一种MOCVD设备及其进气装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种MOCVD设备及其中的进气装置，通过在进气装置的下表面预先进行表面处理，形成耐高温及耐化学腐蚀的表面处理层，例如是与实际生产后的附着层的性质相类似的吸光涂层，或者热处理层，或化学处理层，或结构处理层等，这些表面处理层的形成能够提高光学测量环境和反应腔内温场环境的稳定性，使得MOCVD设备在连续运行情况下，光学测量结果仍能保持较高的准确度和一致性，进而能够实现MOCVD设备稳定的运行，保证炉次间的设备工艺稳定性，从而降低腔体环境改变对生产带来的影响，提高生产的良品率，降低生产成本。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

MOCVD equipment and air intake device thereof

The utility model relates to a MOCVD device and the air intake device, through the surface in the air intake device in advance of surface treatment, the formation of surface layer of high temperature resistance and chemical corrosion resistance, such as light absorbing coating is similar with the actual production after the adhesion layer properties, or heat treatment, or chemical treatment layer, or layer structure, the formation of the surface treatment layer can improve the optical measurement environment and temperature and reaction cavity environment stability, making the MOCVD equipment in continuous operation, the optical measurement results can keep high accuracy and consistency, so as to realize the stable operation of MOCVD equipment, ensure the equipment process the stability of furnace, thereby reducing the cavity effects of environment changes brought to the production, improve the production yield and reduce production cost.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及化学气相沉积设备，特别涉及到化学气相沉积设备中的进气装置。
技术介绍
化学气相沉积设备例如金属有机化学气相沉积(MOCVD)设备是生产半导体光电器件的核心设备之一，其中MOCVD设备主要用来生产外延片，在外延片生产过程中，反应气体被导入反应腔并发生化学反应进而沉积或外延生长出晶体结构薄膜。目前MOCVD设备生产外延片主要存在的问题包括工艺稳定性差，生产产品良率过低，连续化生产过程不能实现有效的重复生产等。究其原因，主要为生产过程中的反应副产物会影响光学测量效果的准确性和稳定性，进而影响设备的稳定运行和工艺的稳定性。为克服上 述问题，目前MOCVD设备中常用的思路是减少反应副产物的生成，例如现有的一种方法通过加大载气(carrier gas)总量,减少紊流现象的出现进而减少副反应的进行，这样就能减少反应副产物的生成，避免或者延缓腔体环境的变化，但是这种办法会降低反应气体的实际利用率，导致生产效率下降。另一种可供选择的方案是改变腔体的设计模式，在反应副产物附着在腔体内时及时地去除掉反应副产物，例如通过离子轰击的办法去除反应副产物，但是该方案一方面增加了腔体设计的复杂度，另一方本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种适用于MOCVD设备的进气装置，用于输送至少两种反应气体进入该MOCVD设备的反应腔中，其特征在于，所述进气装置的下表面上设有表面处理层。

【技术特征摘要】
2013.01.11 CN 201320014561.81.一种适用于MOCVD设备的进气装置，用于输送至少两种反应气体进入该MOCVD设备的反应腔中，其特征在于，所述进气装置的下表面上设有表面处理层。2.如权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述表面处理层为对进气装置下表面预先进行表面处理而得到的表面结构层。3.如权利要求2所述的进气装置，其特征在于，所述表面处理层为耐高温及耐化学腐蚀的表面结构层，其中高温指100-700摄氏度。4.如权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述表面处理层为改变进气装置下表面光学特性的表面结构层。5.如权利要求4所述的进气装置，其特征在于，所述改变进气装置下表面光学特性的表面结构层为热处理层或化学处理层或结构处理层。6.如权利要求4所述的进气装置，其特征在于，所述改变进气装置下表面光学特性的表面结构层为吸光涂层。7.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐春阳，陈凯辉，金小亮，马法君，赵辉，任立，李淼，王国斌，巩前程，金文彬，施建新，张伟，
申请(专利权)人：中晟光电设备上海有限公司，
类型：实用新型
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