基板移送装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种基板移送装置，更为详细地，其目的在于提供一种基板移送装置，其可以防止在移送基板的过程中因颗粒附着于移送单元或基板而导致基板污染的问题。用于实现所述目的的本实用新型专利技术的基板移送装置包括：移送单元，其用于支撑基板并向基板处理用腔室引入基板或将基板引出；盖子，其对所述移送单元的上部进行遮盖。

Substrate transfer device

The utility model relates to a substrate transfer device, which is more detailed. The purpose of the utility model is to provide a substrate transfer device, which can prevent the problem of substrate pollution caused by particles attaching to the transfer unit or the substrate during the process of transferring the substrate. The base plate transfer device of the utility model for realizing the purpose comprises a transfer unit, which is used to support the base plate and introduce the base plate into or out of the chamber for the treatment of the base plate, and a cover which covers the upper part of the transfer unit.

【技术实现步骤摘要】
基板移送装置
本技术涉及一种基板移送装置，更为详细地，涉及一种基板移送装置，其可以防止在移送基板的过程中因颗粒附着于移送单元或基板而导致基板污染的问题。
技术介绍
最近，随着信息通信领域的急速发展和如计算机一样的信息媒体的大众化，半导体装置也在飞跃地发展。此外，在其功能方面，根据半导体装置的元件高集成化趋势，为了减小形成于基板的分立器件的大小，同时，另一方面为了使得元件性能最大化，正在研究开发多种方法。通常，通过反复进行如下多个基板处理而制造半导体元件：光刻(lithography)、沉积(Deposition)及蚀刻(etching)、涂覆(Coating)光刻胶(Photoresist)、显影(Develop)、清洗及干燥工艺等。利用与各自的目的相适合的工艺流体来实现各个工艺，由于各个工艺要求适合的工艺环境，因此，通常将基板收容于形成有与各个工艺相应的环境的腔室内部来实现。经过各个工艺，金属杂质、有机物等颗粒残存于基板上，所述污染物质会引起基板的工艺不良，并对产品的收率及可靠性造成坏影响。由此，为了去除颗粒，每当各个工艺完成时反复进行的清洗及干燥工艺变得非常重要，并且为了防止外部颗粒流入，在密封的腔室执行各个工艺。基板处理工艺大致由两种方式构成：同时处理多个基板的多晶片式(批次式)方式和一张张地单独处理基板的单晶片式方式。多晶片式的情况，在可以同时处理多个晶元而获得优秀的生产量方面广为利用，单晶片式的情况，在一张张地单独处理晶元时可以实现非常精密的工艺方面广为利用。为了向如上所述的工艺腔室引入基板而使用基板移送装置。参照图1，根据现有技术的基板移送装置20包括：机械手主体23，其包括使得动力产生的驱动部(未示出)；至少一个移送单元21、21-1、21-2，其水平地支撑基板W；至少一个机械手臂22、22-1、22-2，其一侧与所述机械手主体23紧固连接，在另一侧末端分别设置有所述移送单元21、21-1、21-2。所述驱动部可以向所述机械手主体23提供旋转动力，也可以提供使得所述机械手主体23向上下左右移动的动力。所述机械手臂22、22-1、22-2形成为包括至少一个关节，通过折叠并展开所述至少一个关节而进行收缩及伸长，并以与所述机械手主体23之间的紧固连接部为旋转轴进行旋转。所述移送单元21、21-1、21-2通过所述机械手主体23和所述机械手臂22、22-1、22-2的驱动进行移送，并被引入至工艺腔室(未示出)。此时，在移送基板的过程中，颗粒可能附着于所述移送单元21、21-1、21-2或基板W，附着有颗粒的所述移送单元21、21-1、21-2或基板W被引入至所述工艺腔室，从而导致工艺不良。作为针对如上所述的基板移送装置的先行技术的一个例子，有韩国登记专利10-0754245号。
技术实现思路
本技术是为了解决所述问题而提出的，其目的在于提供一种基板移送装置，其可以防止在通过基板移送装置移送基板的过程中因颗粒附着于移送单元或基板而可能导致的工艺不良。用于实现所述目的的本技术的基板移送装置包括：移送单元，其用于支撑基板并向基板处理用腔室引入基板或将基板引出；盖子，其对所述移送单元的上部进行遮盖。所述基板移送装置可以是包括所述移送单元、机械手臂和机械手主体的装置。所述盖子可以设置为固定于所述移送单元，并且也可以设置为固定于所述机械手主体。所述盖子设置为固定于所述机械手主体时，所述盖子可以设置为充分接近所述腔室的基板出入口，并且可以设置为若所述移送单元旋转，则所述盖子也一起旋转。所述盖子设置有净化用流体喷射部，供给流体的流体供给部可以与所述净化用流体喷射部相连接。所述流体供给部可以设置于所述盖子或所述移送单元。从所述流体供给部供给的流体在流体临时保管部得到临时保管后，可以通过所述净化用流体喷射部进行喷射。所述盖子可以设置为向下侧弯曲，以便使得所述流体沿着所述基板的周围方向进行保护。根据本技术的基板移送装置，通过设置对移送单元上部进行遮盖的盖子来防止在移送基板的过程中颗粒附着于移送单元或基板，从而可以防止工艺不良。此外，通过供给净化用流体来防止在移送基板的过程中颗粒附着于移送单元或基板，从而可以防止工艺不良。此外，在供给净化用流体的供给管上设置流体临时保管部，从而可以均匀地喷射净化用流体。附图说明图1是概略地表示根据现有技术的基板移送装置的构成的图。图2是表示根据本技术的一个实施例的在移送单元设置有盖子的基板移送装置位于腔室的基板出入口外侧的图图3是表示根据本技术的一个实施例的设置有盖子的移送单元通过基板出入口被引入至腔室的图。图4是表示根据本技术的一个实施例的设置有盖子的移送单元被引入至腔室内部并位于夹头上侧的图。图5是表示根据本技术的一个实施例的基板安置于夹头上面而设置有盖子的移送单元排出至腔室的基板出入口外侧的图。图6是表示根据本技术的另一个实施例的移送单元位于基板腔室的基板出入口外侧而对移送单元上部进行遮盖的盖子设置于机械手主体的图。图7是表示根据本技术的另一个实施例的移送单元与盖子脱离并通过基板出入口被引入至腔室的图。图8是表示根据本技术的一个实施例的当机械手臂和移送单元旋转时设置于机械手本体的盖子也一起旋转并对移送单元的上部进行遮盖的图。图9是表示根据本技术的一个实施例的在盖子设置有净化用流体喷射口和流体供给部的图。图10是表示根据本技术的一个实施例的在盖子形成有净化用流体喷射口而流体供给部设置于不同的场所的图图11是表示根据本技术的一个实施例的在盖子设置有净化用流体喷射口和流体临时保管部而流体供给部设置于不同的场所的图。图12是表示根据本技术的一个实施例的盖子的边缘以向下侧弯曲的形式设置的图。图13是表示根据本技术的一个实施例的在放置于移送单元的基板的周围方向一侧设置有净化用流体喷射口的图。图14是表示根据本技术的另一个实施例的在机械手主体设置有净化用流体喷射口的图。具体实施方式以下，参照附图，对本技术的优选实施例的构成及作用进行如下详细说明。根据本技术的基板移送装置200包括：移送单元210，其用于支撑基板W并向基板处理用腔室100引入所述基板W或将所述基板W引出；盖子300，其对所述移送单元210的上部进行遮盖。所述基板W可以是成为半导体基板的硅片。但是，本技术并非限定于此，所述基板W可以是用作如LCD(liquidcrystaldisplay，液晶显示器)、PDP(plasmadisplaypanel，等离子显示板)一样的平板显示装置的玻璃等的透明基板。此外，所述基板W的形状及大小并非受附图的限定，实质上可以具有圆形及四边形板等多种形状和大小。在所述腔室100的内部可以设置有支撑所述基板W的夹头122，根据所述基板W的形状及大小，所述腔室100和所述夹头122的大小和形状可以发生变更。在所述夹头122上设置有多个夹头销123，夹头销123沿着基板W周围等间距地配置，以便可以安放基板W，根据所述基板W的形状及大小，所述夹头销123的个数和形状可以进行多种变更。在所述夹头122的下部设置有用于支撑所述夹头122的支架121。所述夹头122可以是以能够旋转的形式设置的旋转夹头，所述支架121可以是与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板移送装置，其包括：移送单元，其用于支撑基板并向基板处理用腔室引入基板或将基板引出；盖子，其对所述移送单元的上部进行遮盖；所述盖子设置有净化用流体喷射部，净化用流体喷射部向所述基板和所述盖子之间的空间喷射净化用流体。

【技术特征摘要】
2017.12.27 KR 10-2017-01809231.一种基板移送装置，其包括：移送单元，其用于支撑基板并向基板处理用腔室引入基板或将基板引出；盖子，其对所述移送单元的上部进行遮盖；所述盖子设置有净化用流体喷射部，净化用流体喷射部向所述基板和所述盖子之间的空间喷射净化用流体。2.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，所述盖子设置为垂直地挡住所述基板的水平方向周围的至少一个方向。3.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，所述盖子设置为固定于所述移送单元。4.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，还包括：机械手主体，其设置有驱动部，驱动部提供使得所述移送单元进行移送的动力；机械手臂，其一侧紧固连接于所述机械手主体，在另一侧末端设置有所述移送单元。5.根据权利要求4所述的基板移送装置，其特征在于，所述机械手臂以收缩及伸长的形式形成，在所述机械手臂收缩的状态下，所述移送单元通过所述驱动部的驱动向所述腔室的基板出入口外侧移动，并随着所述机械手臂伸长而通过所述基板出入口被引入至所述腔室的内部。6.根据权利要求4所述的基板移送装置，其特征在于，所述盖子设置为固定于所述机械手主体。7.根据权利要求6所述的基板移送装置，其特征在于，所述盖子设置为，在所述机械手臂向所述机械手主体方向收缩的状态下对所述移送单元的上部进行遮盖。8.根据权利要求7所述的基板移送装置，其特征在于，所述盖子设置为延长至与所述腔室的基板出入口相邻近的位置。9.根据权利要求4所述的基板移送装置，其特征在于，所述盖子设置为，在所述机械手臂和所述移送单元旋转时一起旋转并对...

【专利技术属性】
技术研发人员：李载鸿，
申请(专利权)人：凯斯科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：韩国,KR