本发明涉及对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法以及存储介质。提高基板与掩模的对准的精度。对准装置进行基板和掩模的对位。检测构件检测设置于掩模的第一掩模标记和第二掩模标记、以及与第一掩模标记对应地设置于基板的第一基板标记。设定...

本发明提供对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法及存储介质，抑制基板与掩模对准所需的时间增大。对准装置具备：接离部件，使基板支承部件及掩模支承部件的至少一方沿重力方向移动，使由基板支承部件支承的基板及由掩模支承部件支承的掩模沿...

本发明提供一种通过使蒸发口部彼此的距离尽可能地分离而能够抑制蒸发口部间的相互影响并防止膜厚分布产生误差的蒸镀装置及蒸发源。蒸镀装置具备蒸发源和相对移动机构，该蒸发源具有收容成膜材料的容器(1)和设于容器(1)的蒸发口部(2)，该相对移动...

本发明提供一种成膜装置、成膜方法、及电子器件的制造方法。在多个群集型单元连结的结构的成膜装置中，提供一种用于实现高精度的膜厚控制和高生产性的技术。成膜装置具备：具有对基板成膜出第一层的第一成膜室的群集型的第一单元；具有与第一层重叠地成膜...

本发明的电子器件的制造方法、测定方法以及成膜装置能够更准确地测定在基板上形成的膜的厚度，由此，准确地控制在基板的元件区域形成的膜的厚度。具有：在具有形成电子器件的元件区域以及与元件区域不同的测定区域的基板的测定区域，形成对光进行反射的反...

本发明提供一种蒸发源及成膜装置，即便是位于最外侧的蒸发口部的开口端面以朝向蒸发源的长边方向外侧的方式倾斜的结构，也能够防止成膜材料的向蒸发源的反射或再次蒸发及向蒸发源周边构件的堆积。所述蒸发源具有收容成膜材料的容器和沿着所述容器的长边方...

本发明提供基板载体、成膜装置、基板载体的输送方法以及成膜方法。在利用基板载体保持并输送基板并且进行成膜的成膜装置中，能够提高使基板载体循环时的效率。基板载体具有：板状部件，所述板状部件保持基板；一对第一部件，所述一对第一部件分别固定于板...

本发明提供一种不使基板载体整体的重量大幅增大而能够在保持基板的状态下稳定地翻转、传送的基板载体。基板载体具备：具有保持基板的第一面及作为第一面的相反侧的面的第二面的板状构件；配置在第一面侧，分别具有用于保持基板的粘着面的多个粘着构件；以...

本发明提供一种在将掩膜安装到被保持于基板载置器并被输送的基板上时，可以提高成膜精度的技术。根据本发明，在只由基板载置器支承机构(8)支承与构成基板(5)的周缘部的多个边中的沿着规定方向配置的一对相对的边相对应的基板载置器(9)的一对周缘...

本发明涉及吸附装置、成膜装置、吸附方法、成膜方法及电子器件的制造方法。使静电吸盘良好地吸附被吸附体。本发明的吸附装置的特征在于，具有：支撑单元，所述支撑单元支撑被吸附体的第一主面的周缘部，所述被吸附体具有所述第一主面和该第一主面的相反侧...

本发明提供一种成膜装置以及电子器件的制造装置，能够采用一边进行成膜材料的照射和蚀刻一边进行成膜的结构，并且能够提高薄膜的形成位置的精度。成膜装置具备：腔室(10)；通过朝向被保持在腔室(10)内的基板表面放出成膜材料来进行成膜动作的成膜...

本发明提供一种蒸发粒子的入射角大、能够实现均匀的膜厚分布、且不容易受到蒸发率变动影响的蒸镀装置及蒸发源。蒸镀装置具备蒸发源，所述蒸发源具有收容成膜材料的容器(1)和沿着容器的长边方向设置的多个蒸发口部(2a、2b)，其中，多个蒸发口部中...

提供成膜精度高的成膜装置、电子器件的制造装置、成膜方法及电子器件的制造方法。本发明的成膜装置经由掩模在具有多个单位成膜区域的基板上将成膜材料成膜，掩模具有与单位成膜区域对应的开口，其特征在于，具备：真空容器；基板吸附部件，设置在真空容器...

本发明提供一种能够抑制由磁力施加部件产生的掩模的吸附力降低的成膜装置及电子器件的制造方法。一种成膜装置，经由掩模在基板上对蒸镀材料进行成膜，具备：静电吸盘，其具有保持基板的基板保持面；掩模支承单元，其设置于所述基板保持面侧，用于保持掩模...

本发明提供一种成膜装置，能够减少对准花费的时间来抑制节拍时间的增加，另外，能够节省成膜室的空间。本发明的成膜装置具备：在基板上进行成膜的成膜室；以及设置有用于向所述成膜室交接所述基板的输送部件的输送室，所述输送室具备用于冷却所述基板的基...

本发明涉及成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法。更有效地进行基板从静电吸盘分离。一种成膜装置，经由掩模在基板上对成膜材料进行成膜，其中，所述成膜装置具备：第1基板支承部，其配置于腔室内，支承所述基板的第1边的周缘部；第2基板支承部，其...

本发明涉及一种用于抑制成膜精度降低或者卡紧性能变差的成膜装置。本发明的成膜装置配备有：掩膜一体型载置器，所述掩膜一体型载置器保持基板并且兼用作进行成膜动作时的掩膜；输送机构，所述输送机构在输送方向上输送所述掩膜一体型载置器；处理部，所述...

本发明提供一种应对重量化的掩模，不使用传送机器人就能够向大面积化的基板进行成膜的成膜装置。本发明的成膜装置的特征在于，具备：传送机构，所述传送机构沿着传送路径在第一方向上传送基板；多个第一成膜室，所述多个第一成膜室沿着所述传送路径并沿着...

本发明涉及旋转驱动装置、成膜装置以及电子器件的制造方法。能够进行翻转室中的基板的位置调整(对准)。本发明的旋转驱动装置的特征在于，具备：载体载置部，所述载体载置部载置具有保持被输送体的保持面的被输送体载体；旋转机构，所述旋转机构使所述载...

本发明涉及处理体收纳装置及包含该装置的成膜装置，其课题在于，能够以更稳定的姿势收纳更多的掩膜，通过减小配置在内部的盒的更换频率，抑制更换时的颗粒的影响。本发明为处理体收纳装置，其特征在于，包括：在铅垂方向上延伸的旋转轴；以及能够收纳处理...