一种改进结构的电弧靶及其控制系统技术方案

本发明专利技术公开一种改进结构的电弧靶及其控制系统，包括真空室(1)、引弧电极(2)、靶材(3)、弧电流源(4)和冷却装置(5)，引弧电极(2)设在靶材(3)上并连通引弧电路连接端(11)，所述引弧电路连接端设在真空室(1)外壳上，靶材通过靶座(3-1)安装在真空室内，其特征在于：靶材(3)呈圆锥状或截头圆锥状，冷却装置(5)直接与靶座(3-1)连接、构成对靶材的直接冷却结构；在靶座(3-1)的外表面设有挡圈(6)、以防止弧斑烧蚀靶座(3-1)及冷却装置(5)；在真空室(1)的外表面设有用于稳定电弧的磁场可调式环形电磁线圈(7)、以稳定电弧，环形电磁线圈(7)的输入端连接直流电源(8)。本发明专利技术具有靶材利用率高、连续运行时间长、离子离化率高的有益效果。

【技术实现步骤摘要】
一种改进结构的电弧靶及其控制系统
本专利技术涉及一种电弧靶，特别是涉及一种改进结构的电弧靶及其控制系统。属于真空电弧离子镀
技术背景目前，真空电弧离子镀已经技术广泛应用于工具与模具行业，提高了工模具产品的使用性能和服役寿命。对于常规工模具的涂层，由于其涂层膜厚要求一般只有几微米，进行涂镀时间最多需要几个小时，因此，使用常规电弧靶及其涂层设备就可满足技术要求。随着制造业的进步，真空等离子涂层已经获得更广泛的应用，对涂层的技术指标和技术要求更高。例如涡轮发动机叶片就要进行隔热涂层，其涂层厚度要求达到几十微米，连续涂层时间达24小时以上。此外，对于连续式带材真空等离子涂层设备，需要电弧靶连续涂层的时间也超过24小时。对于连续涂层时间很长的设备，需要解决的最大问题是如何使电弧靶长时间地稳定工作。现有技术一般采用圆饼形电弧靶延长其工作时间。常规的圆饼形电弧靶，为了防止弧斑跑到外缘造成灭弧现象，通常在靶的外缘加一个挡圈，当弧斑跑到外缘时，利用所述挡圈使弧斑返回靶中心区域。另外，为了进一步稳定弧斑，还会在靶材的背后布置一块磁铁，定期进行调整磁铁与靶面的轴向距离，使弧斑稳定。现有技术的这本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种改进结构的电弧靶，包括靶桶(1)、引弧电极(2)、靶材(3)、弧电流源(4)和冷却装置(5)。所述靶桶(1)安装在涂层设备的真空室(12)上，引弧电极(2)设在靶材(3)上并连通引弧电路(11)。所述引弧电路(11)连接端设在靶桶(1)外壳上，靶材通过靶座(3?1)安装在靶桶(1)内。其特征在于：靶材(3)呈截头圆锥状，冷却装置(5)直接与靶座(3?1)连接，构成对靶材的直接冷却结构；在靶座(3?1)的外表面设有灭弧圈(6)，以防止弧斑烧蚀靶座(3?1)及冷却装置(5)；在靶桶(1)的外表面设有产生电磁场用于稳定电弧弧斑的可调式环形电磁线圈(7)，环形电磁线圈(7)的输入端连接直流电源(8...

【技术特征摘要】
1.一种改进结构的电弧靶，包括靶桶(1)、引弧电极(2)、靶材(3)、弧电流源(4)和冷却装置(5)；所述靶桶(1)安装在涂层设备的真空室(12)上，引弧电极(2)设在靶材(3)上并连通引弧电路(11)；所述引弧电路(11)连接端设在靶桶(1)外壳上，靶材通过靶座(3-1)安装在靶桶(1)内；其特征在于：靶材(3)呈截头圆锥状，冷却装置(5)直接与靶座(3-1)连接，构成对靶材的直接冷却结构；在靶座(3-1)的外表面设有灭弧圈(6)，以防止弧斑烧蚀靶座(3-1)及冷却装置(5)；在靶桶(1)的外表面设有产生电磁场用于稳定电弧弧斑的可调式环形电磁线圈(7)，环形电磁线圈(7)的输入端连接直流电源(8)。2.根据权利要求1所述的一种改进结构的电弧靶，其主要特征在于：所述冷却装置(5)由进水管(5-1)、出水管(5-2)，以及连通靶座(3-1)的内部空腔构成，冷却水通过靶座(3-1)循环带走热量，以实现电弧冷却。3.根据权利要求1或2所述的一种改进结构的电弧靶，其特征在于：所述靶材(3)的中轴线与靶桶(1)的中轴线重合，靶材工作面原始厚度为35mm，靶面烧蚀后的厚度最薄达3mm。4.根据权利要求1或2所述的一种改进结构的电弧靶，其特征在于：环形电磁线圈(7)由空心电磁线圈构成。5.根据权利要求4所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：董小虹，张中弦，梁航，黄拿灿，亚历山大·哥罗沃依，
申请(专利权)人：广东世创金属科技有限公司，
类型：发明
国别省市：