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本发明公开一种改进结构的电弧靶及其控制系统，包括真空室(1)、引弧电极(2)、靶材(3)、弧电流源(4)和冷却装置(5)，引弧电极(2)设在靶材(3)上并连通引弧电路连接端(11)，所述引弧电路连接端设在真空室(1)外壳上，靶材通过靶座(3...
该专利属于广东世创金属科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东世创金属科技有限公司授权不得商用。

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