本发明专利技术提供一种基板检查装置及基板检查装置使用的灯单元，本发明专利技术的目的在于在提高了装置内部的清洁度的基板检查装置中容易地进行灯光源的更换，基板检查装置（１）构成为可以利用宏观照明装置（４０）进行基板（Ｗ）的外观检查。宏观照明装置（４０）在高清洁部（３）内在微观检查部（１５）的上方具有光源装置（９０）。光源装置（９０）构成为可以从前壁门（９３）更换内部的灯。光源装置（９０）配置在与处理基板的区域相比清洁度相对低的第一区域（８１）中，所以即使对光源装置（９０）进行灯的更换，处理基板的区域的清洁度也不会降低。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及可以通过目视和显微镜检查半导体晶片等基板的基板检 查装置、及基板检查装置使用的灯单元。本申请以在2006年7月27日提出申请的第2006—204349号日本专 利申请为基础并要求其优先权，并在此引用其内容。
技术介绍
在半导体晶片等基板上形成电路的制造工序、和在玻璃基板上形成 图案来制造液晶显示器等平板显示器的工序中，实施通过目视来宏观检 查基板外观的工序(宏观检查工序)、和通过使用显微镜的放大观察来进 行微观检查的工序(微观检査工序)。作为此时使用的基板检查装置，有这样构成的装置 一体地具有进行宏观检査的宏观检查部和进行微观检查的微观检查部，并且按顺序实施宏观检查和微观检查(例如参照国际公开WO2002/021589号公报)。宏观检查部具有使基板朝向检查人员立 起的机构、和从上方对基板进行照明的宏观照明装置。宏观照明装置由 光源装置、以及切换散射光和会聚光来均匀地照亮基板的照明用光学系 统构成。在此，在现有的基板检查装置中，有的装置将宏观检查部和微观检 查部包围起来在内部形成流过清洁空气的局部清洁度高的环境(微环境 结构)，以使灰尘不附着在基板上。在这种基板检查装置中，向内部输送 高清洁度的空气，将装置内的压力设定成高于周围环境，以使周围的灰 尘不被吸入到装置内部，由此保持装置内的高清洁度。在这种装置结构 中，当作业人员将手等伸入到装置内部的高清洁度的区域中作业时，装 置内部的清洁度会下降，所以有可能利用人手进行作业的结构要素被配 置在装置的外侧。所述宏观照明装置的光源装置的灯等由于可能需要定期更换，所以将其配置在装置下部的露出于外侧的部分。因此，在现有 的基板检查装置中，沿着装置环绕光导，以将光源装置的光引导到配置 在装置上侧的照明用光学系统。但是，在现有的装置结构中，由于沿着装置环绕光导，所以容易受 到布局的制约。另外，由于光导变长，所以考虑到光导的损失，必须增 大光源装置的灯的光量。并且，由于光源装置配置在装置下侧，所以在进行灯的更换时，作 业人员不得不屈身进行作业。在现有的光源装置中，除了灯以外，有时还设置IR (红外线)截止 滤波器和热线吸收滤波器等光学部件，若将这些光学部件的更换也包括 在内，则更换频率增加，更换作业变得烦杂，所以期望开发出能够容易 地进行灯的更换和光学部件的更换的装置。
技术实现思路
本专利技术就是鉴于上述情况而完成的，其主要目的在于，在提高了装 置内部的清洁度的基板检査装置中容易地进行灯光源的更换。为了解决上述问题，在本专利技术中提供一种基板检査装置，其构成为 具有通过使清洁流体在装置主体内流通而相比于外部提高了清洁度的检 查部，在所述检查部能够实施通过目视进行的基板的外观检查和通过显 微镜进行的放大观察，在所述检查部内，在所述显微镜的上方配置有照 明装置的光源装置，所述照明装置用于对所述基板进行照明，其在通过 目视进行外观检查时对基板进行照明。并且，在设于本专利技术的所述基板检査装置的所述检查部内，具有通 过目视对基板进行外观检查的宏观检查部、和通过显微镜进行放大观察 的微观检查部，当在所述宏观检查部对所述基板进行照明并通过目视进 行外观检查时，将对所述基板进行照明的照明装置的光源装置配置在所 述检查部内的所述微观检查部的上方。并且，在设于本专利技术的所述基板检查装置的所述光源装置中，将所 述检查部内分隔开，所述光源装置配置在与处理基板的区域分割圩的区域中，而且所述光源装置具有可更换地安装有灯单元的结构，该灯单元 将灯和覆盖所述灯的发光部分的收容箱设置为一体。该基板检查装置通过将光源装置配置在接近照明装置的高处位置， 使得光路长度縮短，抑制了光的损失，使基板被照得更亮。另外，在更 换光源装置的灯等消耗品时，作业人员不需屈身即可容易地进行更換作 业。并且，本专利技术提供一种基板检查装置使用的灯单元，其是在基板检 查装置中使用的照明装置的灯单元，该基板检查装置具有通过使清洁流 体在装置主体内流通而相比于外部提高了清洁度的检查部，在所述检查 部内对基板进行照明并通过目视进行外观检査，所述灯单元的特征在于， 所述灯单元具有灯和收容箱，在所述收容箱中以覆盖所述灯的发光部分 的方式固定有所述灯，并且安装有照明所需要的光学部件，在所述收容 箱中设有可以抽吸或排出内部的空气、但所述灯的结构要素不能通过的 通道。并且，设于本专利技术的所述基板检查装置的所述灯单元构成为，可以 从面向进行目视检査的检査人员的所述装置主体的前部或所述装置主体 的侧部取出。并且，设于本专利技术的所述基板检查装置的所述收容箱上连接有配管， 该配管通过风扇来抽吸并排出由灯产生的热和气体。并且，设于本专利技术的所述基板检查装置的所述检查部被分隔为可以从外装门将手伸入进行作业的第1区域、和处理所述基板的第2区域。该灯单元在进行灯的更换时，容易消耗的光学部件也能够一起更换。 在使用时，灯被通过通道在收容箱内流通的空气冷却。根据本专利技术涉及 的基板检查装置，由于能够縮短从光源装置到基板之间的光路长度，所 以能够抑制光的损失。可以节约光源装置的输出，实现了长寿命化和运 行成本的降低。并且，由于光源装置配置在容易作业的高处位置，所以 消耗品的更换变得容易。根据本专利技术涉及的基板检查装置使用的灯单元，光源装置的灯的更 换变得容易。不但更换时间变短，而且检查部与灯单元相隔离，所以能够在不大幅度降低检查部的清洁度的情况下完成更换作业。在使用照明 装置时，可以利用通过通道在收容箱内流通的空气来冷却灯，所以实现 了灯的长寿命化。附图说明图1是表示本专利技术的实施方式涉及的基板检查装置的概要结构的图。图2是沿图1中的A—A线的剖面图。 图3是沿图1中的B—B线的剖面图。图4是沿图1中的C一C线的剖面图，是表示光源装置的结构的图。图5是表示灯单元的立体图。图6是沿图4中的D—D线的剖面图。具体实施例方式下面参照附图具体说明本专利技术的实施方式。图1表示装置结构，是 除了光源装置之外使前表面面板省略而描画出的示意图。如图1所示，检查半导体晶片等基板的基板检査装置1具有设于地 面的装置主体2，在装置主体2的上部作为用于检查基板W的空间划分 出高清洁部3 (检查部)。在装置主体2的下部设有向外部敞开的主管装 置控制的控制装置4、和用于吸附保持基板W的吸附泵(未图示)等。高清洁部3使在过滤器风扇单元5生成的清洁空气(清洁流体)从 装置主体2的顶部2A流入,从而形成清洁度高于外部环境的微环境结构。 过滤器风扇单元5是清洁流体供给装置，其具有风扇和过滤器，所述风 扇取入存在于基板检查装置1周围的外部空气，并将该空气从形成于顶 部2A的多个孔6向高清洁部3内喷出，所述过滤器设于风扇和孔6之间， 用于去除外部空气中的灰尘。如图2所示，在俯视时在装置主体2的背面2B侧设有两个装载口 (loadport) 12，装载口 12用于安装收容了许多基板W的基板载体10、 11。高清洁部3具有向背面2B侧输送基板W的装载部13，相对于装载部13在前表面2C侧以从检查人员侧观察左右分开的方式并列形成有宏 观检查部14和微观检查部15。在装载部13设有一个可以在一个轴向上移动的基板输送机械手16。 基板输送机械手16是多关节臂，其在安装于装置主体2的背面2B的基 板载体IO、 11和宏观检本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种基板检查装置，在该基板检查装置（１）中具有： 通过使清洁流体在装置主体内流通而相比于外部提高了清洁度的检查部（３）；和 在所述检查部内，而且在检查部内的基板（Ｗ）的检查位置的上方，对所述基板进行照明的照明装置（４０）的光源装置（９０）。
【技术特征摘要】
JP 2006-7-27 2006-2043491.一种基板检查装置，在该基板检查装置(1)中具有通过使清洁流体在装置主体内流通而相比于外部提高了清洁度的检查部(3)；和在所述检查部内，而且在检查部内的基板(W)的检查位置的上方，对所述基板进行照明的照明装置(40)的光源装置(90)。2. 根据权利要求1所述的基板检查装置，在所述检查部内具有通过目视对基板进行外观检查的宏观检査部(14)、和通过放大观察对基板进行外观检查的微观检查部(15)，当在所述宏观检查部对所述基板进行照明并通过目视进行外观检查 时，将对所述基板进行照明的照明装置的光源装置配置在所述检查部内 的所述微观检査部的上方。3. 根据权利要求2所述的基板检査装置，将所述检查部内分隔开，所述光源装置配置在与处理基板的区域分 割开的区域中。4. 根据权利要求2所述的基板检查装置，所述光源装置具有可更换地安装有灯单元(100)的结构，所述灯单 元(100)将灯(102)和覆盖所述灯的发光部分的收容箱(101)设置为 —体05. 根据权利要求4所述的基板检査装置，在所述收容箱中安装有用于照明用的光学部件。6. 根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：木户浩章，
申请(专利权)人：奥林巴斯株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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