一种包括传感器的组件，其制造方法及光刻投影设备技术

本发明专利技术涉及一种包括传感器的组件，该传感器用于测定光刻投影设备（１）中基板（Ｗ；１１）表面的倾斜度和高度其中至少一个。所述基板（Ｗ；１１）可以沿基本平行于基板表面的至少一个路径相对传感器移动。所述光刻投影设备具有曝光扫描方向（ｙ），该组件设置为沿所述至少一个路径相对所述传感器连续移动该基板，并且提供有关沿所述至少一个路径的倾斜度和高度其中至少一个的测量信息。该组件包括用于存储所述测量数据的存储器（１０），以备所述光刻投影设备以后对所述基板曝光时使用。所述基板的所述至少一个路径至少部分地与曝光扫描方向成一角度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一组件，该组件包括可以测定光刻投影设备中基板表面的斜度和高度其中至少一个的传感器，该基板可以相对所述传感器沿与基板表面基本平行的至少一个路径移动，该光刻投影设备具有曝光扫描方向，该组件设置为相对所述传感器沿所述至少一个路径连续移动该基板，并且提供关于沿所述至少一个路径的所述斜度和高度其中至少一个的测量数据，该组件包括用于存储所述测量数据的存储器，以备随后所述光刻投影设备对所述基板曝光过程中使用。本专利技术还涉及一种光刻投影设备和制造一体化结构的方法。
技术介绍
所述基板的边缘轮廓形成基板上高度和斜度的测量可以进行的区域，与基板上高度和斜度的测量不可进行的区域之间的边界，特别是接近所述基板的外边界的地方。在光刻投影设备中，圆盘形物体(基板)放在投影光刻图形的位置上。为了防止像差，图形必须并非垂直于基板，在基板与投影光束成一角度(倾斜)的情况下投影到基板。为了获得基板倾斜度的信息，使用传感器进行测量扫描，以位置为函数绘出基板的斜度。然而，接近光刻投影设备基板的边缘，具有有限感应区域、后面称作点的传感器，不适用于测量目标部分的倾斜度，因为所述传感器的测量点延伸到边缘外部的区域，也称为焦点边缘间隙(FEC)，即轮廓边缘外部的区域。在这种情形中采用邻近的以前测量的基板区域的斜度。这种以前测量的所述基板的附近区域可以是目标部分附近，还可以是在上述相同目标部分中的邻近区域，在该处仍然可以可靠地实现倾斜度测量。然而，因为在测量倾斜度的区域与适用倾斜度的区域之间存在相对较大的距离，对于被曝光的目标部分或者部分目标部分有可能导致相当大的倾斜度误差，特别是基板朝边缘上斜或下斜时(边缘倾斜)。此时，基板的位置和其支撑结构能够移动到一位置，传感器的测量点不再包含在FEC内。这意味着该传感器的感应区域不再与实际的被曝光目标部分对准。这种在用于非移动目标部分的用以测量倾斜度的移动操作在US5,412,214光刻分档器中描述。根据该文献，如果高度传感器在FEC内具有部分感应点，并且所述倾斜度不再或不能够被充分准确的测定，则所述基板和所述传感器将相对移动。其结果是，传感器的更多感应点被投影在基板上可以(可靠)测量的区域上。在该文献中由于倾斜测量扫描的测量轨道的有限尺寸，初始(或最终)接触FEC的测量扫描的初始点(或终点)，最终(或最初)可以距离FEC几毫米。这不产生基板边缘附近倾斜度的所需准确信息，实际经验表明可以相当大的弯曲。本申请人的欧洲专利申请EP1037117A2，描述一种预测量扫描倾斜度测定。该申请描述一种测量全局高度倾斜度的方法。所述全局的倾斜度在基板曝光中并不直接使用，而仅仅在水准测量中做“起始点”使用。为了获得全局高度倾斜度，首先第一基板垂直移动以使基板进入所述高度传感器的测量点的线性或线性化范围内。然后移动基板以使中心测量点围绕整个曝光区域周长内部的路径来回移动。捕获只来自该单个点的信息。该全局高度轮廓路径是一个非常靠近曝光区域边缘的弯曲路径，也可以是沿轮廓边沿内部的圆形路径。所述传感器仅仅获得沿全局高度轮廓路径上的某些点处的高度测量，产生所谓的全局高度轮廓。使用这些特别的点处获得的全局高度轮廓获得整个基板的高度和倾斜度的粗略印象。在随后的倾斜度测量扫描中，使用这些信息将基板的表面放在基板工作台上，完全在传感器具有线性操作模式的范围内。然而，这个步骤仅仅提供了关于所述基板的全局信息，但是该信息并不是足够的准确以在曝光中使用。为了准确曝光，关于高度和倾斜度的准确的局部信息是必须的。本专利技术的目的是提供一种装置和一种方法，能够测量更靠近基板边缘的倾斜度，从而需要进行了易于发生错误的外推更少。
技术实现思路
为了达到上述目的，本专利技术提供一种说明书开始部分所定义的组件，其特征在于所述基板的至少一条路径至少部分地与曝光扫描方向成一角度。由此，可更精确地确定所述基板的高度和/或倾斜度。本专利技术允许的测量扫描其中沿至少部分与曝光方向成一角度(该角度不是0°或180°)的路径映射所述基板的高度和/或倾斜度。本领域的普通技术人员可以明了，该测量数据可以是传感器读数或基板支撑结构的定位信息，或上述两者的结合。在另一实施例中基板具有边缘轮廓，本专利技术的特征在于所述传感器基本上沿所述基板的至少部分边缘轮廓进行测量。这里，特别地，所述基板可以大大的弯曲，也就是说这里适当的弯曲评估是重要的。在另一实施例中本专利技术的特征在于所述传感器沿基板轮廓的边缘进行一次测量。其结果是更快地确定基板边缘附近的倾斜度和/或高度。在又一实施例中，本专利技术的特征在于所述传感器，在测定中，传感器设置成通过沿下述至少一种路径进行测量而接近边缘轮廓的几何形状-沿着一起循所述边缘轮廓的多条直线和-沿着所述边缘轮廓的步进路径和-沿与所述边缘轮廓的形状基本相同的轮廓。获得更接近基板边缘附近的倾斜度和/或高度与快速测量之间的最佳均衡。在另一实施例中，本专利技术的特征在于该组件设置成用所述传感器沿一组在其间有间隙的多个相继路径来测量，其中所述间隙中不进行测量。改变所述基板工作台的移动方向会产生不需要的会影响准确测量的震动。为了消除上述影响，当第一路径完成以及基板工作台的移动方向调整时，测量可以暂时打断。仅仅当合理稳定的移动固定下来时，测量才继续。其导致邻近路径间的间隙。在另一实施例中，本专利技术特征在于所述传感器包括具有至少一个能够测量高度和在开关状态之间转换的传感点，其中以所述传感器的位置为函数进行开关转换。依靠传感器上点在所述基板区域上的位置，传感器选择所使用的点，以从所测量的目标区域获得倾斜度。在另一实施例中，本专利技术特征在于所述传感器具有多个感应点以及所述组件设置成仅用感应点的一个子集沿着所述至少一路径的至少一部分进行测量。例如，如果已知某一感应点的子集，可提供更准确测量，这些特定点可以用于获得更准确的数据，以提供更准确的倾斜度测量。在另一实施例中，本专利技术特征在于所述基板包括靠近边缘轮廓的目标部分而且在所述目标部分的随后曝光中使用所存储的来自多个路径的测量数据。其具有扫描长度能够任意调整以及能够优选的优点以达到在扫描量尽可能低(最低耗时)与扫描尽可能接近基板边缘之间找一个平衡，这是在这些曝光位置中倾斜度准确测量所需要的。这表明不必对每个曝光区域获得倾斜度信息，需要进行单独、分散的扫描(一一对应关系)。例如，如果每个曝光区域延伸到相对有限的区域，可以将一次扫描的数据用于3个曝光区域。另一方面，如果曝光区域相对大，则可以使用多次扫描时获得的信息来确定特定曝光区域的倾斜度。本专利技术还涉及一种光刻投影设备，包含-由辐射源发射的辐射形成辐射投影光束的辐射系统，-用以支撑构图部件的支撑结构，被所述投影光束照射构图所述投影光束，-用于支撑基板的基板工作台，和-一构成并设置以在基板的目标部分上成像构图部件被照射部分的投影系统，其特征在于所述光刻投影设备包含如上所述的组件。在另一实施例中本专利技术特征在于所述光刻投影设备用以投射辐射光束在焦平面上，从存储器中读取测量数据以及使用上述测量数据调整基板的位置使目标部分定位在基板上最好处于辐射光束的焦平面中。由于基板倾斜度和/或高度与基板上的电路小片之间的位置关系存储在所述光刻设备的存储器中，在扫描和所述电路小片投影的过程中需要取出该信息。这意味着在扫描本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包括传感器的组件，该传感器用于测定光刻投影设备（１）中基板（Ｗ；１１）表面的倾斜度和高度其中的至少一个，该基板（Ｗ；１１）可以相对所述传感器沿与基板表面基本平行的至少一个路径移动，该光刻投影设备具有曝光扫描方向（ｙ），该组件设置为相对所述传感器沿所述至少一个路径连续移动该基板，并且提供沿所述至少一个路径的关于倾斜度和高度其中至少一个的测量数据，该组件包括用于存储所述测量数据的存储器（１０），以备所述光刻投影设备以后对基板进行曝光时使用，其特征在于所述基板的至少一个路径至少部分地与所述曝光扫描方向成一角度。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：R布林克霍夫，MEJ布恩曼，MJME德尼维尔勒，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]