本发明涉及成膜装置。提供一种在进行溅射的成膜装置中用于使用吸气材料更高效地去除腔室内部的杂质的技术。使用一种成膜装置，具备：腔室；第1阴极单元，其具有包含成膜材料的第1靶材，在所述腔室内部通过溅射在基板上形成成膜材料的膜；以及第2阴极单...

本发明提供一种能够提高蒸镀状态的检测精度的成膜装置。该成膜装置具备：具有收容蒸镀材料的坩埚的蒸发源(100)；以及设置在所述坩埚的旁边并检测飞散的蒸镀材料的颗粒传感器(200)，由此，能够可靠地检测簇化的蒸镀材料、由于飞溅而飞出的蒸镀材...

本发明提供一种能够提高蒸镀状态的检测精度的成膜装置及电子器件的制造方法。其特征在于，具备：设置在腔室(10)内，放出蒸镀材料的蒸发源(100)；用于检测通过蒸镀处理而形成于基板(S)的所述蒸镀材料的膜的厚度及所述蒸镀处理中的从蒸发源(1...

本发明提供能够实现成膜装置的真空腔室所使用的排气部件的小型化、成本降低的成膜装置。该成膜装置具备：第一成膜部件，在掩模上对吸气材料进行成膜；以及第二成膜部件，隔着成膜有吸气材料的掩模在基板上对成膜材料进行成膜。

本发明涉及工件保持装置、对准装置以及成膜装置。在支承工件的结构中，变形更少。工件保持装置具备：第一支承单元，所述第一支承单元对工件进行支承；以及第二支承单元，所述第二支承单元悬挂所述第一支承单元而进行支承，其中，所述第一支承单元具备：沿...

本发明提供一种使用更简单的装置进行蚀刻的蚀刻装置。使用一种蚀刻装置，具备：照射装置，所述照射装置包括向基板照射蚀刻用的离子束的离子源；以及输送装置，所述输送装置输送基板，使基板多次通过离子束的照射区域，离子束的照射方向相对于位于照射区域...

本发明提供能够提高成膜精度的成膜装置以及电子器件的制造装置。成膜装置是具有真空容器(21)的成膜装置(11)，其特征在于，真空容器(21)具备：多个真空容器部(第1真空容器部(211)和第2真空容器部(212))；以及设置在多个真空容器...

本发明提供吸附装置、位置调整方法及成膜方法。吸附装置的特征在于，包括：掩模支承单元，所述掩模支承单元用于支承掩模；静电吸盘，所述静电吸盘设置在所述掩模支承单元的一侧，用于吸附基板；以及调整部件，所述调整部件用于调整所述掩模支承单元与所述...

本发明涉及一种成膜装置，提供一种防止附着于挡板的成膜材料落下的技术。本发明的成膜装置具备：第一移动部件，所述第一移动部件使向基板放出成膜材料的成膜源和基板中的至少任一个沿规定的方向移动；以及第二移动部件，所述第二移动部件进行控制，以使挡...

本发明提供成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法，在一边利用磁力使基板承载件以悬浮的状态搬送一边进行成膜的成膜装置中，抑制因重量的变化引起的基板承载件的搬送高度的变化。该成膜装置是一边搬送基板一边进行成膜的直列型的成膜装置，具备：基板...

本发明提供一种成膜装置、成膜方法、及电子器件的制造方法。抑制对基板的影响并使吸附板更可靠地吸附基板。经由掩模对基板进行成膜的成膜装置具备：腔室，所述腔室将内部保持为真空；吸附板，所述吸附板设置在所述腔室的内部，具有产生用于吸附所述基板的...

本发明提供一种能够抑制成膜特性的不均的蒸发源、成膜装置及成膜方法。一边沿第一方向(X)移动一边对基板进行成膜的蒸发源(300)的特征在于，所述蒸发源具备：第一材料室(321)，其收容成膜材料；第一扩散室(331)，其通过第一连通部与第一...

本发明涉及成膜装置及成膜方法，当在成膜装置中进行多层成膜时，抑制成膜质量的降低。成膜装置具备一边移动一边在基板上进行成膜的蒸发源单元。蒸发源单元包含分别放出蒸镀物质的第一蒸发源、第二蒸发源及第三蒸发源。在蒸发源单元的成膜时的移动方向上依...

本发明涉及蒸发源单元、成膜装置以及成膜方法。抑制从蒸发源放出的蒸镀物质的放出状态的监视精度降低。蒸发源单元对在移动方向上相对移动的基板进行成膜。多个蒸发源相互独立地具有容器和对收容于容器的蒸镀物质进行加热的加热构件。多个监视构件分别监视...

本发明提供一种在串联式的成膜装置中使用的搬送装置中，即使在搬送路径中存在方向转换的情况下也能够使搬送体移动用的技术。使用对搬送体进行搬送的搬送装置，其具备对搬送体进行搬送的多个搬送辊、对多个搬送辊进行驱动的驱动机构、设有多个搬送辊和驱动...

本发明涉及成膜装置及其检查方法，提供高精度地检测来自成膜装置的大气箱的泄漏的技术。使用如下的成膜装置，所述成膜装置具备：大气箱，其配置在真空腔室内，且内部被保持为大气环境；第一供给部件，其向位于大气箱的多个部位的、大气箱的内部的大气泄漏...

本发明提供通过使基板保持装置的静电吸盘成为与基板对应的结构来稳定地保持基板的基板保持装置、静电吸盘以及基板保持方法。本发明使用基板保持装置，该基板保持装置具备利用静电力吸引并保持基板的静电吸盘，其中，静电吸盘包括：第一部分，吸附基板的第...

本发明提供成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法，通过更难以产生制造不良的成膜方法进行成膜。成膜单元包括放出成膜材料的成膜源，一边移动一边对基板进行成膜。挡板遮挡从成膜源放出的成膜材料向基板的飞散。移动部件使挡板进行开闭。移动部件与成...

本发明提供能够更准确且简单地掌握装置的状况来进行成膜控制的技术。本发明涉及的成膜装置及成膜装置的控制方法的特征在于，通过速率控制来进行成膜，速率控制是加热控制部以使获取部所获取的成膜速率维持成规定的值的方式控制向加热源供给的电力量的控制...

本发明涉及成膜装置以及成膜方法。能够应对基板的大型化。本发明的成膜装置的特征在于，包括在成膜装置内移动并具备电池的移动体，电池在成膜装置内的第一位置处被供电，并且在成膜装置内的第二位置处进行电力的供给。且在成膜装置内的第二位置处进行电力...