碳薄膜、光学元件成形用模具及光学元件的制造方法技术

技术编号:8658772 阅读:159 留言:0更新日期:2013-05-02 03:30
本发明专利技术是关于碳薄膜、光学元件成形用模具及光学元件的制造方法。ta-C薄膜(1A)是在基材(10)上依序层叠第1单位构造(11)及第2单位构造(12)而形成。所述第1单位构造(11),是在第1层(11a)及第2层(11b)中sp3键的含量互不相同,且在第2层(11b)及第3层(11c)中sp3键的含量互不相同。所述第2单位构造(12),是在第1层(12a)及第2层(12b)中sp3键的含量互不相同,且在第2层(12b)及第3层(12c)中sp3键的含量互不相同。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用以保护基材的由正四面体非晶碳(Tetrahedral AmorphousCarbon, ta_C)所构成的碳薄膜、表面具备所述碳薄膜的光学元件成形用模具、以及使用所述光学元件成形用模具的光学元件的制造方法。本申请案基于2010年11月9日申请的日本特愿2010-250679号而主张优选权,并在本文引用其内容。
技术介绍
作为保护模具或钻孔器等基材的膜,付诸实际使用有由正四面体非晶碳所构成的碳薄膜(以下,简记为ta-C薄膜)。而且,作为ta-C薄膜的成膜方法,主要应用有包括以电弧离子镀敷(arc ionplating, AIP)为代表的利用对基材施加的偏置电压使碳离子堆积在基材上的离子镀敷的方法。根据该成膜法,作为ta-C薄膜内部的碳原子彼此的键,可大量含有形成金刚石的碳原子彼此的键即SP3键,因此可使ta-C薄膜为非常硬(硬度较高)的膜。在这种含有Sp3键的ta-C薄膜中,一旦于较狭小的区域内进行观察则碳原子彼此形成有Sp3键的牢固的网(network),但一旦于较广大的区域内进行观察则形成为无秩序的非晶质(amorphous)构造,因此整体表面较由具有秩序的构本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.11.09 JP 2010-2506791.一种碳薄膜,是由正四面体非晶碳所构成,其特征在于: 在膜厚方向具备多个由三层以上SP3键的含量在相邻层中互不相同的层层叠而成的单位构造(但排除由SP3键的含量不同的两层交互层叠的情况)。2.根据权利要求1所述的碳薄膜,其中, 在所有的所述单位构造中,依序层叠有SP3键的含量小于65%的第I层、65%以上且小于75%的第2层、以及75%以上的第3层。3.根据权利要求1所述的碳薄膜,其中, 在所有的所述单位构造中,依序层叠有SP3...

【专利技术属性】
技术研发人员:岩堀恒一郎
申请(专利权)人:株式会社尼康
类型:
国别省市:

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