【技术实现步骤摘要】
吸附装置、成膜装置、吸附方法、成膜方法及电子器件的制造方法
本专利技术涉及吸附装置、成膜装置、吸附方法、成膜方法及电子器件的制造方法。
技术介绍
在有机EL显示装置(有机EL显示器)的制造中，在形成构成有机EL显示装置的有机发光元件(有机EL元件：OLED)时，通过将从成膜装置的蒸发源蒸发的蒸镀材料经由形成有像素图案的掩模蒸镀于基板，从而形成有机物层或金属层。在向上蒸镀方式(向上沉积)的成膜装置中，蒸发源设置在成膜装置的真空容器的下部，基板配置在真空容器的上部，并向基板的下表面进行蒸镀。在这种向上蒸镀方式的成膜装置的真空容器内，由于基板仅其下表面的周边部由基板支架保持，所以基板因其自重而挠曲，这成为蒸镀精度下降的一个因素。另外，在向上蒸镀方式以外的方式的成膜装置中，也有可能因基板的自重而产生挠曲。作为用于降低由基板的自重导致的挠曲的方法，研究了使用静电吸盘的技术。即，通过用静电吸盘对基板的整个上表面进行吸附，从而能够降低基板的挠曲。
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，即使从上方将向下方挠曲的基板吸附于静电吸盘，由于吸附会花费相对较长的时间，所以工序时间(TactTime)也增加，成为使生产性下降的因素。另外，即使花费时间进行吸附，也会残留挠曲，成为使蒸镀精度下降的因素。本专利技术的目的在于使静电吸盘良好地吸附被吸附体。用于解决课题的手段本专利技术的第一方案的吸附装置的特征在于，具有：支撑单元，所述支撑单元支撑被吸附体的第一主面的周缘部，...
【技术保护点】
1.一种吸附装置，其特征在于，具有：/n支撑单元，所述支撑单元支撑被吸附体的第一主面的周缘部，所述被吸附体具有所述第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面；/n吸附部件，所述吸附部件从所述被吸附体的所述第二主面侧吸附所述被吸附体；以及/n多个推压构件，所述多个推压构件用于从所述被吸附体的所述第二主面侧推压所述被吸附体，/n所述多个推压构件分别配置在与所述被吸附体的所述第二主面具有的多个角部中的至少两个角部对应的位置。/n
【技术特征摘要】
20200228 KR 10-2020-00253591.一种吸附装置，其特征在于，具有：
支撑单元，所述支撑单元支撑被吸附体的第一主面的周缘部，所述被吸附体具有所述第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面；
吸附部件，所述吸附部件从所述被吸附体的所述第二主面侧吸附所述被吸附体；以及
多个推压构件，所述多个推压构件用于从所述被吸附体的所述第二主面侧推压所述被吸附体，
所述多个推压构件分别配置在与所述被吸附体的所述第二主面具有的多个角部中的至少两个角部对应的位置。
2.一种吸附装置，其特征在于，具有：
支撑单元，所述支撑单元支撑被吸附体的第一主面的周缘部，所述被吸附体具有所述第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面；
吸附部件，所述吸附部件从所述被吸附体的所述第二主面侧吸附所述被吸附体；
推压构件，所述推压构件用于从所述被吸附体的所述第二主面侧推压所述被吸附体；
容器，所述容器在内部配置有所述支撑单元、所述吸附部件及所述推压构件；
支撑单元移动机构，所述支撑单元移动机构使所述支撑单元在与所述第一主面或所述第二主面垂直的方向上移动；以及
控制部，所述控制部控制所述支撑单元移动机构，
所述推压构件相对于所述容器固定地配置，
所述控制部以如下方式控制所述支撑单元移动机构：通过利用所述支撑单元移动机构向接近所述推压构件的方向移动所述支撑单元，从而所述被吸附体由所述推压构件推压。
3.根据权利要求1所述的吸附装置，其特征在于，
所述多个推压构件中的至少两个分别配置在与所述被吸附体的所述第二主面具有的多个角部中的相向的两个角部对应的位置。
4.根据权利要求2所述的吸附装置，其特征在于，
所述推压构件配置在与所述被吸附体的所述第二主面具有的角部对应的位置。
5.根据权利要求3或4所述的吸附装置，其特征在于，
所述推压构件配置在与所述被吸附体的全部所述角部对应的位置。
6.根据权利要求1或2所述的吸附装置，其特征在于，
所述被吸附体为矩形。
7.根据权利要求1或2所述的吸附装置，其特征在于，
在从与所述第一主面或所述第二主面垂直的方向观察时，作为所述支撑单元支撑所述被吸附体的所述第一主面上的区域的支撑区域与作为所述推压构件推压所述被吸附体的所述第二主面上的区域的推压区域不重叠。
8.根据权利要求7所述的吸附装置，其特征在于，
将所述支撑区域垂直投影在所述第二主面上而成的投影区域与所述推压区域以沿着假想线的方式排列，所述假想线构成与所述第一主面的外周相似的图形。
9.根据权利要求1所述的吸附装置，其特征在于，还具有：
支撑单元移动机构，所述支撑单元移动机构使所述支撑单元在与所述第一主面或所述第二主面垂直的方向上移动；以及
控制部，所述控制部控制所述吸附部件及所述支撑单元移动机构，
所述控制部以如下方式控制所述支撑单元移动机构：在利用所述吸附部件吸附被吸附体之前，使所述支撑单元在接近所述推压构件的方向上移动，并利用所述推压构件推压所述被吸附体。
10.根据权利要求2或9所述的吸附装置，其特征在于，
所述吸附装置还具有使所述吸附部件在所述垂直的方向上移动的吸附部件移动机构，
所述控制部以如下方式控制所述吸附部件移动机构：在利用所述支撑单元移动机构使所述支撑单元在接近所述推压构件的方向上移动的期间中的至少一部分期间中，使所述吸附部件在接近所述推压构件的方向上与所述支撑单元一起移动。
11.根据权利要求1或2所述的吸附装置，其特征在于，
所述吸附部件在与所述推压构件的位置对应的位置形成有孔。
12.根据权利要求1或2所述的吸附装置，其特征在于，
所述吸附部件包含：设置在与所述推压构件的位置对应的位置的孔和配置在所述孔的内部并能够相对于所述孔相对移动地设置的块构件。
13.根据权利要求12所述的吸附装置，其特征在于，
所述块构件构成为：在从所述孔位移时，恢复力向所述孔作用。
14.一种成膜装置，其特征在于，具有：
基板支撑单元，所述基板支撑单元支撑基板的第一主面的周缘部，所述基板具有所述第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面；
基板吸附部件，所述基板吸附部件从所述基板的所述第二主面侧吸附所述基板；
多个推压构件，所述多个推压构件用于从所述基板的所述第二主面侧推压所述基板；以及
容器，所述容器在内部配置有所述基板支撑单元、所述基板吸附部件及所述多个推压构件，
所述多个推压构件分别配置在与所述基板的所述第二主面具有的多个角部中的至少两个角部对应的位置。
15.一种成膜装置，其特征在于，具有：
基板支撑单元，所述基板支撑单元支撑基板的第一主面的周缘部，所述基板具有所述第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面；
基板吸附部件，所述基板吸附部件从所述基板的所述第二主面侧吸附所述基板；
多个推压构件，所述多个推压构件用于从所述基板的所述第二主面侧推压所述基板；
容器，所述容器在内部配置有所述基板支撑单元、所述基板吸附部件及所述多个推压构件；
基板支撑单元移动机构，所述基板支撑单元移动机构使所述基板支撑单元在与所述第一主面或所述第二主面垂直的方向上移动；以及
控制部，所述控制部控制所述基板支撑单元移动机构，
所述推压构件相对于所述容器固定地配置，
所述控制部以如下方式控制所述基板支撑单元移动机构：通过利用所述基板支撑单元移动机构向接近所述推压构件的方向移动所述基板支撑单元，从而所述基板由所述推压构件推压。
16.根据权利要求14或15所述的成膜装置，其特征在于，
所述成膜装置还具有在由所述基板吸附部件吸附的所述基板的所述第一主面上成膜的成膜部件。
17.根据权利要求14所述的成膜装置，其特征在于，
所述多个推压构件中的至少两个分别配置在与所述基板的所述第二主面具有的多个角部中的相向的两个角部对应的位置。
18.根据权利要求15所述的成膜装置，其特征在于，
所述推压构件配置在与所述基板的所述第二主面具有的角部对应的位置。
19.根据权利要求17或18所述的成膜装置，其特征在于，
所述推压构件分别配置在与所述基板的所述第二主面具有的全部角部对应的位置。
20.根据权利要求14或15所述的成膜装置，其特征在于，
所述基板为矩形。
21.根据权利要求14或15所述的成膜装置，其特征在于，
在从与所述基板的所述第一主面或第二主面垂直的方向上观察时，作为所述基板支撑单元支撑所述基板的所述第一主面上的区域的支撑区域与作为所述推压构件推压所述基板的所述第二主面上的区域的推压区域不重叠。
22.根据权利要求21所述的成膜装置，其特征在于，
将所述支撑区域垂直投影在所述第二主面上而成的投影区域与所述推压区域以沿着假想线的方式排列，所述假想线构成与所述第一主面的外周相似的图形。
23.根据权利要求14所述的成膜装置，其特征在于，还具有：
基板支撑单元移动机构，所述基板支撑单元移动机构使所述基板支撑单元在与所述第一主面或所述第二主面垂直的方向上移动；以及
控制部，所述控制部控制所述基板吸附部件及所述基板支撑单元移动机构，
所述控制部以如下方式控制所述基板支撑单元移动机构：在利用所述基板吸附部件吸附被吸附体之前，使所述基板支撑单元在接近所述推压构件的方向上...
【专利技术属性】
技术研发人员：石井博，诸桥悟，川畑奉代，柏仓一史，富井广树，细谷映之，上田利幸，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，阿奥依株式会社，株式会社沙迪克，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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