成膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种成膜装置，提供一种防止附着于挡板的成膜材料落下的技术。本发明专利技术的成膜装置具备：第一移动部件，所述第一移动部件使向基板放出成膜材料的成膜源和基板中的至少任一个沿规定的方向移动；以及第二移动部件，所述第二移动部件进行控制，以使挡板在对成膜材料从成膜源向基板的入射进行限制的第一位置与不对成膜材料从成膜源向基板的入射进行限制的一个位置之间移动，第二移动部件进行控制，以便在从基板观察时成膜源及挡板在规定的方向上位于相同的方向且基板不位于成膜源的放出方向的情况下，使位于成膜源的放出方向的挡板向规定的方向及与该规定的方向相反的方向移动。向移动。向移动。

【技术实现步骤摘要】
成膜装置


[0001]本专利技术涉及使成膜源移动并在基板上对成膜材料进行成膜的成膜装置。

技术介绍

[0002]作为有机EL显示器等的制造设备，已知有向成膜室输送基板并对基板进行成膜的装置。在专利文献1中记载了使蒸发源移动并进行成膜材料的放出的扫描成膜型的成膜装置。
[0003]在先技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2016
‑
196684号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的课题
[0007]在此，从蒸发源放出的成膜材料会附着于用于对成膜材料的路径进行开闭的挡板。另外，在附着于挡板的成膜材料的厚度变大时，成膜材料有时会落下并附着于喷嘴。在这样的情况下，在基板上对成膜材料进行成膜所需的时间会发生变化或无法进行均匀的成膜等成膜处理的质量下降成为了问题。
[0008]鉴于上述问题，本专利技术的目的在于提供一种防止附着于挡板的成膜材料落下的技术。
[0009]用于解决课题的手段
[0010]根据本专利技术，提供一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：
[0011]第一移动部件，所述第一移动部件使向基板放出成膜材料的成膜源和所述基板中的至少任一个沿规定的方向移动；以及
[0012]第二移动部件，所述第二移动部件进行控制，以使挡板在对成膜材料从所述成膜源向所述基板的入射进行限制的第一位置与不对成膜材料从所述成膜源向所述基板的入射进行限制的一个位置之间移动，
[0013]所述第二移动部件进行控制，以便在从所述基板观察时所述成膜源及所述挡板在所述规定的方向上位于相同的方向且所述基板不位于所述成膜源的放出方向的情况下，使位于所述成膜源的所述放出方向的所述挡板向所述规定的方向及与该规定的方向相反的方向移动。
[0014]另外，根据本专利技术的另一侧面，提供一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：
[0015]第一移动部件，所述第一移动部件使向基板放出成膜材料的成膜源和所述基板中的至少任一个沿规定的方向移动；以及
[0016]第二移动部件，所述第二移动部件进行控制，以使挡板在对成膜材料从所述成膜源向所述基板的入射进行限制的第一位置与不对成膜材料从所述成膜源向所述基板的入
射进行限制的第一位置之间移动，
[0017]所述第二移动部件在从所述基板观察时所述成膜源及所述挡板在所述规定的方向上位于相同的方向且所述基板不位于所述成膜源的放出方向的情况下，使位于所述成膜源的放出方向的基准位置的所述挡板向与所述基准位置相比位于所述规定的方向的第一位置及位于与该规定的方向相反的方向的第二位置移动。
[0018]另外，根据本专利技术的另一侧面，提供一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：
[0019]第一移动部件，所述第一移动部件使向基板放出成膜材料的成膜源和所述基板中的至少任一个沿规定的方向移动；以及
[0020]第二移动部件，所述第二移动部件进行控制，以使挡板在对成膜材料从所述成膜源向所述基板的入射进行限制的第一位置与不对成膜材料从所述成膜源向所述基板的入射进行限制的第二位置之间移动，
[0021]所述第二移动部件在所述基板位于所述成膜源的成膜范围外的情况下，使位于所述成膜源的放出方向的所述挡板向所述规定的方向及与该规定的方向相反的方向移动。
[0022]另外，根据本专利技术的另一侧面，提供一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：
[0023]保持部，所述保持部在成膜时保持掩模及基板；
[0024]成膜源，所述成膜源在所述成膜装置内往复移动并进行成膜；以及
[0025]移动部件，所述移动部件使挡板在第一位置与第二位置之间移动，所述第一位置是对成膜材料从所述成膜源向配置于所述保持部的所述基板的入射进行限制的位置，所述第二位置是不对成膜材料从所述成膜源向配置于所述保持部的所述基板的入射进行限制的位置，
[0026]所述移动部件在向由所述保持部保持的所述基板的成膜时，伴随着所述成膜源的移动方向的切换，在从所述成膜源开始减速起到结束加速为止的期间，使所述挡板移动。
[0027]专利技术效果
[0028]根据本专利技术，能够提供一种防止附着于挡板的成膜材料落下的技术。
附图说明
[0029]图1是本专利技术的一实施方式的成膜系统的布置图。
[0030]图2是成膜室10内的输送单元的说明图。
[0031]图3是成膜室10的说明图。
[0032]图4(A)～(C)是示出成膜处理中的成膜源31的移动的图。
[0033]图5是示出附着于挡板21的成膜材料的分布的图。
[0034]图6(A)～(C)是示出本实施方式的成膜处理中的成膜源31和挡板21的移动的图。
[0035]图7是示出本实施方式的成膜处理中的挡板21的折返位置的图。
[0036]图8(A)～(C)是示出本实施方式的成膜处理中的成膜源31和挡板21的移动的图。
[0037]图9是成膜室1000的说明图。
[0038]图10是示出成膜室1000的输送辊的配置的图。
[0039]图11(A)～(F)是示出本实施方式的成膜处理中的成膜源1010和挡板1031、1032的
移动的图。
[0040]图12(A)～(C)是示出本实施方式的成膜处理中的挡板1031的移动例的图。
[0041]图13(A)～(C)是示出本实施方式的成膜处理中的挡板1032的移动例的图。
[0042]图14(A)是示出有机EL显示装置的整体图，(B)是示出一个像素的截面构造的图。
[0043]附图标记说明
[0044]10成膜室、11A及11B输送单元、6A～6D保持单元、20A及20B挡板单元、31：成膜源。
具体实施方式
[0045]以下，参照附图，对实施方式进行详细说明。此外，以下的实施方式并不限定权利要求书的技术方案。虽然在实施方式中记载了多个特征，但上述多个特征未必全部都是专利技术所必需的，另外，也可以将多个特征任意地组合。而且，在附图中，对相同或同样的结构标注相同的附图标记，并省略重复的说明。
[0046]＜第一实施方式＞
[0047](系统的概要)
[0048]图1是成膜系统1的布置图。此外，在各图中，箭头Z表示上下方向(重力方向)，箭头X及箭头Y表示相互正交的水平方向。箭头θ表示绕Z轴的旋转方向。
[0049]成膜系统1为中间输送装置101、成膜装置3及中间输送装置102沿X方向排列的结构，按照该顺序输送基板W并进行处理。中间输送装置101在基板W的输送方向上位于上游侧，中间输送装置102在基板W的输送方向上位于下游侧。在图示的例子中，成膜系统1具备一个成膜装置3，但也能够在中间输送装置101的上游侧或中间输送装置102的下游侧设置成膜装置3。控制装置2具备CPU等处理器、半导体存储器、硬盘等存储器件、输入输出接口，对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：第一移动部件，所述第一移动部件使向基板放出成膜材料的成膜源和所述基板中的至少任一个沿规定的方向移动；以及第二移动部件，所述第二移动部件进行控制，以使挡板在对成膜材料从所述成膜源向所述基板的入射进行限制的第一位置与不对成膜材料从所述成膜源向所述基板的入射进行限制的一个位置之间移动，所述第二移动部件进行控制，以便在从所述基板观察时所述成膜源及所述挡板在所述规定的方向上位于相同的方向且所述基板不位于所述成膜源的放出方向的情况下，使位于所述成膜源的所述放出方向的所述挡板向所述规定的方向及与该规定的方向相反的方向移动。2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述第一移动部件进行控制，以使所述成膜源向所述规定的方向及与所述规定的方向相反的方向中的任一个移动。3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，所述第一移动部件进行控制，以便在使所述成膜源从所述成膜源位于所述基板的下方的成膜范围移动到所述成膜范围外之后，使所述成膜源再次进入到所述成膜范围。4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，所述第二移动部件在所述成膜源位于所述成膜范围外的期间控制所述挡板的移动。5.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，所述第二移动部件根据所述成膜源从所述成膜范围外移动到所述成膜范围，结束所述挡板的移动动作并开始所述挡板的开闭动作。6.一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：第一移动部件，所述第一移动部件使向基板放出成膜材料的成膜源和所述基板中的至少任一个沿规定的方向移动；以及第二移动部件，所述第二移动部件进行控制，以使挡板在对成膜材料从所述成膜源向所述基板的入射进行限制的第一位置与不对成膜材料从所述成膜源向所述基板的入射进行限制的第一位置之间移动，所述第二移动部件在从所述基板观察时所述成膜源及所述挡板在所述规定的方向上位于相同的方向且所述基板不位于所述成膜源的放出方向的情况下，使位于所述成膜源的放出方向的基准位置的所述挡板向与所述基准位置相比位于所述规定的方向的第一位置及位于与该规定的方向相反的方向的第二位置移动。7.根据权利要求6所述的成膜装置，其特征在于，所述第一移动部件进行控制，以使所述成膜源向所述规定的方向及与所述规定的方向相反的方向中的任一个移动。8.根据权利要求7所述的成膜装置，其特征在于，所述第一移动部件进行控制，以便在使所述成膜源从所述成膜源位于所述基板的下方的成膜范围移动到所述成膜范围外之后，使所述成膜源再次进入到所述成膜范围。9.根据权利要求8所述的成膜装置，其特征在于，所述第二移动部件在所述成膜源位于所述成膜范围外的期间控制所述挡板的移动。
10.根据权利要求9所述的成膜装置，其特征在于，所述第二移动部件根据所述成膜源从所述成膜范围外移动到所述成膜范围，结束所述挡板的移动动作并开始所述挡板的开闭动作。11.一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：第一移动部件，所述第一移动部件使向基板放出成膜材料的成膜源和所述基板中的至少任一个沿规定的方向移动；以及第二移动部件，所述第二移动部件进行控制，...

【专利技术属性】
技术研发人员：菅原由季，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：