下，该辐射束从该源SO通过而到达该照明装置IL，例如，该束传输系统BD包括合适的引导反射镜和/或束扩展器。在其它情况中，例如当该源是汞灯时，该源可是该设备的构成部分。该源SO和该照明装置IL可称之为辐射系统，如果需要可一起包括该束传输系统BD。根据本专利技术的实施例，修改该位置设定点信号，且该修改的位置设定点信号被提供给包括该控制器C的该反馈环。该修改的位置设定点信号考虑该工作台的非刚体特性。现在提供给该反馈控制环的该设定点已经适合考虑该工作台的柔性，这将避免控制误差中的快的瞬时现象(fasttransient),且因此避免在该工作台的控制和在该工作活动中的高频成分。将设定点信号修改成修改的设定点信号的设定点信号的修正可基本上等于由该加速度前馈的初始前馈导致的该工作台的变形。在一个实施例中，这种修正可被确定，以基本上对应于该前馈信号，该前馈信号由该加速度前馈提供，乘以设定点成形函数，以因此产生设定点成形信号。然后该设定点成形信号被加到由该设定点产生器SGP提供的设定点，该加的结果作为设定点信号被提供到该闭环控制环。在该实施例中，通过将设定点成形信号加到该设定点信号而产生该修改的设定点信号，不需要该设定点本身的修改，这提供与现有的设定点外形和用户设计的设定点外形的兼容性，并避免该设定点的程序设计员必须考虑这里描述的原则。根据较佳的实施例，通过根据该前馈信号确定该设定点成形信号，这被提供，即设定12点成形在该工作台的动态行为发生的情形下发生，如在该加速度前馈激活的情形下发生，因此提供便利且低的处理能力(processing power)需求方案 (inquiring solution),以修改该设定点信号。在另一个较佳的实施例中，通 过观察该工作台的定位误差可认为该加速度前馈信号乘该工作台的柔性 如非刚体特性引起了这个误差，可确定该设定点成形函数。知道了该加速 度前馈、该工作台转移函数的柔性部分和发生的误差后，现在本领域技术 人员可确定用于该设定点成形的转移函数，以基本上降低剩余误差。在该 工作台的共振频率基本上高于由设定点产生器提供的该设定点的谐波成 分的情形中，该设定点成形函数可近似为常数，这提供快且低的该设定点 成形函数的处理能力(processing power)需求定值(requiring determination)。这里使用的术语"辐射(radiation)"和"束(beam)"包含电磁辐射 的各种类型，包括紫外(UV)辐射(如具有365、 248、 193、 157或者126纳 米的波长)和极紫外(EUV)辐射(如具有l-20纳米范围内的波长)、及粒子 束，如离子束或电子束。[0042在环境允许的地方，术语"透镜(lens)"可涉及各种类型的光 学组件中的任一种或组合，包括折射的、反射的、磁的、电磁的和静电的 光学组件。[00431虽然上文己经描述了本专利技术的具体实施例，但应当理解，本专利技术可以除上述描述之外的方式实施。例如，本专利技术可采取计算机程序或 数据储存介质(如半导体存储器、磁盘或光盘)的形式，该计算机程序包含 机器可读指令的一个或多个序列，该序列描述上述公开的方法，该数据储 存介质具有如储存在其中的计算机程序。[00441上述描述是为了举例，而不是用于限制。因此，对上述描述 的本专利技术进行修改而不偏离下文提出的权利要求的保护范围，对本领域技 术人员来说是容易做到的。权利要求1. 一种光刻设备，包括照明系统，该照明系统配置为调节辐射束；图案化装置支撑，该图案化装置支撑配置为支撑图案化装置，所述图案化装置能够引入在其横截面具有图案的所述辐射束，以形成图案化的辐射束；衬底支撑，该衬底支撑配置为保持衬底；投影系统，该投影系统配置为将图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上，及工作台控制系统，该工作台控制系统配置为响应于位置设定点信号控制所述支撑中的一个支撑的位置，所述工作台控制系统包括反馈控制环，该反馈控制环配置为以反馈方式控制所述位置，所述反馈控制环具有设定点输入，及加速度前馈，该加速度前馈配置为产生向前传到所述反馈控制环的前馈信号，所述前馈信号从所述位置设定点信号导出，其中所述工作台控制系统被安排为将所述位置设定点信号修改为修改的位置设定点信号，所述反馈控制环的所述设定点输入安排为接收所述修改的位置设定点信号，所述修改的位置设定点信号安排为考虑所述支撑中的所述一个支撑的非刚体特性。2. 根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述工作台控制系统被安排 为，通过将设定点成形信号加到所述位置设定点信号上而产生所述修改的 设定点信号。3. 根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述工作台控制系统被安排 为，通过用设定点成形函数乘所述前馈信号而确定所述设定点成形信号。4. 根据权利要求3所述的光刻设备，其中所述设定点成形函数被选择 为用于补偿所述支撑中的所述一个支撑的定位误差，所述定位误差基本上等于所述前馈信号乘所述支撑中的所述一个支撑的转移函数部分，所述转 移函数部分用于模拟所述支撑中的所述一个支撑的所述非刚体特性。5. —种用于光刻设备本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，包括：　照明系统，该照明系统配置为调节辐射束；　图案化装置支撑，该图案化装置支撑配置为支撑图案化装置，所述图案化装置能够引入在其横截面具有图案的所述辐射束，以形成图案化的辐射束；　衬底支撑，该衬底支撑配置为保 持衬底；　投影系统，该投影系统配置为将图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上，及　工作台控制系统，该工作台控制系统配置为响应于位置设定点信号控制所述支撑中的一个支撑的位置，所述工作台控制系统包括：　反馈控制环，该反馈控制 环配置为以反馈方式控制所述位置，所述反馈控制环具有设定点输入，及　加速度前馈，该加速度前馈配置为产生向前传到所述反馈控制环的前馈信号，所述前馈信号从所述位置设定点信号导出，　其中所述工作台控制系统被安排为将所述位置设定点信号修改 为修改的位置设定点信号，所述反馈控制环的所述设定点输入安排为接收所述修改的位置设定点信号，所述修改的位置设定点信号安排为考虑所述支撑中的所述一个支撑的非刚体特性。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：毛里求斯GE斯克乃德斯，威廉姆斯FJ西蒙斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]