圆盘状基板的制造方法技术

一种圆盘状基板的制造方法，利用该圆盘状基板的制造方法能够以低廉的设备费用来实现良好的除尘环境，并在该良好的除尘环境中制造出高精度的圆盘状基板。在利用磨削装置（１１０）和研磨装置（１１１）对圆盘状基板进行磨削和研磨的工序中，从顶棚（１２０）向地板面产生气流，在设置有该磨削装置（１１０）和研磨装置（１１１）的同一平面中，在地板面上设置由开设有贯通孔（１３１）的板形成的多孔地板（１３０），使水流入该多孔地板（１３０）的下部，从而借助于来自顶棚（１２０）的气流将由磨削装置（１１０）和研磨装置（１１１）产生的粉尘导入水中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及例如磁记录介质用玻璃基板等等。
技术介绍
随着作为记录介质的需要的提高，近年来，作为圆盘状基板的盘式 基板的制造也活跃起来。作为这种盘式基板之一的磁盘基板，广泛使用 铝基板和玻璃基板。这种铝基板在加工性高且价格低廉这方面具有特长， 而玻璃基板在强度、表面的平滑性、平坦性优良这方面具有特点。尤其 是最近，盘式基板的小型化和高密度化的要求显著增高，从而对减小基 板表面的粗糙度并可实现高密度化的玻璃基板的关注度变高了。在制造这种磁盘基板时，在磨削工序和研磨工序中使磨削、研磨条 件适宜来提高基板的平滑性、平坦性是重要的，然而近年来，除了这种 使磨削、研磨条件适宜之外，制造工序中的环境也被认为很重要。作为 公报记载的现有技术，应对在基板的最终研磨后大气中的灰尘附着在基板的表面上所产生的质量问题，存在着在清洁室(cleanroom)内用水溶 液进行冲洗的同时实施最终精研磨的技术(例如，参照专利文献1。)。另外，作为另一公报记载的技术，存在有这样的技术以防止在研 磨工序中在空气中浮游的颗粒(particle)附着到基板上为目的，在大气 中进行磨削工序，并在清洁室(无尘室)中进行研磨工序以及其后的工 序(例如，参照专利文献2。)。专利文献1:日本特开平9-288820号公报专利文献2:日本特开2001-250226号公报此处，想要防止在大气中浮游的颗粒附着到基板上这个课题一直以 来都存在。因此，在现有技术中，通过将颗粒的附着会成为问题的工序在清洁室内进行来加以应对。但是，当将颗粒的附着会成为问题的全部 工序都在清洁室中进行时，会给清洁室的设备建设和设备的维护管理造 成庞大的费用，所以会导致原始成本(初期投资费用)增大，并且制造 成本也会增大。尤其是在制造作为最尖端技术的磁盘基板时，产品的更 新换代速度也快，设备所需的成本对产品的影响变得非常大。另外，在制造磁盘基板时，在每一道制造工序中应除去的具体颗粒 是不同的。例如在磨削工序和初期的研磨工序中，虽然是程度比较大的 除去作业但几乎不会给产品带来不良影响。而在完全不采取对策的情况 下，例如在大气中浮游的颗粒会附着在磁盘基板的表面，或者例如在大 气中浮游的颗粒会混入到研磨液中，从而使基板表面的平滑性变差。因 而，不想进行像清洁室那样的庞大的设备投资，而强烈期望可利用简易 的设备进行良好的除尘。
技术实现思路
本专利技术就是为了解决以上这样的技术课题而完成的，其目的在于能 够以低廉的设备费用实现良好的除尘环境，并在该良好的除尘环境中制 造出高精度的圆盘状基板。为了达到所述目的，应用本专利技术的的特征在 于，在利用磨削装置和/或研磨装置对圆盘状基板进行磨削和/或研磨的工 序中，从上方朝下方产生气流，地板具有上侧地板面和下侧地板面，该 上侧地板面由开设有贯通孔的板以及网状部件中的任一种构成，该下侧 地板面将上侧地板面支撑在向上离开的位置上，在地板的上侧地板面上 设置磨削装置和/或研磨装置，并在该下侧地板面上配置水，借助于气流 将磨削装置和/或研磨装置产生的粉尘导入水中。此处，如果特征在于该上侧地板面是在金属板上连续地开设有贯通 孔的板条板(lath)，则除了将气流导入到下侧地板面的效果之外，在能 够良好地保持现场的作业性方面也是优选的。另外，如果特征在于配置在该下侧地板面上的水，在上侧地板面的 下方形成水流，则能够利用该水流将含有颗粒的水从除尘环境中除去。另外，如果特征在于磨削和/或研磨用的配管和配线中的任一方都在 比磨削装置和/或研磨装置的加工区域靠近下方的位置从装置壳体突出， 则与不采用本结构的情况相比，能够减轻堆积在配管和配线的任一方上 的粉尘下落对加工的影响。并且，如果特征在于该上侧地板面也设置在作业人员操作磨削装置 和/或研磨装置的作业区域中，随着气流吹到磨削装置和/或研磨装置上而 在作业区域中产生气流并将粉尘导入水中，则不仅在装置部分在作业区 域中都能够以低成本实现良好的除尘环境。根据构成为以上所述那样的本专利技术，与不采用这些结构的情况相比， 能够以更加低廉的设备费用实现更加良好的除尘环境。附图说明图1A 图1H是表示应用本实施方式的圆盘状基板(盘式基板)的 制造工序的图。图2是表示应用本实施方式的除尘环境的图。图3A、图3B是表示除尘环境中的多孔地板和耐水地板的图。标号说明10:圆盘状基板；22:内周磨石；23:外周磨石；24:外周研磨用 刷；100:除尘环境；110:磨削装置；110a:加工区域；110b:配管；110c: 配线；111:研磨装置；120:顶棚；121:送风口 ； 130:多孔地板；131: 贯通孔；140:供水槽；150:耐水地板。具体实施方式下面，参照附图，对本专利技术的实施方式进行详细的说明。 图1A 图1H是表示应用本实施方式的圆盘状基板(盘式基板)的 制造工序的图。在该制造工序中，首先，在如图1A所示的一次研磨工序中，将圆盘 状基板(工件)10的原材料载置于平台21上，对圆盘状基板10的平面 11进行磨削。此时，在载置有圆盘状基板10的平台21的表面上，分散地嵌入有例如金刚石的磨粒。接着，在图1B所示的内外周磨削工序中，利用内周磨石22对在圆盘状基板10的中心开设有的开孔(hole)的内周12进行磨削，利用外周 磨石23对圆盘状基板10的外周13进行磨削。更具体而言， 一边向切削 部分供给由例如碱溶液构成的冷却液， 一边利用内周磨石22和外周磨石 23在圆盘状基板10的半径方向夹着圆盘状基板10的内周12的面(内周 面)和外周13的面(外周面)同时进行加工。通过同时磨削内周12和 外周13，从而容易确保内径与外径的同轴度(同心度)。此后，在图1C所示的外周研磨工序中，在供给浆液(研磨液)的同 时使用外周研磨用刷24对圆盘状基板10的外周13进行研磨。虽然未图 示，但是在该外周研磨工序中，例如通过将层叠圆盘状基板10的两组层 叠工件安装在研磨作业区域中的两个安装部上，并使两个外周研磨用刷 24与两组层叠工件接触来进行研磨作业。另外，在该研磨作业中，作为 外周研磨用刷24，例如使用由含有氧化铝(矾土)磨粒的尼龙(注册商 标)树脂构成的含有磨粒的刷子和由不含磨粒的普通尼龙树脂构成的刷 子这两种外周研磨用刷24来执行多个研磨工序。然后，在图1D所示的二次研磨工序中，将圆盘状基板10载置于平 台21上，进一步对圆盘状基板10的平面11进行磨削。接着，在图1E所示的内周研磨工序中，将刷子25插入圆盘状基板 IO中心的开孔中，对圆盘状基板10的内周12进行研磨。此后，在如图1F所示的一次抛光工序中，将圆盘状基板10载置于 平台27上，磨削圆盘状基板10的平面11。在此时的研磨中将例如无纺 布(研磨布)用作硬质抛光器。进而，在图1G所示的二次抛光工序中，进行使用了软质抛光器的平 面研磨。此后，在图1H所示的最终清洗、检査工序中进行清洗和检查，从而 制造出圆盘状基板(盘式基板)10。图2和图3是用于说明在应用了本实施方式的除尘环境下制造圆盘 状基板的制造方法的图。图2示出了应用本实施方式的除尘环境100，图3A、图3B示出了除尘环境100的多孔地板(上侧地板面)130和耐水地 板(下侧地板面)150。在图2所示的除尘环境100中，配置有例如图1B本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种圆盘状基板的制造方法，其特征在于，在利用磨削装置对圆盘状基板进行磨削的工序中从上方朝下方产生气流，地板具有上侧地板面和下侧地板面，该上侧地板面由开设有贯通孔的板以及网状部件中的任一种构成，该下侧地板面将所述上侧地板面支撑在向上离开的位置上，在所述地板的所述上侧地板面上设置所述磨削装置，并在该下侧地板面上配置水，借助于所述气流将所述磨削装置产生的粉尘导入所述水中。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：羽根田和幸，藤波聪，城之内武，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，西铁城精密株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[]