光刻设备和器件制造方法技术

公开了一种光刻设备，它设置成将图案从图案形成装置转移到衬底上，该设备包括：衬底台，它构建成固定衬底；第一夹紧系统，配置成将衬底台夹到衬底台支撑结构上；以及第二夹紧系统，配置成在衬底台已被夹到衬底台支撑结构上之后将衬底夹到衬底台上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻设备以及用于制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是将所需图案加到衬底上通常是加到衬底的目标部分上的一种机器。光刻设备可例如用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，图案形成装置，备选称为掩模或分划板，可用来产生要在IC各层上形成的电路图案。该图案可以被转移到衬底(例如硅晶片)的目标部分(例如包括一个或数个小片的部分)。图案的转移通常是通过成像到在衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。一般来说，单个衬底会含有依次形成图案的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器，其中对每个目标部分的照射是一次性将整个图案曝光到目标部分上，以及所谓的扫描器，其中对每个目标部分的照射是通过辐射束在给定方向(“扫描”方向)上扫描图案，同时在平行于或反平行于该方向上同步扫描衬底。也可以通过将图案印刷到衬底上而将图案从图案形成装置转移到衬底上。在已知的设备中，可以在衬底台上固定衬底，衬底台则被支撑在适当的支撑结构(如卡盘)上。例如，衬底和衬底台都同时被夹在卡盘上，且在衬底处理期间，衬底台连续被夹在卡盘上。
技术实现思路
需要例如改进光刻设备和方法，特别是为了以改进的精度制造具有非常小特征的一个或多个器件。在一个实施例中，提供了一种光刻设备，其设置成将图案从图案形成装置转移到衬底上，其中该设备包括支座，它配置成固定图案形成装置，该图案形成装置配置成提供要转移到衬底上的图案；衬底台，构建成固定衬底；第一夹紧系统，配置成将衬底台夹到衬底台支撑结构上；以及第二夹紧系统，配置成在衬底台已被夹到衬底台支撑结构上之后将衬底夹到衬底台上。而且，在一个实施例中，提供了一种器件制造方法，其包括将衬底台夹到支撑结构上，之后将衬底夹到衬底台上，并将图案从图案形成装置转移到衬底上。在一个实施例中，提供了一种衬底台夹紧设备，其包括衬底台，构建成固定衬底；第一夹紧系统，配置成将衬底台夹到衬底台支撑结构上；以及第二夹紧系统，配置成在衬底台已被夹到衬底台支撑结构上之后，将衬底夹到衬底台上。附图说明现仅用举例的方式，参阅所附示意图对本专利技术的实施例加以说明，附图中对应的参考符号表示对应的部件，附图包括图1示出按照本专利技术实施例的光刻设备；图2A示出在第一步期间的方法和系统截面图；图2B示出在第二步期间的图2的方法和系统；图3A示出在第一步期间的按照本专利技术实施例的系统和方法；图3B示出在第二步期间的图3A的实施例；图4以截面图示出又一实施例；图5以截面图示出另一实施例；图6以截面图示出另一实施例；以及图7以截面图示出另一实施例。具体实施例方式图1示出按照本专利技术一个实施例的光刻设备示意图。设备包括照明系统(照明器)IL，它配置成调节辐射束B(例如UV辐射或其它类型辐射)；支撑结构(例如掩模台)MT，它构建成支撑图案形成装置(例如掩模)MA，并连接到第一定位器PM，第一定位器PM配置成按照某些参数准确定位图案形成装置；衬底台(例如晶片台或粒结(burl)台)WT，它构建成固定衬底(例如抗蚀剂涂敷的晶片)W，其中衬底台WT可以连接到或夹到第二定位器PW上，第二定位器PW配置成按照某些参数准确定位衬底；以及投影系统(例如折射投影透镜系统)PS，它配置成将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一个或多个小片)上。照明系统可包括各种类型的光学元件，例如折射、反射、磁、电磁、静电或其它类型的光学元件，或它们的任何组合，用于引导、成形或控制辐射。支撑结构固定图案形成装置，其方式取决于图案形成装置的定向、光刻设备的设计以及其它条件，例如图案形成装置是否保持在真空环境中。支撑结构可使用机械、真空、静电或其它夹紧技术来固定图案形成装置。支撑结构可以是例如框架或台面，根据需要可以是固定不动的或可移动的。支撑结构可确保图案形成装置处于例如相对于投影系统的所需位置。在本文中任何使用的术语“分划板”或“掩模”可认为和更通用的术语“图案形成装置”同义。在本文中使用的术语“图案形成装置”应广义解释为，是指可用来将图案赋予辐射束的截面上以在衬底的目标部分创建图案的任何装置。应指出，赋予辐射束的图案可能并不准确对应于衬底目标部分中的所需图案，例如，如果图案包括相移特征或所谓的辅助特征的话。一般来说，赋予辐射束的图案将对应于在目标部分中例如集成电路中正被创建的器件中的特定功能层。图案形成装置可以是透射的或反射的。图案形成装置的实例包括掩模、可编程镜面阵列以及可编程LCD面板。掩模在光刻中已众所周知，它包括诸如二进制、交替相移和衰减相移等掩模类型，以及各种混合掩模类型。可编程镜面阵列的实例采用小镜面的矩阵布置，每个小镜面可各自倾斜，以便向不同方向反射入射的辐射束。倾斜镜面在由镜面矩阵反射的辐射束中赋予一个图案。在本文中使用的术语“投影系统”应广义解释为包括任何类型的投影系统，包括折射、反射、兼反射折射、磁、电磁和静电光学系统，或它们的任何组合，它们适合于所使用的曝光辐射、或适合于其它因素，例如使用浸渍液体或使用真空。在本文中使用的术语“投影透镜”可认为与更通用的术语“投影系统”同义。如本文所示，设备是透射型(例如采用透射掩模)。备选的是，设备可以是反射型(例如采用如以上所述类型的可编程镜面阵列，或采用反射掩模)。光刻设备可以是具有两个(双级)或更多个衬底台(和/或两个或更多个支撑结构)的类型。在这种“多级”机器中，附加台可并行使用，或是准备步骤可以在一个或多个台上进行，而一个或多个其它台用于曝光。光刻设备可以是如下类型其中至少一部分衬底可被折射指数相对高的液体如水所覆盖，以便填充投影系统和衬底之间的空间。浸渍液体也可施加于光刻设备中的其它空间，例如掩模和投影系统之间。浸渍技术在所属领域已众所周知是用于增加投影系统的数值孔径。在本文中使用的术语“浸渍”并不是指一个结构例如衬底必须浸没在液体中，而只是仅指在曝光期间液体位于投影系统和衬底之间。参阅图1，照明器IL接收来自辐射源SO的辐射束。辐射源和光刻设备可以是分离的实体，例如当源是准分子激光器时。在这种情况下，不认为源形成为光刻设备的一部分，且辐射束从源SO传送到照明器IL是借助于射束递送系统BD，它包括例如适当的引导镜面和/或射束扩展器。在其它情况下，源可以是光刻设备的一个整体部分，例如当源是汞灯时。源SO和照明器IL，需要时还和射束递送系统BD一起可称为辐射系统。照明器IL可包括调节器AD，用于调节辐射束的角强度分布。一般来说，照明器光瞳平面中的强度分布的至少外和/或内径向伸长(通常分别称为σ-外和σ-内)可以进行调节。此外，照明器IL可包括各种其它元件，例如积分器IN和聚光器CO。照明器IL可用来调节辐射束，使得在其截面上具有所需的均匀度和强度分布。辐射束B入射到固定在支撑结构(例如掩模台)MT上的图案形成装置(例如掩模)MA上，并由图案形成装置形成图案。横穿过图案形成装置MA之后，辐射束B穿过投影系统PS，它将射束聚焦到衬底W的目标部分C上。借助于第二定位器PW和位置传感器IF(例如干涉仪装置、线性编码器或电容传感器)，衬底台WT可以准确移动，以便例如将不同的目标部分C定位在辐射束B的路径内。同样，第一定位器PM和另一位置传感器(图1中未明确示出)可用来例如在从掩模库中机械检索之后，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，设置成将图案从图案形成装置转移到衬底上，其中所述设备包括：支座，它配置成固定图案形成装置，所述图案形成装置配置成提供要转移到衬底上的图案；衬底台，它构建成固定衬底；第一夹紧系统，它配置成将所述衬底台夹到衬底台支撑结构上；以及第二夹紧系统，它配置成在所述衬底台已被夹到所述衬底台支撑结构上之后将衬底夹到所述衬底台上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：RTP康彭，O沃兹尼，M侯本，M埃尔鲍柴比，FJM博克霍尔特，R瓦克，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]