【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于。
技术介绍
现有的被动元件双面电极层成膜是于被动元件本体的表面上网版印刷银浆,之后进行150到200摄氏度的预烤,另一面电极层亦使用相同制程,再以高温炉加热约800至900摄氏度的高温烧结此被动元件以确保银浆附着。然而,使用网版双面印刷制程耗时接近一小时,相对于使用双面沉积方法而言不仅耗时费工,且成本极高,对于高温制程所造成的环保问题也是一大诟病。即现有的网版双面印刷制程需高温加热达数十分钟,不但耗费能源且造成环境温度升高。
技术实现思路
鉴于
技术介绍
提及的各项问题,本专利技术提出,以解决现有技术存在的问题。本专利技术提出,包括下列步骤:(a)提供一适用于被动元件之双面覆膜设备,该适用于被动元件之双面覆膜设备包括:第一低压腔体;至少一个空间的制程腔体,第一低压腔体以及制程腔体之间具有闸门;`第二低压腔体,制程腔体以及第二低压腔体之间具有闸门;以及,输送系统,输送系统位于第一低压腔体、制程腔体、以及第二低压腔体的内部,输送系统可输送一待镀物,使得待镀物依序通过第一低压腔体、制程腔体以及第二低压腔体,当制程腔体包括若干个空间时,制程腔体的各个空间分别为第一沉积空间以及第二沉积空间,第一沉积空间以及第二沉积空间彼此连通,待镀物被传输而进入制程腔体后,待镀物依序通过第一沉积空间以及第二沉积空间,尔后再进入第二低压腔体,第一沉积空间具有单个或多个靶材,当第一沉积空间具有的靶材为多个时,第一沉积空间的各靶材的材料选择性地彼此相同或相异,第二沉积空间具有单个或多个靶材,当第二沉积空间具有的靶材为多个时,第二沉积空间的各靶材的材料选择性地彼此相同或相异;( ...
【技术保护点】
一种适用于被动元件之双面覆膜方法,其特征在于,包括下列步骤:(a)提供一适用于被动元件之双面覆膜设备,该适用于被动元件之双面覆膜设备包括:第一低压腔体;至少一个空间的制程腔体,第一低压腔体以及制程腔体之间具有闸门;第二低压腔体,制程腔体以及第二低压腔体之间具有闸门;以及,输送系统,输送系统位于第一低压腔体、制程腔体、以及第二低压腔体的内部,输送系统可输送一待镀物,使得待镀物依序通过第一低压腔体、制程腔体以及第二低压腔体,当制程腔体包括若干个空间时,制程腔体的各个空间分别为第一沉积空间以及第二沉积空间,第一沉积空间以及第二沉积空间彼此连通,待镀物被传输而进入制程腔体后,待镀物依序通过第一沉积空间以及第二沉积空间,尔后再进入第二低压腔体,第一沉积空间具有单个或多个靶材,当第一沉积空间具有的靶材为多个时,第一沉积空间的各靶材的材料选择性地彼此相同或相异,第二沉积空间具有单个或多个靶材,当第二沉积空间具有的靶材为多个时,第二沉积空间的各靶材的材料选择性地彼此相同或相异;(b)使得待镀物位于输送系统上;(c)使输送系统输送待镀物至第一低压腔体;(d)进行一抽高真空动作以及一加热动作于第一低压腔体 ...
【技术特征摘要】
2011.12.19 TW 1001475831.一种适用于被动元件之双面覆膜方法,其特征在于,包括下列步骤: (a)提供一适用于被动元件之双面覆膜设备,该适用于被动元件之双面覆膜设备包括: 第一低压腔体; 至少一个空间的制程腔体,第一低压腔体以及制程腔体之间具有闸门; 第二低压腔体,制程腔体以及第二低压腔体之间具有闸门;以及, 输送系统,输送系统位于第一低压腔体、制程腔体、以及第二低压腔体的内部,输送系统可输送一待镀物,使得待镀物依序通过第一低压腔体、制程腔体以及第二低压腔体,当制程腔体包括若干个空间时,制程腔体的各个空间分别为第一沉积空间以及第二沉积空间,第一沉积空间以及第二沉积空间彼此连通,待镀物被传输而进入制程腔体后,待镀物依序通过第一沉积空间以及第二沉积空间,尔后再进入第二低压腔体,第一沉积空间具有单个或多个靶材,当第一沉积空间具有的靶材为多个时,第一沉积空间的各靶材的材料选择性地彼此相同或相异,第二沉积空间具有单个或多个祀材,当第二沉积空间具有的靶材为多个时,第二沉积空间的各靶材的材料选择性地彼此相同或相异; (b)使得待镀物位于输送系统上; (C)使输送系统输送待镀物至第一低压腔体; (d)进行一抽高真空动 作以及一加热动作于第一低压腔体; (e)打开第一低压腔体以及制程腔体之间的闸门,以使输送系统输送待镀物至制程腔体内的第一沉积空间,关闭第一低压腔体以及制程腔体之间的闸门,再进行一沉积制程于待镀物的单一表面或若干个第一表面; (f)使输送系统输送待镀物至制程腔体内的第二沉积空间,再进行另一沉积制程于待镀物的另一单一表面或若干个第二表面,另一单一表面与单一表面彼此背对背对应; (g)打开制程腔体以及第二低压腔体之间的闸门,以使输送系统输送已被覆膜的待镀物至第二低压腔体;以及 (h)关闭制程腔体以及第二低压腔体之间的闸门。2.如权利要求1所述的适用于被动元件之双面覆膜方法,其特征在于,其中适用于被动元件的双面覆膜设备还包括: 载入腔体; 等离子清洁腔体;以及, 载出腔体,载入腔体以及等离子清洁腔体的间具有闸门,等离子清洁腔体以及第一低压腔体之间具有闸门,第二低压腔体以及载出腔体之间具有闸门,输送系统位于载入腔体、等离子清洁腔体、第一低压腔体、制程腔体、第二低压腔体以及载出腔体的内部,输送系统可输送待镀物,使得待镀物依序通过载入腔体、等离子清洁腔体、第一低压腔体、制程腔体、第二低压腔体以及载出腔体,第一沉积空间及第二沉积空间为辉光放电沉积腔体、蒸...
【专利技术属性】
技术研发人员:李智渊,蔡硕文,黄耀贤,蔡俊毅,
申请(专利权)人:钜永真空科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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